一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其包括腔室；用于提供气体的气柜；在腔室顶部，通过电缆与主机联接的远程等离子发生器，所述远程等离子发生器的进气口与气柜的出气口连接，远程等离子发生器的进出气口与腔室的进气口连接；在气柜和远程等离子发生器连接的管路上设有对气体进行通断及流量设定与控制的气体流量计及气动阀；与腔室连接的用于调节阻抗的匹配器。本实用新型专利技术通过远程等离子发生器在腔室外产生等离子再将等离子体导入腔室清洁实现清洁过程中对腔室内部洁效果进行同步观察，达到缩短清洁时间，改善清洁效果，提高清洁效率。

A remote plasma cleaning equipment for PECVD chamber

【技术实现步骤摘要】
一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备
本技术涉及太阳能电池领域，尤其涉及一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备。
技术介绍
硅基异质结电池是一种利用晶体硅基板和非晶硅薄膜制成的混合型太阳能电池。PECVD系统是模块化系统，将硅片制绒及清洗预处理之后，硅片通过上料机构放置到支撑框上，通过载板进入预热腔室，然后完成I，N(或P)层沉积，之后通过具有冷却功能的冷却机构进入下料机构。在硅片镀膜工艺中，对腔室环境清洁度要求严格。硅片在腔室内进行工艺层积镀膜过程中，腔室内部表面也会相应被沉积镀上膜。多炉次工作后，其表面镀上的膜层厚度达到一定程度，如果还不加以清除，就会在后续的制程中剥离脱落形成颗粒物,而影响硅片镀膜品质。所以一定时间后，就需要对腔室进行清洁以去除吸附表面的固化物。清洁腔室，去除腔室表面吸附的固化物，所广泛采取的方式是干燥清洁。传统的做法是把腔室抽真空后，在腔室里注入NF3气体,并设定压力值。当腔室压力达到设定值并稳定后，启动射频。在射频的作用下腔室内的NF3启辉产生等离子体。F-离子与腔室内表吸附的膜物质反应，使用由固体变本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其特征在于：包括/n腔室；/n用于提供气体的气柜；/n设在腔室顶部，通过电缆与主机联接的远程等离子发生器，所述远程等离子发生器的进气口与气柜的出气口连接，远程等离子发生器的进出气口与腔室的进气口连接；/n在气柜和远程等离子发生器连接的管路上设有对气体进行通断及流量设定与控制的气体流量计及气动阀；/n与腔室连接的用于调节阻抗的匹配器。/n

【技术特征摘要】
1.一种远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其特征在于：包括
腔室；
用于提供气体的气柜；
设在腔室顶部，通过电缆与主机联接的远程等离子发生器，所述远程等离子发生器的进气口与气柜的出气口连接，远程等离子发生器的进出气口与腔室的进气口连接；
在气柜和远程等离子发生器连接的管路上设有对气体进行通断及流量设定与控制的气体流量计及气动阀；
与腔室连接的用于调节阻抗的匹配器。


2.根据权利要求1所述的远程等离子清洁PECVD腔室的设备，其特征在于：其还包括用于对腔室排出的废气进行处理的废气处理柜，所述废气处理柜与腔室连接。


3.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈剑雨，陈清彬，林建兴，
申请(专利权)人：福建金石能源有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35