光学投影光刻机制造技术

本发明专利技术公开了一种光学投影光刻机，包括空间光调制器、分光系统、投影微缩镜头、对焦调节装置以及感光材料支撑系统，分光系统由二分之一波片、偏振分光棱镜、四分之一波片、遮挡板以及监视系统构成。空间光调制器对激光调制；二分之一波片调节入射光偏振方向；入射光通过偏振分光棱镜，得到透射光；四分之一波片调节透射光的偏振方向；入射光通过投影微缩镜头成像于感光材料，同时产生反射光；反射光经过四分之一波片以及偏振分光棱镜产生第三反射光，监视系统接收第三反射光并建立图像，对焦调节装置对投影微缩镜头调焦。本发明专利技术在感光材料和基底存在起伏、投影微缩镜头焦平面位置存在偏差的情况下，可实现对投影微缩镜头实时地进行对焦。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻机对焦
，尤其涉及一种光学投影光刻机。
技术介绍
光学投影光刻机常被用于制造衍射光学元件、微光学元件、集成电路与微电子元件，其主要作用是进行曝光。光学投影光刻机将所需图像通过投影微缩镜头缩小，成像于感光材料，使得感光材料发生化学反应，所需图像从而被保留在感光材料上。在上述曝光过程中，感光材料本身和涂敷感光材料的基底存在起伏、厚度存在差异，投影微缩镜头的焦平面位置也可能存在偏差，因此会严重影响最终生成的图像质量，从而无法生产出高质量的光刻产品。综上，在曝光过程中控制投影微缩镜头的对焦使得感光材料表面位于投影微缩镜头的成像平面上，是保证成像在感光材料表面上的图像清晰的必要条件。
技术实现思路
本专利技术旨在解决上述现有技术中存在的问题，提出一种光学投影光刻机。本专利技术提出的光学投影光刻机用于接收激光器发出的激光，并对感光材料进行曝光，其包括空间光调制器、分光系统、投影微缩镜头、对焦调节装置以及感光材料支撑系统，所述分光系统由二分之一波片、偏振分光棱镜、四分之一波片、遮挡板以及监视系统构成。其中，所述空间光调制器对所述激光进行调制，得到第一入射光；所述二分之一波片调本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学投影光刻机，用于接收激光器发出的激光，对感光材料进行曝光，其包括：空间光调制器、投影微缩镜头、对焦调节装置以及感光材料支撑系统，其特征在于，还包括分光系统，所述分光系统由二分之一波片、偏振分光棱镜、四分之一波片、遮挡板以及监视系统构成，其中，所述空间光调制器对所述激光进行调制，得到第一入射光；所述二分之一波片调节所述第一入射光的偏振方向，得到第二入射光；所述第二入射光通过所述偏振分光棱镜，得到透射光以及第一反射光；所述遮挡板吸收所述第一反射光，所述四分之一波片调节所述透射光的偏振方向，得到圆偏振光；所述感光材料支撑系统支撑所述感光材料，所述圆偏振光通过所述投影微缩镜头成像于所述感光材料...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王笑冰，李建兵，张海明，
申请(专利权)人：深圳大学反光材料厂，
类型：发明
国别省市：