【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及透镜热效应测量领域，尤其涉及光刻机投影物镜的透镜热效应测量。
技术介绍
透镜热效应是指透镜受热产生形变而导致成像质量改变的现象。在投影式光刻机设计中，长时间量产导致的透镜热效应不可忽视，垂向的热效应会导致倍率，畸变等像质发生改变；而轴向热效应会导致焦面，场曲等像质发生改变，这些改变都会影响到线宽一致性CDU和套刻精度等关键指标。因此，光刻机的软件系统需要设计有校正热效应的机制，这种机制需要预先测量并标定像质随加热时间改变的关系，这种关系一般用如下双指数模型来描述: 加热过程:
【技术保护点】
一种测试标记，其特征在于，所述测试标记为正方形；所述测试标记中心为透光方孔，由中心向外依次为具有一定宽度的方框；从所述透光方孔至最外侧方框，透光区和非透光区交替；从最外侧透光方框至所述透光方孔，所述透光区面积逐渐增大。
【技术特征摘要】
1.一种测试标记，其特征在于， 所述测试标记为正方形； 所述测试标记中心为透光方孔，由中心向外依次为具有一定宽度的方框； 从所述透光方孔至最外侧方框，透光区和非透光区交替； 从最外侧透光方框至所述透光方孔，所述透光区面积逐渐增大。2.根据权利要求1所述的测试标记，其特征在于，所述透光方孔的面积不低于所述测试标记面积的四分之一。3.根据权利要求1所述的测试标记，其特征在于，所述最外侧透光方框的尺寸与光刻机分辨率相近。4.根据权利要求1所述的测试标记，其特征在于，从所述最外侧透光方框至所述透光方孔，所述透光区面积成等比增大。5.根据权利要求1所述的测试标记，其特征在于，多个所述测试标记在掩模上呈矩阵阵列分布，用于测量场曲和像散的热效应。6.一种使用权利要求1所述测试标记的光刻机透镜热效应测量方法，所述测试标记位于掩模上，所述测试标记通过光束照射经由投影物镜在工件台上形成测试标记像，光强传感器用于探测所述测试标记像处的光强，包括以下步骤: 对所述光强与所述投影物镜焦面漂移的关系进行预标定； 进行热效应测量，包括在所述透镜加热或者冷却过程中，在需要进行焦面数据采集的时刻，所述光强传感器对所述光强进行采样，直至测量结束； 确定所述热效应测量中...
【专利技术属性】
技术研发人员：宋平，赵健，冯盛，马明英，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：
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