【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻
，特别是一种光刻照明系统。
技术介绍
随着微电子产业的迅猛发展，极大规模集成电路的加工设备一高端扫描光刻机的研制成为迫切的需求。照明系统可以为光刻机提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明，从而提高光刻分辨率和增大焦深，是光刻机的重要组成部分。因此照明系统的性能直接影响着光刻机的性能。先技术[1](参见Mark Oskotsky, Lev Ryzhikov 等 Advanced illuminationsystem for use in microlithography, US Patent 7187430 B2, 2007)和先技术[2](参见Jorg Zimmermann, Paul Graupner 等 Generation of arbitrary freeform source shapesusingadvanced illumination systems in high-NA immersion scanners, Proc.0f SPIEVol.7640, 764005, 2010)都对一般光刻照明系统进行了描述...
【技术保护点】
一种光刻照明系统，包括激光光源（1）、准直扩束单元（2）、光瞳整形单元（3）、第一微透镜阵列（4）、第二微透镜阵列（5）、聚光镜组（6）、、掩膜（9）、其特征在于还有微扫描狭缝阵列（7）、运动控制单元（10）和微积分棒阵列（11），上述元部件的位置关系是：激光光源(1)出射的激光束依次经过所述的准直扩束单元(2)、光瞳整形单元(3)、第一微透镜阵列(4)、微积分棒阵列(11)、微扫描狭缝阵列(7)、第二微透镜阵列(5)、聚光镜组(6)后照射到掩膜9上；所述的运动控制单元（10）与所述的微扫描狭缝阵列（7）相连，控制所述的微扫描狭缝阵列（7）的移动速度与行程，扫描相应的光场；...
【技术特征摘要】
1.一种光刻照明系统，包括激光光源(I)、准直扩束单兀(2)、光瞳整形单兀(3)、第一微透镜阵列(4)、第二微透镜阵列(5)、聚光镜组(6)、、掩膜(9)、其特征在于还有微扫描狭缝阵列(7)、运动控制单元(10)和微积分棒阵列(11)，上述元部件的位置关系是:激光光源(I)出射的激光束依次经过所述的准直扩束单元(2)、光瞳整形单元(3)、第一微透镜阵列(4)、微积分棒阵列(11)、微扫描狭缝阵列(7)、第二微透镜阵列(5)、聚光镜组(6)后照射到掩膜9上；所述的运动控制单元(10)与所述的微扫描狭缝阵列(7)相连，控制所述的微扫描狭缝阵列(7)的移动速度与行程，扫描相应的光场；所述的第一微透镜阵列(4)处于所述的光瞳整形单元(3)的出瞳面；所述的微积分棒阵列(11)的入射端面位于第一微透镜阵列(4)的后焦面；微积分棒阵列(11)的出射端面处于第二微透镜阵列(5)的前焦面；第二微透镜阵列(5)的后焦面与掩膜(9)的位置相对于所述的聚光镜组(6)共轭，所述的第一微透镜阵列(4)由多个完全相同的第一微透镜(41)组成，所述的第二微透镜阵列(5)由多个完全相同的第二微透镜(51)组成，所述的微积分棒阵列(11)由多个完全相同的微积分棒(111)组成，所述的第一微透镜(41)、所述的微积分棒(111)和所述的第二微透镜(51)—一对应。2.根据权利要求1所述的光刻照明系统，其特征在于所述的第一微透镜阵列(4)的第一微透镜(41)之间紧密相连，所述的第一微透镜为柱面镜或球面镜。3.根据权利要求1所述的光刻照明系统，其特征在于所述的第二微透镜(51)之间需紧密相连，第二微透...
【专利技术属性】
技术研发人员：曾爱军，朱玲琳，方瑞芳，黄惠杰，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：
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