本发明的目的在于提供一种预测控制对象中处理值的变化并利用预测结果的结构。本发明的管理装置，包括：预测模型部，学习了控制对象中的时刻T时的多变量控制值与所述控制对象中的时刻T+ΔT时的多变量处理值的输入输出关系；以及优化模型部，探索将由所...

在部件更换方法中，将部件更换装置与处理装置的腔室连接(工序a)。然后，利用设置在输送臂的末端执行器的距离传感器，测量从腔室内的规定位置到输送臂的第一距离(工序b)。然后，使末端执行器移动至第一距离与第二距离之差小于第三距离的位置(工序c...

本发明提供一种基板输送装置和基板输送方法。抑制从基板的周缘部产生灰尘，并且防止对处理后的基板带来处理前的基板的不良影响。实施方式所涉及的基板输送装置具备第一支承部和第二支承部以及升降机构。第一支承部和第二支承部从基板的下方支承基板。升降...

本发明提供一种抑制接合后的基板的应变的接合装置和接合系统。本实施方式所涉及的接合装置具备第一保持部、第二保持部以及撞击器。第一保持部从上方吸附保持第一基板。第二保持部配置在第一保持部的下方，从下方吸附保持第二基板。撞击器从上方按压第一基...

本发明提供一种能够提高气体流路的设计的自由度的基片处理装置。基片处理装置包括：处理腔室；设置在所述处理腔室内的、用于保持基片的基片支承部；和与所述基片支承部相对的喷淋头，所述喷淋头具有：形成有用于排出气体的气体流路的喷淋板；和用于保持所...

本公开提供一种等离子体处理装置和程序。等离子体处理装置具有：静电保持盘，其利用被供给到静电电极的电压来吸附基板；继电器电路，其将针对静电电极的电压的供给接通和切断；等离子体生成部，其生成等离子体；以及控制部，其中，控制部控制以下处理：(...

提供一种基板处理方法，所述基板处理方法包括以下工序：准备形成有层叠膜的基板，所述层叠膜至少具有蚀刻对象膜、配置于所述蚀刻对象膜的下层的基底层以及配置于所述蚀刻对象膜的上层的掩模；通过等离子体借助所述掩模来对所述蚀刻对象膜进行蚀刻；以及在...

示例性实施方式所涉及的测定方法包括在第1时间内由温度传感器获取温度且获取设定相位调整电路的导纳的第1参数的工序。测定方法包括获取与在第1时间内所获取的温度对应的第2参数的工序。第2参数根据预先存储的第2参数组来生成。测定方法包括如下工序...

提供一种等离子体处理方法。该方法具备(a)向腔室内提供具有蚀刻膜以及掩模膜的基板的工序，基板具备蚀刻膜露出的第一区域和掩模膜露出的第二区域；(b)向腔室内供给包含含碳气体的处理气体，由处理气体生成等离子体，蚀刻蚀刻膜并且在掩模膜上形成保...

本发明提供能够并行地实施包含批次处理及单片处理的复合处理、和单片处理的基片处理系统、基片处理方法和存储介质。本发明的一个方式的基片处理系统包括：送入送出部，其送入送出收纳多个基片的盒；批次处理部，其对包含多个基片的基片组一并进行处理；单...

本发明涉及基板处理系统和基板处理方法。提供一种能够使基板处理系统的生产率提高的技术。本公开的一技术方案的基板处理系统具有：送入送出部，相对于该送入送出部将收纳多张基板的盒送入送出；批量处理部，其成批地处理包括多张所述基板的批次；单张处理...

本发明提供能够提高等离子体处理的均匀性的等离子体处理装置。本发明的等离子体处理装置包括腔室、窗部件、气体导入口和天线。腔室能够收纳基片。窗部件构成腔室的上部。气体导入口设置在腔室的侧壁和窗部件中的至少任一者上，用于向腔室内供给气体。天线...

本公开提供一种基板处理装置和基板处理方法，能够抑制被供给到处理容器内的处理气体绕到载置台的下表面侧。基板处理装置具备：处理容器；旋转台，其可旋转地设置于处理容器的内部；载置台，其在与旋转台的旋转中心分离的位置处能够与旋转台相对地旋转；处...

本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，用于降低超临界干燥后的基板的微粒水平。本公开的基板处理装置使用超临界状态的处理流体对表面附着有液体的基板进行超临界干燥处理，该基板处理装置具备：处理容器，其具有用于对基板进行超临界干燥处理的内部...

本发明提供一种防止异常放电的等离子体处理装置。等离子体处理装置包括：等离子体处理腔室；基片支承部，其设置于上述等离子体处理腔室内，用于保持基片；和与上述基片支承部相对的喷淋头，上述喷淋头具有喷淋板，上述喷淋板形成有释放气体的气体流路，并...

本公开涉及基板处理装置。提供一种能够调整顶部构件与基板之间的间隙的技术。本公开的一形态的基板处理装置具备：真空容器；载置部，其设置于所述真空容器的内部，该载置部具有载置基板的载置面；以及顶部构件，其设置于所述载置部的上方，所述顶部构件具...

根据本公开的一个方面的基板处理装置是在布置在处理容器内的基板上进行成膜的装置，该基板处理装置具有：处理气体供给部，向所述处理容器内供给处理气体，该处理气体包含原料气体和输送该原料气体的载体气体；真空泵，对所述处理容器内进行排气；以及吹扫...

提供一种能够将具有多个批量处理部的基板处理装置的设置面积设定为较小,并且能够容易地实施批量处理部的维护的技术。本发明的一个方式的基板处理装置包括:运入运出部,其具有供容纳有基板的容器被运入运出的第一侧面、以及与上述第一侧面相反侧的第二侧...

本公开提供一种基板支承方法和基板处理装置，在利用升降销来支承具有挠性的基板时将基板以所期望的形状进行支承。所述基板支承方法是使载置于载置台的载置面的、具有挠性的矩形形状的基板从所述载置面脱离并对该基板进行支承的基板支承方法，所述载置台具...

提供一种能够将具有多个批量处理部的基板处理装置的设置面积设定为较小,并且能够容易地实施批量处理部的维护的技术。本发明的一个方式的基板处理装置包括:运入运出部,其具有供容纳有基板的容器被运入运出的第一侧面、以及与上述第一侧面相反侧的第二侧...