布气结构及具有其的反应腔体组件制造技术

本实用新型专利技术提供了一种布气结构及具有其的反应腔体组件，其中，布气结构包括：壳体，壳体包括侧壁，侧壁上设置有进气口和出气口，侧壁内具有气体通道，气体通道连通进气口和出气口。本实用新型专利技术的技术方案有效地解决了现有技术中的镀膜时气体分布不均匀而造成镀膜质量不佳的问题。

Gas distribution structure and reaction chamber assembly thereof

【技术实现步骤摘要】
布气结构及具有其的反应腔体组件
本技术涉及镀膜的布气结构的
，具体而言，涉及一种布气结构及具有其的反应腔体组件。
技术介绍
PVD(PhysicalVaporDeposition)---物理气相沉积：指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。PVD基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。溅射镀膜中，对于工艺气体均匀混合、布气，需要很高的要求，若设计不合理，会对镀膜质量产生影响。
技术实现思路
本技术的主要目的在于提供一种布气结构及具有其的反应腔体组件，以解决现有技术中的镀膜时气体分布不均匀而造成镀膜质量不佳的问题。为了实现上述目的，一方面本技术提供了一种布气结构，包括：壳体，壳体包括侧壁，侧壁上设置有进气口和出气口，侧壁内具有气体通道，气体通道连通进气口和出气口。进一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种布气结构，其特征在于，包括：/n壳体(10)，所述壳体(10)包括侧壁，所述侧壁上设置有进气口(11)和出气口(12)，所述侧壁内具有气体通道，所述气体通道连通所述进气口(11)和所述出气口(12)。/n

【技术特征摘要】
1.一种布气结构，其特征在于，包括：
壳体(10)，所述壳体(10)包括侧壁，所述侧壁上设置有进气口(11)和出气口(12)，所述侧壁内具有气体通道，所述气体通道连通所述进气口(11)和所述出气口(12)。


2.根据权利要求1所述的布气结构，其特征在于，所述侧壁围设成筒状结构，所述侧壁包括外侧壁和内侧壁，所述出气口(12)设置在所述内侧壁上。


3.根据权利要求2所述的布气结构，其特征在于，所述出气口(12)为多个。


4.根据权利要求3所述的布气结构，其特征在于，靠近所述进气口(11)的出气口(12)的出口面积小于远离所述进气口(11)的出气口(12)的出口面积。


5.根据权利要求2所述的布气结构，其特征在于，所述气体通道形成在所述内侧壁和所述外侧壁之间。


6.根据权利要求2所述的布气结构，其特...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯鑫彬，贾晓霞，李琳琳，曹志强，宋士佳，陈光羽，
申请(专利权)人：东泰高科装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11