一种光学塑料基板镀膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种光学塑料基板镀膜装置，包括置于真空炉内的镀膜伞具、蒸发源和导电棒，所述镀膜伞具设有侧板和伞面，所述侧板和伞面用于放置待镀膜基板，所述蒸发源设置在镀膜伞具内，所述导电棒设置在基板与蒸发源之间，所述导电棒与基板表面夹角为0～5°，所述导电棒与基板距离20～40cm，所述导电棒连接1.2～1.5kV电源。该镀膜装置使塑料基板镀膜可以不使用IAD工艺得到良好的牢固度。

【技术实现步骤摘要】
一种光学塑料基板镀膜装置
本专利技术涉及一种镀膜装置，特别是涉及一种用于蒸镀光学塑料基板的镀膜装置。
技术介绍
光学塑料是指用作光学介质材料的塑料。主要用在光学仪器中，用于制造光学基板、透镜、隐形眼镜、有机光导纤维等。已获得应用的光学塑料主要有PMMA、PET、PC、PS等。未来塑料基板可取代玻璃基板成为次世代显示器材料，因为塑料基板拥有较玻璃基板之轻、薄、耐冲击、可卷曲等优势，可应用于许多可携式及穿戴式显示装置，以提高使用寿命并增加使用范围。目前塑料基板镀膜在光电产业作为性能优异的透明材料可应用于触控式面板屏幕、液晶显示面板(LCDpanel)、有机发光二极管(OLED)、电子书(e-book)、偏光板、光储存、各种灯具、照明器材、光导纤维等领域。在大气环境下，塑料基材比玻璃基板容易吸附水气，因此在镀膜过程中会因真空环境及受热的关系而有释气的现象。释气会造成镀膜时成膜不稳定，使得镀膜制程参数不易控制，而且也会影响成膜的牢固度。目前，一般常规使用真空蒸镀法进行成膜都会使用IAD辅助低温真空蒸镀工艺来提高膜层与基板间的结合率，这样的工艺生产设备成本较高，生产效率也不是很高。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种光学塑料基板镀膜装置，解决塑料基板蒸镀后膜层牢固度较差，易起泡剥离的问题。本专利技术的技术方案是这样的：一种光学塑料基板镀膜装置，包括置于真空炉内的镀膜伞具、蒸发源和导电棒，所述镀膜伞具设有侧板和伞面，所述侧板和伞面用于放置待镀膜基板，所述蒸发源设置在镀膜伞具内，所述导电棒设置在基板与蒸发源之间，所述导电棒与基板表面夹角为0～5°，所述导电棒与基板距离20～40cm，所述导电棒连接1.2～1.5kV电源。优选的，所述侧板与水平面夹角为70～85°，所述基板设置在侧板上，所述导电棒与基板距离25～40cm。优选的，所述伞面与水平面夹角为10～25°，所述基板设置在伞面上，所述导电棒与基板距离20～30cm。优选的，所述导电棒长度为0.6～1.0m，直径10cm。优选的，所述导电棒为无氧铜材料。本专利技术所提供的技术方案的优点在于，可以采用低于80℃的加热温度进行镀膜，生产效率高能耗低；在蒸镀前，导电棒接通高压电，产生放电效应，通过释放出的高能粒子对塑料基板表面进行轰击处理，通过调整放电时间可以控制膜层与基板的牢固度；无论是采用放置于侧板的倾斜式蒸镀还是采用放置于伞面的垂直式蒸镀都能不使用IAD工艺而得到良好牢固度。附图说明图1为塑料基板置于侧板镀膜时结构示意图。图2为塑料基板置于伞面镀膜时结构示意图。具体实施方式下面结合实施例对本专利技术作进一步说明，但不作为对本专利技术的限定。请参见图1，本实施方式的倾斜式光学塑料基板镀膜装置，包括置于真空炉内的镀膜伞具、蒸发源和导电棒，镀膜伞具设有侧板和伞面，待镀膜基板放置在侧板上。侧板与水平夹角为70～85°，蒸发源设置在镀膜伞具内的下部。导电棒为直径10cm，长度为1.0m的无氧铜棒材。导电棒分成左右两根固定设置在塑料基板与蒸发源之间。导电棒与塑料基板表面夹角为0～5°尽量处理为平行，导电棒与基板距离25～40cm，导电棒连接1.2～1.5kV电源。请参见图2，本专利技术的另一个实施方式的垂直式光学塑料基板镀膜装置，包括置于真空炉内的镀膜伞具、蒸发源和导电棒，镀膜伞具设有侧板和伞面，待镀膜基板放置在伞面上。伞面与水平夹角为10～25°蒸发源设置在镀膜伞具内的下部，导电棒为直径10cm，长度为1.0m的无氧铜棒材。导电棒分成左右两根固定设置在塑料基板与蒸发源之间。导电棒与塑料基板表面夹角为0～5°尽量处理为平行，导电棒与基板距离20～30cm，导电棒连接1.2～1.5kV电源。采用上述两个实施方式以不同参数进行镀膜，具体的，在蒸镀前，先将导电棒接通高压电，产生放电效应，通过释放出的高能粒子对蒸镀基板表面进行轰击处理，调整放电时间。不同实施方式不同参数取得的镀膜果如下表所示本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学塑料基板镀膜装置，包括置于真空炉内的镀膜伞具(1)和蒸发源(2)，所述镀膜伞具(1)设有侧板(1b)和伞面(1a)，所述侧板(1b)和伞面(1a)用于放置待镀膜基板(3)，所述蒸发源(2)设置在镀膜伞具(1)内，其特征在于，包括导电棒(4)，所述导电棒(4)设置在基板(3)与蒸发源(2)之间，所述导电棒(4)与基板(3)表面夹角为0～5°，所述导电棒(4)与基板(3)距离20～40cm，所述导电棒(4)连接1.2～1.5kV电源(5)。

【技术特征摘要】
1.一种光学塑料基板镀膜装置，包括置于真空炉内的镀膜伞具(1)和蒸发源(2)，所述镀膜伞具(1)设有侧板(1b)和伞面(1a)，所述侧板(1b)和伞面(1a)用于放置待镀膜基板(3)，所述蒸发源(2)设置在镀膜伞具(1)内，其特征在于，包括导电棒(4)，所述导电棒(4)设置在基板(3)与蒸发源(2)之间，所述导电棒(4)与基板(3)表面夹角为0～5°，所述导电棒(4)与基板(3)距离20～40cm，所述导电棒(4)连接1.2～1.5kV电源(5)。2.根据权利要求1所述的光学塑料基板...

【专利技术属性】
技术研发人员：龚裕，范辛，
申请(专利权)人：京浜光学制品常熟有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32