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一种用于光刻系统的可程控照射器，包含：光源、第一光学系统、可程控微反射镜装置及第二光学系统，所述第一光学系统具有光均匀化元件，所述第二光学系统形成照射标线片的照射场。可程控微反射镜装置可配置为执行快门及阻隔边缘曝光功能，这些功能以前需要较大...
该专利属于超科技公司所有，仅供学习研究参考，未经过超科技公司授权不得商用。

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