极紫外光刻复眼匀光离轴照明系统及实现离轴照明的方法技术方案

本发明专利技术提供一种EUVL复眼匀光离轴照明系统，包括等离子体光源、二次曲面反光碗、双排复眼以及中继镜组；其中所述双排复眼由视场复眼和光阑复眼组成，所述中继镜组由凸二次曲面反光镜和凹二次曲面反光镜组成；视场复眼由N个弧形复眼元密排组成，每一弧形复眼元反射面均为凹球面，且每一弧形复眼元对应的倾斜角可调；所述N个弧形复眼元排成n列，各列上弧形复眼元的个数由中间向两边递减，且所有弧形复眼元的朝向一致；光阑复眼由M个光阑复眼元密排组成，每一光阑复眼元均为一个方形平面反射镜，且每一光阑复眼元对应的倾斜角可调；所述M个光阑复眼元排布于一个近似圆形的区域内。本发明专利技术能够实现二极照明、四极照明和环形照明等多种离轴照明模式。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术提供了一种，属于光刻照明

技术介绍
极紫外光刻(EUVL)是以波长为If 14nm的极紫外(EUV)射线为曝光光源的光刻技术，适用于特征尺寸为32nm及更细线宽的集成电路的大批量生产。投影式光刻机的核心部件是投影曝光光学系统，该系统最重要的组成部分是照明系统和投影物镜系统。照明系统主要功能是为掩模面提供均匀照明、控制曝光剂量和实现离轴照明模式。作为光刻机重要组成部分的照明系统对提高整个光刻机性能至关重要，因此设计好照明系统是完成整个投影曝光系统的重要环节。离轴照明技术的发展，使得光刻投影系统能够在增大数值孔径(NA)的同时保证较大的焦深。离轴照明技术被认为是最有希望拓展光学光刻分辨力的技术之一，其照明方式包括四极照明、环形照明、二极照明等。目前在极紫外波段光刻照明系统中实现离轴照明的方法之一是在照明系统的孔径光阑处设置光瞳滤波器，这种方式导致能量损失严重；第二种方法是在光路中放置衍射光学元件(Diffraction Optical Element, DOE);第三种方法是利用自由曲面实现离轴照明；第四种方法则是利用电机控制双排复眼的位置以及各个小复眼元的相对位置本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种EUVL复眼匀光离轴照明系统，该系统包括等离子体光源、二次曲面反光碗、双排复眼以及中继镜组；其中所述双排复眼由视场复眼和光阑复眼组成，所述中继镜组由凸二次曲面反光镜和凹二次曲面反光镜组成；上述各元件沿光路方向的位置关系依次为：等离子体光源、二次曲面反光碗、视场复眼、光阑复眼、凸二次曲面反光镜、凹二次曲面反光镜；其特征在于，所述视场复眼由N个弧形复眼元密排组成，每一弧形复眼元反射面均为凹球面，且每一弧形复眼元对应的倾斜角可调；所述N个弧形复眼元排成n列，各列上弧形复眼元的个数由中间向两边递减，且所有弧形复眼元的朝向一致；所述光阑复眼由M个光阑复眼元密排组成，每一光阑复眼元均为一个方形平面反射...

【技术特征摘要】
1.一种EUVL复眼匀光离轴照明系统，该系统包括等离子体光源、二次曲面反光碗、双排复眼以及中继镜组；其中所述双排复眼由视场复眼和光阑复眼组成，所述中继镜组由凸二次曲面反光镜和凹二次曲面反光镜组成；上述各元件沿光路方向的位置关系依次为:等离子体光源、二次曲面反光碗、视场复眼、光阑复眼、凸二次曲面反光镜、凹二次曲面反光镜；其特征在于， 所述视场复眼由N个弧形复眼元密排组成，每一弧形复眼元反射面均为凹球面，且每一弧形复眼元对应的倾斜角可调；所述N个弧形复眼元排成η列，各列上弧形复眼元的个数由中间向两边递减，且所有弧形复眼元的朝向一致； 所述光阑复眼由M个光阑复眼元密排组成，每一光阑复眼元均为一个方形平面反射镜，且每一光阑复眼元对应的倾斜角可调；所述M个光阑复眼元排布于一个圆形的区域内；其中所述Μ>Ν。2.根据权利要求1所述EUVL复眼匀光离轴照明系统，其特征在于，令所述Ν=320，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李艳秋，梅秋丽，刘菲，
申请(专利权)人：北京理工大学，
类型：发明
国别省市：