【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种光刻方法，特别涉及一种。
技术介绍
具有台阶衬底的光刻工艺是一种比较常见的光刻工艺，通常在注入层比较多见，比如栅极形成以后的源漏注入；另外在具有多层膜的结构中形成不同台阶的图形也经常使用。和传统的平面光刻工艺相比，当台阶存在时，其边界成为一个反光面，导致光刻时的光强分布和普通的平面相比，沿垂直方向衰减很快，因此台阶底部无法得到有效的光强形成足够光酸，因此通常在台阶边缘的底部很容易形成光刻胶残留。图I为一个具有台阶 衬底的光刻示意图，其中图Ia中的Olc为台阶，相应于版图中有源区(即AA区)，10为光刻胶，版图中的NBL为N型埋层区域。曝光显影后形貌如图Ib所示，台阶底部有光刻胶残甶°为了解决台阶边缘底部的光刻胶残留的这个问题，业界通常使用三种方法I、放大光刻图形与台阶之间的距离；2、使用抗反射层以降低台阶处的光反射率；3、使用掺杂染料的光刻胶来增强光的吸收以降低对光强的需求。上述第一种方法，对器件面积影响很大，只适用于较大设计尺寸的器件。第二种方法则引入了额外的抗反射层，需要增加刻蚀抗反射层来打开图形窗口，以及光刻后的抗反射层去除工艺，制作流程...
【技术保护点】
一种具有台阶的衬底的光刻方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一，在衬底表面涂光刻胶，将曝光机的焦点设置在台阶底部位置，而后采用光刻掩膜版进行曝光；步骤二，在步骤一中的光刻胶上再涂一光刻胶层，之后将所述曝光机的焦点设置在所述光刻胶层表面，进行全面曝光；步骤三，对所述衬底进行加热处理，使形成的光酸扩散均匀，所述加热处理的温度小于所述光刻胶分解的温度；步骤四，对衬底进行显影，形成最终图形。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王雷，
申请(专利权)人：上海华虹NEC电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。