一种调焦调平系统中光斑水平位置调整机构及方法技术方案

本发明专利技术提供一种调焦调平系统中光斑水平位置调整机构，包括依次设置的光源、投影单元及接收单元，所述投影单元或接收单元中设有电光偏转器，所述光源发出的光束经过投影单元投射成像到待测硅片上后，由所述接收单元接收经硅片反射后光束的成像信息，并通过控制所述电光偏转器的电压来调整光束穿过所述电光偏转器后的偏转角，从而校正成像光斑在像面上的位置。另，本发明专利技术还提供一种调焦调平系统中光斑水平位置调整方法。本发明专利技术采用楔形棱镜偏转器的电光偏转技术，具有调整速度快、精度及稳定性较高、结构相对简单的优点，对有限空间更有利。

【技术实现步骤摘要】
一种调焦调平系统中光斑水平位置调整机构及方法
本专利技术涉及光刻设备
，尤其是涉及一种调焦调平系统中光斑水平位置调整机构及方法。
技术介绍
随着半导体技术的发展，光刻技术作为一种精密的微细加工技术，其传递图形的尺寸限度缩小了2～3个数量级(从毫米级到亚微米级)，已从常规光学技术发展到应用电子束、X射线、微离子束、激光等新技术。在光刻设备装机调试时，主要通过调焦调平光学系统测量硅片位置信息，然后把位置信息反馈给工件台，从而根据信息控制硅片的位置，使硅片与投影物镜的焦面重合。随着光刻设备的精度越来越高，要求调焦调平光学系统的测量光斑越来越小，对于多个狭缝，光斑与狭缝的匹配更为困难，而光斑与狭缝的匹配精度影响到最后的测量精度，因此，光斑的匹配直接影响到光刻设备的精度。当光斑个数比较多的情况下，光机装调中，由于公差的存在，光斑像的实际位置与理论位置有一定的偏差，必须有一种可以校正光斑像位置的机构，现有的多光斑位置校正主要采用了手动旋转双光楔的方式(绕光轴旋转)来实现对光斑测量方向和非测量方向进行粗调，粗调完成后，再采用电机带动平板偏转方式实现对光斑测量方向和非测量方向进行微调。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种调焦调平系统中光斑水平位置调整机构，包括依次设置的光源、投影单元及接收单元，其特征在于：所述投影单元或接收单元中设有电光偏转器，所述光源发出的光束经过投影单元投射成像到待测硅片上后，由所述接收单元接收经硅片反射后光束的成像信息，并通过控制所述电光偏转器的电压来调整光束穿过所述电光偏转器后的偏转角，从而校正成像光斑在像面上的位置。

【技术特征摘要】
1.一种调焦调平系统中光斑水平位置调整机构，包括依次设置的光源、投影单元及接收单元，其特征在于：所述投影单元或接收单元中设有电光偏转器，所述光源发出的光束经过投影单元投射成像到待测硅片上后，由所述接收单元接收经硅片反射后光束的成像信息，并通过控制所述电光偏转器的电压来调整光束穿过所述电光偏转器后的偏转角，从而校正成像光斑在像面上的位置，所述电光偏转器为串联的多个楔形棱镜偏转器，通过调整所述多个楔形棱镜偏转器之间的相对位置，进行上述偏转角的调整。2.根据权利要求1所述的调焦调平系统中光斑水平位置调整机构，其特征在于：所述投影单元包括依次设置的投影光阑及第一会聚透镜组，所述光源发出的光束经过投影光阑的狭缝，并由第一会聚透镜组成像到硅片面上。3.根据权利要求1所述的调焦调平系统中光斑水平位置调整机构，其特征在于：所述接收单元包括第二会聚透镜组、第三会聚透镜组、偏振器、探测控制器及设于所述第二会聚透镜组、第三会聚透镜组之间的楔形棱镜偏转器，光束通过所述偏振器后由探测控制器接收，并通过探测控制器控制所述楔形棱镜偏转器的电压来调整光束穿过所述电光偏转器后的偏转角，从而校正成像光斑在像面上的位置。4.根据权利要求1所述的调焦调平系统中光斑水平位置调整机构，其特征在于：所述光源包括宽波段光源及准直透镜组，所述宽波段光源为半导体激光器。5.根据权利要求4所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢丽荣，李志丹，徐兵，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：