用于印刷高分辨率二维周期性图案的方法和装置制造方法及图纸

技术编号:9281212 阅读:111 留言:0更新日期:2013-10-25 00:57
一种用于将具有第一对称和第一周期的周期性图案印刷到光敏层中的方法,包括:提供承载至少两个重叠子图案的图案的掩模,所述至少两个重叠子图案具有第二对称和第二周期,每个子图案的特征被形成在透射材料中;提供承载该层的衬底;将所述掩模布置为与所述衬底具有间隔;提供具有用于照射掩模的中心波长的光,以生成光场,在所述光场中,所述中心波长的光形成塔尔博特平面之间的强度分布的范围;在维持所述间隔或将所述间隔改变距离的同时,利用所述光来照射所述掩模图案,从而将所述光敏层曝光于强度分布的范围的平均,其中,由每个子图案透射的光在相位上相对于由另一子图案透射的光偏移。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:HH索拉克F克卢贝
申请(专利权)人:尤利塔股份公司
类型:
国别省市:

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