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本发明公开了一种具有台阶的衬底的光刻方法，其包括如下步骤：步骤一，在衬底表面涂光刻胶，将曝光机的焦点设置在台阶底部位置，而后采用光刻掩膜版进行曝光；步骤二，在步骤一中的光刻胶上再涂一光刻胶层，之后将所述曝光机的焦点设置在所述光刻胶层表面，进...
该专利属于上海华虹NEC电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹NEC电子有限公司授权不得商用。

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