【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光子晶体阵列结构,尤其是涉及一种基于多束光全息干涉术的制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统。
技术介绍
光子晶体的概念是由E.Yablonovitch和S.John两人于1987年首次独立提出的,它是一种介电常数(或者说折射率)在空间呈周期性变化的材料。众所周知,在半导体材料中原子排列的晶格结构产生的周期性电势场影响着在其中运动的电子的性质,使其形成能带结构。由于介电常数的周期性调制,电磁波在光子晶体中的传播可以用类似于电子在半导体中运动的能带结构来描述。具体表现为:一定频率的光波在光子晶体的特定方向上被散射,不能透过,形成光子禁带(或称光子带隙),频率落在光子禁带中的光波在一定方向上无法传播。这种具有光子禁带的周期性介电材料即为光子晶体或光子带隙材料。按介电常数的周期性变化及其出现的空间维度,光子晶体可分为一维、二维、三维光子晶体。其中三维光子晶体因其介电常数在三维方向呈周期性排列,因而是最容易实现完全光子禁带结构的(边超,明海,光子晶体的研究进展及应用前景[J],光电子技术与信息,2000,01.)。多束光全息干涉术常用来制造三维光子晶体结构 ...
【技术保护点】
制造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统,其特征在于从左至右依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;所述激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板设于同一光轴上,激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生4束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的中央出光口之后,4束光重叠干涉在光刻胶板上,在光刻胶板上对4束光重叠的干涉结构进行单次曝光,经过显影的流程即可得到拥有三维密排晶格阵列结构的光子晶体。
【技术特征摘要】
1.造三维密排光子晶体阵列结构的全息系统,其特征在于从左至右依次设有激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板;所述激光器、空间滤波器、全息光学元件、1/2波片和光刻胶板设于同一光轴上,激光器发出的激光经过空间滤波器的扩束后照射到全息光学元件上,经全息光学元件产生4束相干的干涉光束,1/2波片置于全息光学元件的中央出光口之后,4束光重叠干涉在光刻胶板上,在光刻胶板上对4...
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