基于混合遗传算法的极紫外多层膜结构参数反演方法技术

基于混合遗传算法的极紫外多层膜结构参数反演方法，属于极紫外光刻技术领域。解决了现有技术中极紫外多层膜结构参数的确定方法，不能兼备高效率和准确性的问题。本发明专利技术的反演方法，步骤如下：先通过多层膜的光学常数和目标结构参数，计算多层膜在固定波长、不同的掠入射角下的反射率，得到目标掠入射X射线反射谱；然后通过步骤一得到的目标掠入射X射线反射谱，采用遗传算法反演多层膜的结构参数，再采用单纯形算法继续反演多层膜的结构参数，得到最终的多层膜的结构参数；其中，遗传算法的迭代次数为20-50次，单纯形算法的迭代次数为200-400次。该方法反演多层膜的结构参数精度高，速度较快。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于极紫外光刻
，具体涉及一种基于混合遗传算法的极紫外多层膜结构参数反演方法。
技术介绍
极紫外光刻(ExtremeUltravioletLithography，EUVL)技术是使用EUV波段，主要是13.5nm波段，进行光刻的微纳加工技术。目前，EUVL技术已经能够实现7nm线宽的刻蚀工艺，并具备进一步缩小刻蚀线宽的可能性。这在大规模集成电路制造领域具有重要意义，能够实现更大密度的元件集成，以及更低的能耗。极紫外光刻使用波长为10～14nm光源照明,由于几乎所有已知光学材料在这一波段都具有强吸收，无法采用传统的折射式光学系统，所以极紫外光刻系统的照明系统、掩模和投影物镜均采用反射式设计，其反射光学元件需镀有周期性多层膜以提高反射率。为提高极紫外光刻系统的光通量，需要通过镀膜工艺参数优化尽可能提高每个极紫外多层膜反射镜的反射率，而为指导工艺优化需要对各工艺条件下沉积的极紫外多层膜进行结构表征。掠入射X射线反射谱是对多层膜结构表征最有力的手段，通过拟本文档来自技高网...

【技术保护点】
基于混合遗传算法的极紫外多层膜结构参数反演方法，其特征在于，步骤如下：步骤一、通过多层膜的光学常数和目标结构参数，计算多层膜在固定波长、不同的掠入射角下的反射率，得到目标掠入射X射线反射谱；步骤二、通过步骤一得到的目标掠入射X射线反射谱，采用遗传算法反演多层膜的结构参数，所述遗传算法的迭代次数为20‑50次；步骤三、依据步骤二得到的多层膜的结构参数，采用单纯形算法继续反演多层膜的结构参数，所述单纯形算法的迭代次数为200‑400次；所述步骤一至步骤三中，掠入射X射线反射谱皆通过递归算法获得。

【技术特征摘要】
1.基于混合遗传算法的极紫外多层膜结构参数反演方法，其特征在于，步
骤如下：
步骤一、通过多层膜的光学常数和目标结构参数，计算多层膜在固定波长、
不同的掠入射角下的反射率，得到目标掠入射X射线反射谱；
步骤二、通过步骤一得到的目标掠入射X射线反射谱，采用遗传算法反演
多层膜的结构参数，所述遗传算法的迭代次数为20-50次；
步骤三、依据步骤二得到的多层膜的结构参数，采用单纯形算法继续反演
多层膜的结构参数，所述单纯形算法的迭代次数为200-400次；
所述步骤一至步骤三中，掠入射X射线反射谱皆通过递归算法获得。
2.根据权利要求1所述的基于混合遗传算法的极紫外多层膜结构参数反演
方法，其特征在于，所述步骤二和步骤三的过程为：
以式(1)为评价函数，先采用遗传算法寻找迭代次数内使得F值最小的多层
膜的结构参数，再依据遗传算法得到的多层膜的结构参数，...

【专利技术属性】
技术研发人员：喻波，姚舜，金春水，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：吉林;22