光刻系统和在该光刻系统中处理基板的方法技术方案

本发明专利技术关于一种包括多个光刻系统单元的光刻系统(300)。每一个光刻系统单元都包括：光刻设备(301)，其被排列在真空腔室中，用以图案化基板；装载锁定系统(310)，用以将基板传输至该真空腔室里面和外面；以及出入口，用以达到进入该真空腔室以进行维修的目的。每一个光刻系统单元的装载锁定系统与出入口会被提供在相同侧并且面向该光刻系统某一侧的自由区，明确地说，面向维修区(305)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：G德波尔，HJ德琼，VS凯珀，E斯洛特，
申请(专利权)人：迈普尔平版印刷IP有限公司，
类型：
国别省市：