本发明在使用含金属材料的基片处理中，抑制热处理中的金属污染同时适当地形成含金属膜。基片处理系统具有对形成于基片上的含金属膜进行热处理的热处理装置。热处理装置包括：收纳晶片W的处理腔室(320)；设置于处理腔室(320)的内部，用于载置晶...

本发明提供能够使基板支承部件的轻量化和高刚度化兼得的基板支承部件、基板输送装置和基板支承部件的制造方法。本发明的一个方式的基板支承部件为能够在用于输送基板的基板输送装置中设置多个来支承所述基板的长条形状的基板支承部件，其特征在于：在长度...

提供一种基板搬送方法及基板处理系统，在具备将多个基板同时搬送的搬送装置的基板处理系统中，对基板的位置偏移进行校正并进行搬送。该基板搬送方法用于基板处理系统，该基板处理系统具备：多个处理室；装载锁定室；真空搬送装置，设置在将所述装载锁定室...

本公开提供一种基板处理装置和漏液探测方法，能够高精度地探测从设置于真空容器内的构造物的流路的漏液的技术。基板处理装置对基板进行处理。基板处理装置具备：真空容器，其具有能够减压为真空环境的内部空间；构造物，其设置于所述真空容器的内部，具备...

本实用新型涉及喷嘴以及基板处理装置。能够在使用流体与处理液的混合流体的液处理中将流体与处理液高效地混合。喷嘴是将包含加压后的纯水的蒸气或雾沫的流体与至少包含硫酸的处理液混合并喷出的喷嘴。喷嘴具备第1喷出口、第2喷出口以及导出路。第1喷出...

本发明提供能够高精度地检测涂敷处理的不良的涂敷处理装置、涂敷处理方法和存储介质。本发明的一个方式的涂敷处理装置包括支承件、基片保持部、线传感器和光源。支承件具有能够向基片释放功能液的多个释放头。基片保持部能够保持基片，并使基片相对于支承...

本公开涉及一种基板检查装置、基板检查方法以及计算机可读存储介质。基板检查装置使用对基板的表面进行拍摄而得到的图像来检查基板，所述基板检查装置具有：保持部，其用于保持基板；第一光源部，其用于对保持于保持部的基板射出可见光；第二光源部，其用...

本发明提供涂敷膜形成方法、涂敷膜形成装置和程序，提高基片面内的涂敷膜膜厚的控制性能。包括：涂敷工序，其对基片的正面的中心部供给涂敷液，使上述基片旋转以使上述涂敷液向该基片的周缘部扩展而形成涂敷膜；高温气体供给工序，其对旋转的该基片的背面...

本公开涉及一种基板检查装置、基板检查方法以及计算机可读存储介质。基板检查装置使用拍摄基板的表面而得到的图像来检查基板，所述基板检查装置具有：保持部(31)，其用于保持基板；第一光源部(51)，其用于对保持于保持部(31)的基板射出可见光...

本公开说明一种基板处理装置、基板处理方法以及计算机可读取的记录介质，能够高精度地测定形成于基板的表面的膜的厚度。基板处理装置具备：旋转保持部，其构成为保持基板并使所述基板旋转；药液供给部，其构成为在旋转保持部使基板旋转期间向基板的表面供...

本发明的基片处理方法包括下述(A)～(C)。(A)准备基片，该基片具有在氧等离子体中暴露过的Low

本发明提供使被处理基片的各产品区域周边的曝光分辨率提高的辅助曝光装置、曝光方法和存储介质。辅助曝光装置包括输送部、光源单元和聚光透镜。输送部在第一方向上输送包含多个产品区域和位于各产品区域的周边的周边区域的被处理基片。光源单元在与第一方...

本发明提供一种基板分析系统、基板分析方法以及存储介质，能够高效地分析关于基板处理的处理状态。分析装置(10)具备：摄像单元(11)，其拍摄基板表面；缺陷范围估计部(131)，其基于摄像单元(11)的摄像结果来估计在基板表面产生了缺陷的范...

本发明提供控制方法和等离子体处理装置。一种具有载置被处理体的第一电极的等离子体处理装置的控制方法，其包括：对上述第一电极供给偏置功率的步骤；和将具有比上述偏置功率高的频率的生成源功率供给到等离子体处理空间的步骤，上述生成源功率具有第一状...

本发明提供能够形成杂质少的金属氧化膜的成膜方法和成膜装置。对处理容器内的基片成膜金属氧化膜的成膜方法包括：向处理容器内供给含有有机金属前体的原料气体的步骤；在供给原料气体的步骤之后去除残留在处理容器内的残留气体的步骤；接着进行的向处理容...

本发明提供能够使RF电功率的损失和泄漏降低的等离子体处理装置和静电卡盘的制造方法。本发明的等离子体处理装置包括：等离子体处理腔室；配置在所述等离子体处理腔室内的基片支承部，所述基片支承部包括具有基片支承面的电介质部件、配置在所述电介质部...

本发明提供一种用于运送基板的机器人，该机器人包括臂部、手部、基板检测部以及基板形状异常检查部。所述手部被设置在所述臂部，保持且运送所述基板。所述基板检测部非接触检测所述基板的有无。所述基板形状异常检查部根据由被所述手部保持的状态的所述基...

本发明提供一种用于运送基板的机器人，该机器人包括臂部、手部、基板检测部以及基板形状异常检查部。所述手部被设置在所述臂部，保持且运送所述基板。所述基板检测部非接触检测所述基板的有无。所述基板形状异常检查部根据由被所述手部保持的状态的所述基...

一种制造电阻变化元件的方法。该方法可以包括在衬底之上形成叠层。所述叠层可以包括导电材料、电阻变化材料、第一表面和与第一表面相对的第二表面。该方法还可以包括在叠层之上沉积第一材料，使得第一材料与叠层的第一表面和第二表面中的至少一个直接接触...

本发明提供一种能够进行环组件相对于基板支承部的适当的定位的等离子体处理装置。一种等离子体处理装置，其包括：等离子体处理腔室；具有基板支承面和环支承面的基板支承部；具有至少3个贯通孔的绝缘性环，贯通孔分别具有上侧孔部分和下侧孔部分，所述上...