一种雾化装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及机械设备技术领域，公开一种雾化装置，其包括阀芯、阀体及弹簧，弹簧设于阀芯的一端，且处于压缩状态，使阀芯的另一端抵接于阀体，阀体内设有阀腔，阀芯穿过阀腔，阀腔内的液体能够推动阀芯压缩弹簧，使阀芯的另一端与阀体分离，阀芯与阀体分离而形成间隙，间隙连通阀腔和外界，液体经间隙雾化。本实用新型专利技术向阀腔内通入具有一定压力的液体时，液体对阀腔内的阀芯产生压力，若此压力在阀芯的轴线方向的分力大于弹簧被压缩时的弹簧力时，阀芯产生轴向移动，并继续压缩弹簧，阀芯的另一端与阀体分离，阀芯与阀体之间存在极小的间隙，该间隙与外界连通，液体经该间隙雾化。

An atomizing device

【技术实现步骤摘要】
一种雾化装置
本技术涉及机械设备
，尤其涉及一种雾化装置。
技术介绍
化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition，简称CVD)是向保持特定压力、特定温度条件下的工艺腔室内通入两种以上气体，气体混合后发生反应从而在目标基片上沉积薄膜的工艺，由于其具有绕镀性好、可沉积复杂化合物等特性，在半导体行业有广泛应用。通常目标薄膜的组成元素由液态的药源提供，使用时需对其进行雾化。目前CVD设备将液态源进行雾化一般有两种方式，一种是载气携带，另一种是通过加热蒸发实现液态源的汽化并向反应腔室供气。这两种方式受气流稳定性、温度、饱及蒸气压例等因素影响，无法精确控制携带出的前驱气体量，蒸发效率有限，大流量供应时容易出现供气不稳定等问题。
技术实现思路
基于以上所述，本技术的目的在于提供一种雾化装置，解决了现有技术存在的由于受气流稳定性、温度、饱和蒸气压力等因素影响，而无法精确控制气体量，使得大流量供应时容易产生供气不稳定。为达上述目的，本技术采用以下技术方案：一种雾化装置，包括阀芯、阀体及弹簧，所述弹簧本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种雾化装置，其特征在于，包括阀芯、阀体及弹簧(31)，所述弹簧(31)设于所述阀芯的一端，且处于压缩状态，使所述阀芯的另一端抵接于所述阀体，所述阀体内设有阀腔(14)，所述阀芯穿过所述阀腔(14)，所述阀腔(14)内的液体能够推动所述阀芯压缩所述弹簧(31)，使所述阀芯的另一端与所述阀体分离而形成间隙，所述间隙连通所述阀腔(14)和外界，所述液体经所述间隙雾化。/n

【技术特征摘要】
1.一种雾化装置，其特征在于，包括阀芯、阀体及弹簧(31)，所述弹簧(31)设于所述阀芯的一端，且处于压缩状态，使所述阀芯的另一端抵接于所述阀体，所述阀体内设有阀腔(14)，所述阀芯穿过所述阀腔(14)，所述阀腔(14)内的液体能够推动所述阀芯压缩所述弹簧(31)，使所述阀芯的另一端与所述阀体分离而形成间隙，所述间隙连通所述阀腔(14)和外界，所述液体经所述间隙雾化。


2.根据权利要求1所述的雾化装置，其特征在于，所述阀芯包括顶杆(21)，所述顶杆(21)的一端抵接于所述弹簧(31)。


3.根据权利要求2所述的雾化装置，其特征在于，所述阀芯还包括阀杆，所述阀杆包括第一阀杆(221)和第二阀杆(222)，所述第一阀杆(221)的一端与所述顶杆(21)的另一端连接，所述第一阀杆(221)的另一端位于所述阀腔(14)内，且与第二阀杆(222)的一端连接，所述第一阀杆(221)的另一端的横截面积不小于所述第二阀杆(222)的横截面积。


4.根据权利要求1所述的雾化装置，其特征在于，所述阀体上设有气体口(51)和液体口(41)，所述气体口(51)和所述液体口(41)均与所述阀腔(14)连通。


5.根据权利要求4所述的雾化装置，其特征在于，所述气体口(51)内设有单向阀(52)，所述单向...

【专利技术属性】
技术研发人员：张少雷，高少飞，管长乐，赵青松，
申请(专利权)人：东泰高科装备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京;11