一种低折射率光学镀膜材料制造技术

本发明专利技术公开了一种低折射率光学镀膜材料，所述光学镀膜材料由二氧化硅和其它添加物二氧化锆组成，其中，二氧化硅50‑99.5wt％，二氧化锆：0.5‑50wt％。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种低折射率光学镀膜材料，属于光学镀膜材料领域。
技术介绍
在光学镀膜领域，二氧化硅是最常用的低折射率光学镀膜材料，但随着技术和应用的发展，常用的单纯二氧化硅低折射率光学镀膜材料不能满足市场更高的要求，比如手机面板、触摸屏等的表面容易划伤。由于防指纹材料必须要以二氧化硅材料作为基底，为了满足象手机面板、触摸屏等产品使用中表面不易划伤，又能满足防指纹材料的防油污要求，我们特专利技术了以二氧化硅和二氧化锆混合物为原料的低折射率光学镀膜材料。
技术实现思路
针对现有的低折射率光学镀膜材料二氧化硅在实际生产中性能的不足，本专利技术的目的在于提供一种优良的低折射率光学镀膜材料。为了实现上述目的，本专利技术采取的技术方案是：一种低折射率光学镀膜材料，所述光学镀膜材料由二氧化硅和二氧化锆组成，其中，二氧化硅：50-99.5wt％，二氧化锆：0.5-50wt％。所述光学镀膜材料的烧结温度为900℃以上，优选1200－1650℃之间。所述光学镀膜材料也可以是二种混合料的熔融料，该混合物熔融温度为
1800℃。所述光学镀膜材料可用于手机玻璃面板,触摸屏及其它光学元件。由于手机本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述光学镀膜材料由二氧化硅和二氧化锆两种材料混合组成。

【技术特征摘要】
1.一种低折射率光学镀膜材料，其特征在于：所述光学镀膜材料由二氧化硅和二氧化锆两种材料混合组成。2.根据权利要求1所述的光学镀膜材料，其特征在于：所述光学镀膜材料的原料组成为，二氧化硅：50-99.5wt％，二氧化锆：0.5-50wt％。3.根据权利要求1或2所述的光学镀膜材料，其特征在于：所述光学镀膜材料...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦海波，
申请(专利权)人：北京富兴凯永兴光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11