一种步进光刻设备及光刻曝光方法技术

本发明专利技术公开一种步进光刻设备，包括：一照明单元，用于提供曝光光束；一工件台，用于支撑一基底在大行程范围内进行六自由度运动；一掩模台，用于支撑一掩模在曝光时候在小行程范围内相对所述工件台同步运动；一投影物镜，用于将掩模上图形按预定比例投射至基底；其特征在于，所述工件台依次步进至曝光场后，所述掩模台同步运动至所述工件台对应的位置并同时曝光。本发明专利技术同时公开一种该步进光刻设备的光刻曝光方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及集成电路装备制造领域，尤其涉及。
技术介绍
光刻设备是一种将掩模图案曝光成像到硅片上的设备。已知的光刻设备包括步进重复式和步进扫描式。现有技术中所公开的使用缩减倍率投影物镜的步进光刻机中，该投影物镜的倍率为缩减的，即按I : N的比率将掩模图案通过投影物镜投射于基底上。现有技术中所公开的步进光刻机所使用的工件台，通常采用的结构为粗动结构与微动结构相结合，或者是XY(水平向)运动台与旋转台相结合，甚至是单个的粗动台结构。而现有技术中的光刻机的掩模台均为粗动台。 现有技术中的步进曝光方法为，当基底完成调平和对准后，在工件台上步进至指定位置后，需使该工件台保持一定精度的稳定状态后才能进行曝光。采用传统的缩减倍率的步进投影装置和方法，工件台的步进精度要求很高，并且稳定时间要求很短，为此，整机难度较大，并且产能受稳定时间的严重影响。如专利US2001/0021009、US6287735及US2009/0201475中公开的技术方案内容所示，上述专利均采用减少工件台质量、简化工件台结构、优化控制方式等方式来改进步进光刻机，但仍然存在步进稳定所需时间长，产率较低的缺陷。
技术实现思路
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【技术保护点】
一种步进光刻设备，包括：一照明单元，用于提供曝光光束；一工件台，用于支撑一基底在大行程范围内进行六自由度运动；一掩模台，用于支撑一掩模在曝光时候在小行程范围内相对所述工件台同步运动；一投影物镜，用于将掩模上图形按预定比例投射至基底；其特征在于，所述工件台依次步进至曝光场后，所述掩模台同步运动至所述工件台对应的位置并同时曝光。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈勇辉，吴立伟，张俊，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：