东泰高科装备科技有限公司专利技术

东泰高科装备科技有限公司共有370项专利

  • 本实用新型提供了一种测试装置,包括:测试平台,测试平台用于放置磁棒和靶材;检测组件,检测组件包括磁场检测件和测距件,磁场检测件的检测头和测距件的检测头均可移动地设置在测试平台上,磁场检测件的检测头用于检测磁棒的磁场,测距件的检测头用于检...
  • 本实用新型提供了一种检测平台,包括:支撑部件,支撑部件上设有第一导向结构,第一导向结构的至少部分为弧形结构;第一活动部件,第一活动部件沿弧形结构的延伸方向位置可移动地设置;第一活动部件上设有第二导向结构,第二导向结构的至少部分沿第一预设...
  • 本发明涉及湿法设备技术领域,尤其涉及一种湿法栏具提升固定装置及方法。该装置包括晶片基座提升机构、晶片基座固定机构和湿法栏具提升机构,其中所述晶片基座提升机构设置在浸浴槽的开口上方,所述晶片基座固定机构设置在所述晶片基座提升机构上,所述湿...
  • 本实用新型涉及太阳能电池生产技术领域,提供一种定位装置,包括支架,所述支架上设有传送机构和测量机构,所述传送机构用以将待测量件传送至所述测量机构的正下方,所述测量机构包括第一测量件和第二测量件,所述第一测量件沿待测量件的传送方向设置,用...
  • 本实用新型涉及半导体技术领域,尤其涉及一种半导体器件。该半导体器件包括半导体基体、设置在所述半导体基体下表面的负极金属膜以及设置在所述半导体基体上表面的正极金属电极,所述正极金属电极包括从上到下依次设置的第一Au金属层、第一Pt金属层和...
  • 本实用新型提供了一种纺锤形工件的旋转机构,包括:座体;驱动轴,驱动轴与座体可转动连接;工件座,工件座与驱动轴连接,并与驱动轴同步转动,以带动安装到工件座上的纺锤形工件绕驱动轴的轴线公转,工件座的轴线与驱动轴的轴线之间形成有夹角,以使纺锤...
  • 本实用新型提供一种承载装置包括板状本体,板状本体包括用于承载粘结层的承载面,并在板状本体中设置有吸附通道,吸附通道的一端设置在承载面上,另一端用于连接抽真空装置,抽真空装置用于对粘结层与承载面之间进行抽真空,以吸附粘结层。本实用新型提供...
  • 本实用新型提供了一种载板防偏装置,包括:基体,基体内部设置有安装空间,基体的侧壁朝向载板的运输通道;滚珠,滚珠可滚动地设置在安装空间中,滚珠至少部分地突出于基体的侧壁。通过在基体的上设置滚珠,使滚珠对着载板的运输通道,对载板的运动进行导...
  • 本实用新型公开了一种晶片装载机构,包括装载腔室,其上开设有开口,装载组件,可往复移动地设置在装置腔室内,用于承载晶片载具,以及滑动组件,设置在装载腔室内,滑动组件的滑动端与所述装载组件连接,所述滑动组件的滑动端的运动方向朝向所述装载腔室...
  • 本实用新型提供一种承载装置,包括支撑组件和多个承载组件;支撑组件包括两个支撑台,多个承载组件设置在两个支撑台之间且相对两个支撑台垂直设置;多个承载组件分别包括至少一个承载台,承载台用于承载晶片;两个支撑台分别包括多组长孔,多组长孔贯穿支...
  • 本实用新型提供一种真空分子泵抽速调节装置、真空分子泵和抽真空设备。该抽速调节装置包括固定机构和调节机构,固定机构包括入口和出口,入口和出口之间相贯通,出口端用于固定连接真空分子泵基体,且真空分子泵基体的真空抽吸口与出口之间相贯通;入口端...
  • 本实用新型提供一种筒状载台装置及半导体设备,该筒状载台装置包括筒状载台(3)、间隔设置在筒状载台(3)内侧的加热筒体(41),及环绕设置在该加热筒体(41)的外周壁与筒状载台(3)的内周壁之间的加热组件(42),其中,该加热组件(42)...
  • 本实用新型提供的筒状进气装置及镀膜设备,包括相互嵌套的内筒体(31)和外筒体(32),在内筒体(31)中设置有至少一组出气组,其包括多个出气孔(311);还包括匀气结构,其设置在外筒体(32)的内周壁与内筒体(31)的外周壁之间,包括至...
  • 本实用新型提供一种喷淋头装置及MOCVD设备,该喷淋头装置包括固定部件(1)和旋转部件(2),固定部件(1)和旋转部件(2)通过第一动密封结构(3)密封对接,形成一封闭空间(4),其中,在固定部件(1)中设置有进气口(5),该进气口(5...
  • 本实用新型涉及机械设备技术领域,公开一种雾化装置,其包括阀芯、阀体及弹簧,弹簧设于阀芯的一端,且处于压缩状态,使阀芯的另一端抵接于阀体,阀体内设有阀腔,阀芯穿过阀腔,阀腔内的液体能够推动阀芯压缩弹簧,使阀芯的另一端与阀体分离,阀芯与阀体...
  • 本实用新型涉及PVD镀膜设备技术领域,尤其涉及一种阴极狭缝遮挡装置。该阴极狭缝遮挡装置包括两个挡板、限位装置、以及驱动两个所述挡板进行相对或相向运动的驱动装置,所述限位装置包括两个平行设置的导轨,每个所述挡板分别设有两个滑块,两个所述滑...
  • 本实用新型提供一种旋转阴极排水装置。该排水装置包括进水轴和出水轴,进水轴和出水轴相互连接,进水轴内开设有进水通道,进水通道内用于容置旋转阴极和冷却水;出水轴内开设有出水通道,出水轴内还设置有开关结构,开关结构设置在进水通道和出水通道的对...
  • 本实用新型提供了一种布气结构及具有其的反应腔体组件,其中,布气结构包括:壳体,壳体包括侧壁,侧壁上设置有进气口和出气口,侧壁内具有气体通道,气体通道连通进气口和出气口。本实用新型的技术方案有效地解决了现有技术中的镀膜时气体分布不均匀而造...
  • 本实用新型涉及抛光技术领域,尤其涉及一种抛光垫开孔装置。该抛光垫开孔装置包括支撑底座和切割刀具,所述支撑底座包括底板以及设置在所述底板上表面的支撑杆,所述支撑杆为上端开口的中空结构;所述支撑杆的数量与上盘面的通孔数量相一致,且各所述支撑...
  • 本实用新型涉及化学机械抛光技术领域,公开了一种联合单面抛光机,包括抛光头旋转结构,所述抛光头旋转结构用于驱动抛光头从一个抛光盘到另一个抛光盘。通过抛光头旋转结构驱动抛光头旋转至对应抛光盘对晶片进行抛光加工,满足需要多步抛光的CMP抛光工...