本发明专利技术提供一种光学材料用永久膜的制造方法、硬化膜、有机EL显示装置及液晶显示装置，所述光学材料用永久膜的制造方法是对感光性树脂组合物进行曝光而使曝光部硬化，其后将非曝光部除去，将残余的硬化膜作为永久膜的光学材料用永久膜的制造方法，其中，感光性树脂组合物含有(A)聚合性单体、(B)光聚合引发剂、(C)碱可溶性树脂以及(D)溶剂，隔着移相部中的透射率为0.1％以上、20％以下的半色调相位差掩模对感光性树脂组合物照射选自g射线、h射线及i射线中的活性放射线，对树脂进行曝光。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术设及一种光学材料用永久膜的制造方法、由其制作的硬化膜、使用其的有 机电致发光巧lectroluminescence，EL)显示装置及液晶显示装置。
技术介绍
自亮度提高、电力消耗减低等观点考虑，在有机化显示装置或液晶显示装置等中 设有层间绝缘膜。自用W获得必需的图案形状的步骤数少、且获得充分的平坦性考虑，在该 层间绝缘膜的形成中使用感光性树脂组合物。 对于使用如上所述的感光性树脂组合物而形成有图案的层间绝缘膜，要求其相对 介电常数低。而且，近年来，为了有效率地制造有机化显示装置或液晶显示装置，要求感 光性树脂组合物的高感度化。作为对应此种需求的材料，提出了可形成相对介电常数低的 层间绝缘膜的在主粘合剂中导入有（氣化）姪基的正型感光性树脂组合物（参照专利文献 1)。而且，作为高感度的正型感光性树脂组合物，例如开发了具有缩醒结构的粘合剂（参照 专利文献2)。 日本专利特开平10-026829号公报 日本专利特开2011-221494号公报 日本专利特开2000-031001号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题 然而，并非如上所述的光学产品在半导体元件的制造中，随着其配线等的微细化， 提出了各种各样的加工法。最近，除了微细化W外进一步进行了用W使品质良化的技术开 发。其中，关于光刻法，作为已实现实用化的，列举了利用半色调掩模的技术。 图3是用W说明使用半色调掩模的曝光原理的说明图。如同图所示，在典型的半 色调掩模30中设有移相部（相位变更膜）31，其对于透光性的透明基材32而言，对透射光 的一部分进行遮光。对该相位变更膜31赋予使所照射的光L3的相位反转的性质。此处，若 假定相位变更膜31为完全的遮光性，则光L3W大约图3中的曝光强度曲线34的曝光强度 对被加工基板照射光。此处，曝光强度曲线34并非为矩形而成为正弦曲线。其原因在于： 透过开口部S的光并非完全的直线光，而W相应的宽度扩散，在明暗的边界产生模糊。另一 方面，若尝试仅仅使透过相位变更膜31的光的成分出射，则可如曝光强度曲线35那样进行 表示。辅助线k表示光的相位在上下反转。分解为所述2个成分的光（曝光强度曲线34、 曝光强度曲线35)处于相反相位，因此在照射位置一致的区域中，所述光的强度被消除。其 结果变得可进行在明暗的边界具有更锐利的曝光强度曲线33的分布的曝光。由此可知： 根据半色调掩模，变得可对感光材料进行与开口部S更加一致的并无明暗模糊的曝光。根 据此种作用原理，出于使微细的电路配线的品质提高的目的而应用于该感光材料的曝光中 (例如参照上述专利文献3)。 研究了将该利用半色调掩模的曝光技术应用于上述光学材料中的层间绝缘膜的 形成中。此处所应用的感光性树脂与在制造过程中除去的半导体制造的抗蚀剂不同，要求 成为永久膜。目P，在对感光性树脂进行曝光后，并不通过蚀刻将其除去，必须直接残留于器 件的内部，根据机器的寿命而长期地维持其绝缘性等。因此，若仅仅转用适于半导体制造中 的半色调掩模的感光性树脂，难W说满足其要求。另一方面，即使是形成层间绝缘膜（永久 膜）的感光性树脂，也未知在如上述专利文献1、专利文献2那样的通常的曝光技术中所应 用的技术是否仍然能在利用半色调掩模的曝光处理中显示良好的性能。 作为此种感光性树脂组合物，自其曝光硬化的精度的良好性考虑，采用正型的感 光性树脂组合物。因此，关于负型的感光性树脂的见解少，特别是对于利用半色调掩模的曝 光而言，显示何种举动尚且是未知的状况。 鉴于W上的状况，本专利技术的目的在于提供在上述利用半色调掩模的曝光中发挥出 改良的感光特性，可适宜地形成适于有机化显示装置或液晶显示装置的层间绝缘膜（永久 膜）的光学材料用永久膜的制造方法。 解决问题的技术手段 本专利技术的上述课题可通过W下的手段而解决。 一种光学材料用永久膜的制造方法，其是对感光性树脂组合物进行曝光而使 曝光部硬化，其后将非曝光部除去，将残余的硬化膜作为永久膜的光学材料用永久膜的制 造方法，其中[001引感光性树脂组合物含有（A)聚合性单体、炬）光聚合引发剂、（C)碱可溶性树脂W及做溶剂， 隔着移相部（phaseshifterpart)中的透射率为0. 1%W上、20%W下的半色调 相位差掩模对感光性树脂组合物照射选自g射线、h射线、及i射线中的活性放射线，对组 合物进行曝光。 凹根据山所述的光学材料用永久膜的制造方法，其中，对残余的硬化膜进行加 热而使其成为永久膜。 根据或所述的光学材料用永久膜的制造方法，其中，半色调相位差掩 模设有对透光性透明基材的透射光的一部分进行遮光的移相部，对移相部赋予使所照射的 光的相位反转的性质。[002引[句根据山~閒中任一项所述的光学材料用永久膜的制造方法，其中，似碱 可溶性树脂包含具有交联性基的结构单元。[002引 閒根据山~M中任一项所述的光学材料用永久膜的制造方法，其中，活性放 射线是将选自g射线、h射线、及i射线中的多种混合而成。 根据~中任一项所述的光学材料用永久膜的制造方法，其中，感光性 树脂组合物的曝光量为30mJ/cm2 W上、1，OOOmJ/cm2W下。根据山~中任一项所述的光学材料用永久膜的制造方法，其中，似碱 可溶性树脂含有具有駿基的结构单元。 閒根据山~中任一项所述的光学材料用永久膜的制造方法，其中，（A)聚 合性单体是具有己締性不饱和双键的化合物。 根据山~巧]中任一项所述的光学材料用永久膜的制造方法，其中，聚合性 单体W下述式（A)表示：[002引【主权项】1. 一种光学材料用永久膜的制造方法，其是对感光性树脂组合物进行曝光而使此曝光 部硬化，其后将非曝光部除去，将残余的硬化膜作为永久膜的光学材料用永久膜的制造方 法，其中， 所述感光性树脂组合物含有（A)聚合性单体、（B)光聚合引发剂、（C)碱可溶性树脂以 及⑶溶剂， 隔着移相部中的透射率为〇. 1%以上、20%以下的半色调相位差掩模对所述感光性树 脂组合物照射选自g射线、h射线、及i射线中的活性放射线，对所述感光性树脂组合物进 行曝光。2. 根据权利要求1所述的光学材料用永久膜的制造方法，其中对所述残余的硬化膜进 行加热而使其成为所述永久膜。3. 根据权利要求1或2所述的光学材料用永久膜的制造方法，其中所述半色调相位差 掩模设有对透光性透明基材的透射光的一部分进行遮光的移相部，对所述移相部赋予使所 照射的光的相位反转的性质。4. 根据权利要求1至3中任一项所述的光学材料用永久膜的制造方法，其中所述（C) 碱可溶性树脂包含具有交联性基的结构单元。5. 根据权利要求1至4中任一项所述的光学材料用永久膜的制造方法，其中所述活性 放射线是将选自g射线、h射线、以及i射线中的多种混合而成。6. 根据权利要求1至5中任一项所述的光学材料用永久膜的制造方法，其中所述感光 性树脂组合物的曝光量为30mJ/cm2以上、1，000mj/cm2以下。7. 根据权利要求1至6中任一项所述的光学材料用永久膜的制造方法，其中所述（C) 碱可溶性树脂含有具有羧基的结构单元。8. 根据权利要求1至7中任一项所述的光学材料用永久膜的制造方法，其中所述（A) 聚合性单体是具有乙烯性不饱和双键的化合物。9. 根据权利要求1至8中本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光学材料用永久膜的制造方法，其是对感光性树脂组合物进行曝光而使此曝光部硬化，其后将非曝光部除去，将残余的硬化膜作为永久膜的光学材料用永久膜的制造方法，其中，所述感光性树脂组合物含有(A)聚合性单体、(B)光聚合引发剂、(C)碱可溶性树脂以及(D)溶剂，隔着移相部中的透射率为0.1％以上、20％以下的半色调相位差掩模对所述感光性树脂组合物照射选自g射线、h射线、及i射线中的活性放射线，对所述感光性树脂组合物进行曝光。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：佐竹亮，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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