用于印刷具有大焦深的周期图案的方法和设备技术

一种用于向光敏层中印刷所需图案的方法包括：提供承载与第一方向平行的线性特征的图案的掩模；布置与所述掩模平行并且从所述掩模分离的层；生成基本上单色光并且在基本上在与所述第一方向平行的平面中的角度范围上用所述光照射掩模图案，由此掩模透射的每个照射角度的光形成在Talbot平面之间的横向强度分布的范围并且在层处形成光场分量，并且所述分量的叠加印刷所需图案，其中相对于波长、间隔和周期选择角度的范围，使得所述分量的叠加基本上等同于光以角度之一形成的横向强度分布范围的平均。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术主要地涉及如运用于制作微(miciO-)和纳米结构的光刻领域，并且它特别地涉及如运用于向衬底上的光敏层上传送掩模中定义的特征的周期图案的Talbot成像领域，并且更特别地涉及在一个维度中是周期性的图案的印刷。
技术介绍
平版印刷(lithographic)制作实现表面上的微和纳米图案的形成。光刻(photolithographic)技术通过将光敏表面暴露于具有与所需图案对应的强度分布的光场来实现这一点。光敏表面通常是感光胶片的薄层，诸如光刻胶(photoresist),向衬底上直接或者在其他材料或者结构化的材料的中间层上间接涂覆该薄层。在光刻胶中出现的化学或者物理改变在后续工艺中用来在衬底的材料中或者在衬底上的另一材料的层中获得所需图案。在最常用的光刻技术中，使用光学系统向衬底表面上投影在掩模中初始定义的图案的图像。许多应用需要高分辨率栅图案的形成，这些栅图案包括在一个方向上用亚微米周期(sub-micron period)重复的平行线和间隔。这样的应用的例子是光栅偏振器(gratingpolarizer)、用于生物医学传感器的稱合光栅和用于太阳能电池的陷光光栅。基于Ta本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.07.07 US 12/831,3371.一种用于向衬底上形成的光敏层中印刷线性特征的所需周期性图案的方法，该方法包括: a)提供掩模，所述掩模承载具有周期的与第一方向平行的线性特征的掩模图案，所述周期是所需图案的周期的两倍； b)与所述掩模基本上平行地并且用距所述掩模图案的间隔布置所述光敏层； c)以波长生 成基本上单色光；并且 d)在基本上在与所述第一方向平行的第一平面中的角度范围上用所述光照射所述掩模图案，由此所述掩模透射的在每个照射角度的光形成在Talbot平面之间的横向强度分布范围并且在所述光敏层处形成光场分量，并且所述分量的叠加印刷所述所需图案； 其中相对于所述波长、所述间隔和所述周期选择所述角度范围，使得所述分量的叠加基本上等同于光在所述照射角度之一形成的所述横向强度分布范围的平均。2.根据权利要求1所述的方法，其中光以所述范围上的每个角度同时照射所述掩模图案的每个特征。3.根据权利要求1所述的方法，其中光以所述范围上的每个角度依次照射所述掩模图案的每个特征。4.根据权利要求1所述的方法，其中同时照射所述掩模图案的所述特征。5.根据权利要求1所述的方法，其中依次照射所述掩模图案的所述特征。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述光在所述角度范围上具有平滑或者急剧变化的强度分布。7.根据权利要求1所述的方法，其中所述光在所述角度范围上具有基本上均匀或者基本上高斯的强度分布。8.根据权利要求1所述的方法，其中所述角度范围具有在范围10°至60°中的平均角度。9.根据权利要求8所述的方法，其中所述角度范围的角度带宽是所述平均角度至少二分之一。10.根据权利要求1所述的方法，其中使用分析公式、计算机仿真和实验优化中的至少一种来选择所述角度范围。11.根据权利要求1所述的方法，其中所述掩模中的所述线性特征包括不透明材料和相移材料中的至少一种材料的线。12.根据权利要求1所述的方法，其中所述掩模中的所述线性特征包括透射材料的线，所述线的厚度跨越所述特征变化。13.根据权利要求1所述的方法，其中所述掩模图案的每个周期有至少两个线性特征。14.根据权利要求1所述的方法，其中线性特征的所需图案的周期和线性特征的掩模图...

【专利技术属性】
技术研发人员：F克卢贝，C戴斯，H索拉克，
申请(专利权)人：尤利塔股份公司，
类型：
国别省市：