光刻设备和制造光刻设备的方法技术

一种浸没光刻设备包括：投影系统，用于通过投影系统的最终透镜元件的光学上有效的部分将图案化的辐射束朝向由衬底台支撑的衬底投影，最终透镜元件具有露出的底部表面；液体限制结构，被配置用于将浸没液体供给至浸没空间并限制在浸没空间中，所述浸没空间在投影系统的最终透镜元件与由衬底和衬底台中的至少一个形成的表面之间；和处于投影系统与液体限制结构之间的通路形成件，以及在通路形成件与最终透镜元件的光学上有效的部分之间的通路，所述通路通过开口与浸没空间液体连通，并且相对于投影系统的光轴沿径向向外延伸至少至最终透镜元件的露出的底部表面的边缘，所述通路被构造和配置成使得在使用时通过毛细作用、由来自浸没空间的液体填充所述通路。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相关申请的交叉引用本申请主张2014年7月1日提交的欧洲申请14175307.9的权益，其通过引用而全文合并到本文中。
本专利技术涉及一种光刻设备和一种制造光刻设备的方法。
技术介绍
光刻设备是将所需图案施加至衬底上(通常施加至衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可(例如)用于集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。所述图案的转移通常是通过将图案成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上而实现的。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓的步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓的扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向同步地扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。在浸没设备中，通过液体限制结构将液体限制至浸没空间。浸没空间在投影系统的最终透镜元件与衬底或衬底台之间，其中图案通过投影系统的最终透镜元件而被成像，图案传递至衬底上，衬底保持在衬底台上。可以通过流体密封将液体限制至浸没空间。液体限制结构可以产生或使用气体流，例如以帮助控制液体在浸没空间中的流动和/或位置。气体流可以形成密封，以将液体限制至浸没空间。来自浸没空间的液滴或液体薄膜(下文中涉及液滴的内容也包括薄膜；薄膜是覆盖较大表面面积的液滴)可能会溅到最终透镜元件的露出的底表面上的、通常不与浸没空间中的液体接触的任意/随机位置处。这种液滴会蒸发。如果这种液滴蒸发，就会将冷却热负载局部地施加到最终透镜元件上。施加在最终透镜元件上的非预定(或随机)位置处的局部冷却负载会导致光学误差，诸如像差、其他非可校正成像或聚焦误差中的一项或多项，这样的光学误差在许多衬底之间是不稳定的。结果，在使用周期(诸如很多衬底)光学性质就会不可预料地出现不一致。
技术实现思路
例如期望提供一种能够减小最终透镜元件上的液滴的影响或基本上能够避免形成这种液滴的系统。根据一方面，提供一种浸没光刻设备，所述浸没光刻设备包括：投影系统，用于通过投影系统的最终透镜元件的光学上有效(opticallyactive)的部分将图案化的辐射束朝向由衬底台支撑的衬底投影；液体限制结构，被配置用于将浸没液体供给至浸没空间并限制在浸没空间中，所述浸没空间在投影系统的最终透镜元件与由衬底和衬底台中的至少一个形成的表面之间；和处于投影系统与液体限制结构之间的通路形成件，以及在通路形成件与最终透镜元件的光学上有效的部分之间的通路，所述通路通过开口与浸没空间液体连通，以允许液体流通过所述通路流至浸没空间或者从浸没空间流动通过所述通路。在一实施例中，液体流调节最终透镜元件在热学上是有效的。根据一方面，提供一种浸没光刻设备，包括：投影系统，用于通过投影系统的最终透镜元件的光学上有效的部分将图案化的辐射束朝向由衬底台支撑的衬底投影，所述最终透镜元件具有露出的底部表面；液体限制结构，被配置用于将浸没液体供给至浸没空间并限制在浸没空间中，所述浸没空间在投影系统的最终透镜元件与由衬底和衬底台中的至少一个形成的表面之间；和处于投影系统与液体限制结构之间的通路形成件，以及在通路形成件与最终透镜元件的光学上有效的部分之间的通路，所述通路通过开口与浸没空间液体连通，并且相对于投影系统的光轴沿径向向外延伸至少至最终透镜元件的露出的底部表面的边缘，所述通路被构造和配置成使得在使用时通过毛细作用、由来自浸没空间的液体填充所述通路。根据一方面，提供一种浸没光刻设备，所述浸没光刻设备包括：投影系统，用于通过投影系统的最终透镜元件的光学上有效的底部表面将图案化的辐射束朝向由衬底台支撑的衬底投影；处于投影系统与衬底和衬底台中的至少一个之间的液体限制结构，所述液体限制结构被配置用于将浸没液体供给至浸没空间并限制在浸没空间中，所述浸没空间在投影系统的最终透镜元件与由衬底和衬底台中的至少一个形成的表面之间；和液体供给开口，所述液体供给开口沿径向在最终透镜元件的光学上有效的底部表面的外侧，适于使通过其中的液体流过最终透镜元件的露出的底部表面、流向最终透镜元件的光学上有效的底部表面且流入浸没空间。根据一方面，提供一种浸没光刻设备，所述浸没光刻设备包括：投影系统，用于通过投影系统的最终透镜元件将图案化的辐射束朝向由衬底台支撑的衬底投影；液体限制结构，被配置用于将浸没液体供给至浸没空间并限制在浸没空间中，所述浸没空间在投影系统的最终透镜元件与由衬底和衬底台中的至少一个形成的表面之间；和处于投影系统与液体限制结构之间的通路形成件，以及在通路形成件与最终透镜元件之间的通路，所述通路与浸没空间液体连通，以允许被热调节的液体流通过所述通路流至浸没空间或者从浸没空间流动通过所述通路，从而热调节最终透镜元件。在第一方面中，本专利技术涉及一种浸没光刻设备，包括：投影系统，用于通过投影系统的最终透镜元件的光学上有效的部分将图案化的辐射束朝向由衬底台支撑的衬底投影，所述最终透镜元件具有露出的底部表面；液体限制结构，被配置用于将浸没液体供给至浸没空间并限制在浸没空间中，所述浸没空间在投影系统的最终透镜元件与由衬底和衬底台中的至少一个形成的表面之间；和处于投影系统与液体限制结构之间的通路形成件，以及在通路形成件与最终透镜元件的光学上有效的部分之间的通路，所述通路通过开口与浸没空间液体连通，并且相对于投影系统的光轴沿径向向外延伸至少至最终透镜元件的露出的底部表面的边缘，所述通路被构造和配置成使得在使用时通过毛细作用、由来自浸没空间的液体填充所述通路。在第二方面中，第一方面的所述通路形成件与投影系统的最终透镜元件集成。在第三方面中，第一或第二方面的浸没光刻设备还包括处于通路形成件与最终透镜元件的光学上有效的部分之间的至少一个另一通路。在第四方面中，本专利技术涉及一种浸没光刻设备，包括：投影系统，用于通过投影系统的最终透镜元件的光学上有效的部分将图案化的辐射束朝向由衬底台支撑的衬底投影；液体限制结构，被配置用于将浸没液体供给至浸没空间并限制在浸没空间中，所述浸没空间在投影系统的最终透镜元件与由衬底和衬底台中的至少一个形成的表面之间；和处于投影系统与液体限制结构之间的通路形成件，以及在通路形成件与最终透镜元件的光学上有效的部分之间的通路，所述通路通过开口与浸没空间液体连通，以允许液体流通过所述通路流至浸没空间或者从浸没空间流动通过所述通道。在第五方面中，第四方面的通路相对于投影系统的光轴沿径向延伸至最终透镜元件的露出的底部表面的边缘的外侧。在第六方面中，第四或第五方面的通路形成件与投影系统的最终透镜元件集成。在第七方面中，第四或第五方面的通路形成件与投影系统的最终透镜元件分离开。在第八方面中，第四、第五或第七方面的通路在通路形成件与最终透镜元件的非光学上有效的部分之间，其中图案化的辐射束不通过所述最终透镜元件的非光学上有效部分。在第九方面中，第四、第五、第七或第八方面的通路形成件由投影系统支撑。在第十方面中，第九方面的通路形成件附连至最终透镜元件。在第十本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种浸没光刻设备，包括：投影系统，用于通过投影系统的最终透镜元件的光学上有效的部分将图案化的辐射束朝向由衬底台支撑的衬底投影；液体限制结构，被配置用于将浸没液体供给至浸没空间并限制在浸没空间中，所述浸没空间在投影系统的最终透镜元件与由衬底和衬底台中的至少一个形成的表面之间；和处于投影系统与液体限制结构之间的通路形成件，以及在通路形成件与最终透镜元件的光学上有效的部分之间的通路，所述通路通过开口与浸没空间液体连通，以允许液体流通过所述通路流至浸没空间或者从浸没空间流动通过所述通路。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.07.01 EP 14175307.91.一种浸没光刻设备，包括：投影系统，用于通过投影系统的最终透镜元件的光学上有效的部分将图案化的辐射束朝向由衬底台支撑的衬底投影；液体限制结构，被配置用于将浸没液体供给至浸没空间并限制在浸没空间中，所述浸没空间在投影系统的最终透镜元件与由衬底和衬底台中的至少一个形成的表面之间；和处于投影系统与液体限制结构之间的通路形成件，以及在通路形成件与最终透镜元件的光学上有效的部分之间的通路，所述通路通过开口与浸没空间液体连通，以允许液体流通过所述通路流至浸没空间或者从浸没空间流动通过所述通路。2.根据权利要求1所述的浸没光刻设备，其中所述通路相对于投影系统的光轴沿径向延伸至最终透镜元件的露出的底部表面的边缘的外侧。3.根据权利要求1或2所述的浸没光刻设备，其中所述通路形成件与投影系统的最终透镜元件集成。4.根据权利要求1或2所述的浸没光刻设备，其中所述通路在通路形成件与最终透镜元件的非光学上有效的部分之间，其中图案化的辐射束不通过所述最终透镜元件的非光学上有效的部分。5.根据权利要求1、2或4所述的浸没光刻设备，其中所述通路形成件被投影系统支撑。6.根据权利要求5所述的浸没光刻设备，其中所述通路形成件附连至最终透镜元件。7.根据权利要求1、2或4所述的浸没光刻设备，其中所述通路形成件被独立于投影系统和液体限制结构支撑。8.根据权利要求1-7中任一项所述的浸没光刻设备，还包括负压源，与通路形成件的一侧上的环境压力相比，所述负压源适于将负压施加至通路形成件的相对一侧上，从而朝向投影系统将吸力施加至通路形成件。9.根据权利要求1、2和4-8中任一项所述的浸没光刻设备，其中所述通路形成件相对于投影系统的光轴、在其径向最内侧的位置处延伸至低于最终透镜元件的光学上有效的部分。10.根据权利要求1-9中任一项所述的浸没光刻设备，还包括在与浸没空间液体连通的开口相对的通路的端部处与通路液体连通的另一开口，所述另一开口适于将液体供给至通路和/或从通路接收液体。11.根据权利要求1-10中任一项所述的浸没光刻设备，其中浸没空间中的液体...

【专利技术属性】
技术研发人员：G·彼得斯，T·W·波莱，J·J·M·巴塞曼斯，W·J·博曼，T·M·默德曼，C·M·诺普斯，B·斯米特斯，K·斯蒂芬斯，R·范德哈姆，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL