光束位置和角度的调节装置制造方法及图纸

一种用于光刻机曝光系统的光束位置和角度的调节装置，其特点在于该装置由沿光束前进方向依次的普通透镜、双焦镜、图像传感器和计算机构成，所述的普通透镜和所述的双焦镜的长焦距共焦点，所述的图像传感器感光面位于所述的双焦镜的后焦面，所述的图像传感器的中心在系统光轴上，所述的图像传感器的输出端与所述的计算机的输入端相连。本发明专利技术装置不仅能够实现光束位置和角度的精确调节，而且结构简单、成本低。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光束对准领域，是一种用于光刻机曝光系统的光束位置和角度的调节>J-U装直。
技术介绍
光学系统(尤其是大型的、复杂的光学系统)极易受到使用环境中各种动态干扰的影响，环境温度变化、大气湍流、灰尘烟雾以及各种原因引起的机械振动，都会不同程度地影响光学系统的性能，甚至导致系统无法正常工作，因此，在精密光学设备的研制过程中需要高精度的光束位置和角度的调节机构。以光刻机为例,在光刻机曝光系统中，存在多种因素可能导致激光器出射光束偏离预定的位置和角度:①激光器的输出光束自身存在位置和角度的偏移激光器与光刻机照明系统底部模块处于不同的基底上，这两个基底的震动特性存在显著差异易导致光束位置和角度的偏移；③从激光器光束出射口至光刻机照明系统底部模块的最长传输距离为20m，光束在传输过程中极易受到扰动而偏离预定的位置和角度。所以，有必要对进入底部模块的光束的位置和角度进行纠正，从而使照明系统具有调节的光强分布。光束位置和角度的调节装置是光刻机不可缺少的一部分，主要功能是探测光束角度及位置的偏移量，然后对光束进行准实时的伺服控制，将激光器出射光束调节在需要的方向和位置。基本的几何常识本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于光刻机曝光系统的光束位置和角度的调节装置，其特征在于该装置由沿光束前进方向的普通透镜（01）、双焦镜（02）、图像传感器（03）和计算机（04）构成，所述的普通透镜（01）和所述的双焦镜（02）的长焦距共焦点，所述的图像传感器（03）感光面位于所述的双焦镜的后焦面，所述的图像传感器（03）的输出端与所述的计算机（04）的输入端相连。

【技术特征摘要】
1.一种用于光刻机曝光系统的光束位置和角度的调节装置，其特征在于该装置由沿光束前进方向的普通透镜(01)、双焦镜(02)、图像传感器(03)和计算机(04)构成，所述的普通透镜(01)和所述的双焦镜(02)的长焦距共焦点，所述的图...

【专利技术属性】
技术研发人员：张善华，曾爱军，袁乔，黄立华，任冰强，黄惠杰，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：