照明光学单元制造技术

一种用于EUV投射曝光设备的照明光学单元(4)，具有光阑(23)，光阑包括具有离散对称组的辐射透射区域。光阑(23)的形状适配于光瞳分面反射镜(18)的分面形状或辐射源(3)的形状。光阑(23)优选地布置在中间焦平面的区域中。

Illumination optical unit

An illumination optical unit (4) for an EUV projection exposure device having an aperture (23) including an aperture, a radiation transmissive region having a discrete symmetrical set. The shape of the aperture (23) is adapted to the shape of the pupil surface reflector (18), or to the shape of the radiation source (3). The aperture (23) is preferably disposed in an area of the intermediate focal plane.

【技术实现步骤摘要】
照明光学单元本申请是申请日为2012年5月16日、申请号为201280025144.1、专利技术名称为“照明光学单元”的专利技术专利申请的分案申请。相关申请的交叉引用通过引用，将德国专利申请DE102011076297.3和US61/488901的内容并入本文。
本专利技术涉及一种包括光阑的照明光学单元以及照明系统。此外，本专利技术涉及一种包括该类型的照明系统的EUV投射曝光设备、一种用于制造微结构或纳米结构部件的方法以及一种由该方法制造的部件。
技术介绍
已知曝光设备的光学质量可通过适合地布置一个或多个光阑而得以改进。例如，从US2007/242799A1中可知包括光阑的EUV投射曝光设备。从现有技术中已知圆形光阑。根据本专利技术，已认识到这不会构成光阑的最佳设计。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的是改进用于EUV投射曝光设备的照明光学单元。该目的通过用于照明物场的照明光学单元实现，所述物场能够用从EUV辐射源发出的辐射通过成像光学单元成像，所述照明光学单元包括：光瞳分面反射镜，具有多个特定形状的分面，以及光阑，包括第一区域和第二区域，第一区域能够透射照射的EUV辐射，第二区域不能本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于照明物场(5)的照明光学单元(4)，所述物场能够用从EUV辐射源(3)发出的辐射(14)通过成像光学单元(9)成像，所述照明光学单元包括：a.光瞳分面反射镜(18)，具有多个特定形状的分面，以及b.光阑(23)，包括第一区域(24)和第二区域(25)，第一区域能够透射照射的EUV辐射(14)，第二区域不能透过照射的EUV辐射(14)，其中，所述区域(24，25)限定光阑面，并且其中，所述区域(24，25)中的至少一个的形状具有适配于光瞳分面反射镜(18)的分面形状，c.其中，至少一个区域具有多边形形式，d.其中，所述光阑(23)布置在中间焦平面(16)的区域中。

【技术特征摘要】
2011.05.23 DE 102011076297.3;2011.05.23 US 61/488,1.用于照明物场(5)的照明光学单元(4)，所述物场能够用从EUV辐射源(3)发出的辐射(14)通过成像光学单元(9)成像，所述照明光学单元包括：a.光瞳分面反射镜(18)，具有多个特定形状的分面，以及b.光阑(23)，包括第一区域(24)和第二区域(25)，第一区域能够透射照射的EUV辐射(14)，第二区域不能透过照射的EUV辐射(14)，其中，所述区域(24，25)限定光阑面，并且其中，所述区域(24，25)中的至少一个的形状具有适配于光瞳分面反射镜(18)的分面形状，c.其中，至少一个区域具有多边形形式，d.其中，所述光阑(23)布置在中间焦平面(16)的区域中。2.如权利要求1所述的照明光学单元(4)，其特征在于，所述区域(24，25)中的至少一个具有两重旋转对称性，而不是四重旋转对称性。3.如以上权利要求中任一项所述的照明光学单元(4)，其特征在于，所述光阑(23)的所述第一区域(24)在边缘上完全由所述第二区域(25)环绕。4.如权利要求1所述的照明光学单元(4)，其特征在于，所述光阑(23)...

【专利技术属性】
技术研发人员：M恩德里斯，
申请(专利权)人：卡尔蔡司SMT有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE