本实用新型提供一种基板处理装置，能够提高与对基板进行的涂布液的涂布有关的便利性。抗蚀剂涂布装置具备：旋转保持盘，其保持基板来使基板旋转；杯，其以包围被保持于旋转保持盘的基板的方式配置；以及涂布液喷嘴，其构成为能够对基板喷出涂布液。另外，...

本发明的一方面的检查设备的设定方法，其用于使探针与在放置于载置台的基板上的芯片上形成的电极焊盘接触来检查基板的检查设备，包括下述步骤：获取包含安装在所述检查设备上的探针卡的所述探针的第一图像；根据基于所述第一图像计算出的包含所述探针的位...

本发明的等离子体处理装置包括腔室、基片支承器、高频电源和偏置电源。基片支承器包含电极且设置于腔室内。高频电源构成为能够供给高频功率以在腔室内从气体生成等离子体。偏置电源与基片支承器的电极电连接。高频电源构成为能够在腔室内等离子体被点火的...

本发明所公开的等离子体处理装置具备腔室、基片支承部、高频电源和偏置电源。高频电源为了在腔室内生成等离子体而产生源高频电力。偏置电源在多个脉冲期间的各个中将偏置能量的脉冲施加到偏置电极。高频电源根据源高频电力的反射程度的变化来设定分别与多...

一种基板处理装置，对由第一基板、界面层以及第二基板层叠地形成的重合基板进行处理，所述界面层至少包含激光吸收膜，所述基板处理装置具备：基板保持部，其保持所述重合基板；界面用激光照射部，其将激光脉冲状地照射于所述激光吸收膜；移动机构，其使所...

本发明提供一种热处理装置和热处理方法，能够改善含有水分的减压氛围下的氧化处理的均匀性。基于本公开的一个方式的热处理装置具有：处理容器，其能够减压；水分产生装置，其使氢与氧进行催化反应来生成水分；气体导入部，其向所述水分产生装置导入氢和氧...

本发明提供将附着于基片的物质高效地除去的基片处理方法和基片处理装置。基片处理方法进行基片的后处理，上述基片具有金属膜，并利用含氯的蚀刻等离子体对上述金属膜实施了蚀刻处理，上述基片处理方法包括：步骤a，将上述基片送入用于进行上述后处理的后...

提供一种基板处理系统、位置对准装置及基板形状监视方法。基板处理系统包括基板的载置台、旋转机构部、在旋转期间对基板的外形位置进行检测的传感器、控制装置。控制装置进行以下工序：(a)在最初使基板旋转时，使载置台以第一速度和第一加速度旋转；(...

本公开提供抑制基板处理在与升降销对应的位置变得不均匀的基板载置台、基板处理装置以及基板处理方法。一种基板载置台，其具有载置基板的载置面，其具备：基材；升降销，其由导体构成，相对于载置面升降，在上部与下部之间具有台阶，上部的直径比下部的直...

本公开提供一种抑制基板处理在与升降销相对应的位置处变得不均匀的基板载置台、基板处理装置以及基板处理方法。一种基板载置台，其具有载置基板的载置面，其中，该基板载置台具备：基材，其位于所述载置面的下方，由导体构成；升降销，其由导体构成，相对...

一种附带芯片的基板的制造方法，包括以下的(A)～(B)。(A)准备叠层基板，该叠层基板包括多个芯片、暂时地接合有多个所述芯片的第一基板、以及经由多个所述芯片接合到所述第一基板的第二基板。(B)为了将接合到所述第一基板和所述第二基板的多个...

本发明提供一种参数导出装置、参数导出方法和参数导出程序，其使用形状模拟器，导出模拟参数的全局性最佳解。参数导出装置包括：生成部，用于生成表示在相同处理条件下处理的基板的处理前形状的数据和表示处理后形状的数据的多个组合，在所述多个组合中，...

本发明提供一种预测方法和信息处理装置，预测等离子体蚀刻处理的处理结果。预测方法包括计算工序和预测工序。在计算工序中，计算对配置于腔室内的基板实施了等离子体蚀刻处理时的腔室内的磁场的空间分布值与针对基板进行的等离子体蚀刻处理的处理结果之间...

本发明提供能够抑制上部电极的异常放电的上部电极和等离子体处理装置。本发明的上部电极在电容耦合型的等离子体处理装置中构成喷淋头。上部电极包括第一部件、第二部件和第三部件。第一部件由导电体形成。在第一部件形成有第一气孔。第一气孔贯穿第一部件...

本发明提供辅助热处理装置的恢复的信息处理装置、程序和恢复辅助方法。利用具有运转状况数据收集部、运转状况数据保存部和运转状况数据提供部的信息处理装置来解决上述技术问题，上述运转状况数据收集部构成为能够收集设置于制造工厂的多个热处理装置的运...

表面改性装置是通过处理气体的等离子体对基板的要与其它基板接合的接合面进行改性的表面改性装置。表面改性装置具备处理容器、测定部以及控制各部的控制部。处理容器以能够收容基板的方式构成。测定部测定表示处理容器内的水分量的值。控制部基于由测定部...

本发明提供状态管理系统、状态管理方法和程序。状态管理系统具有：获取累积数据的获取部；执行部，其使用数据中的多种数据按每个周期执行用于计算表示装置状态的特定指标的处理；和显示控制部，其显示表示计算出的特定指标的时序变化的时序数据，执行部执...

本发明提供一种基板处理方法和基板处理系统，在进行超临界干燥处理时防止或者至少抑制形成于基板的表面的图案的损坏。基板处理方法包括：脱气工序，去除处理液中的溶解气体；液膜形成工序，将被去除了所述溶解气体的所述处理液供给到基板的表面，来形成覆...

本公开提供一种计算机程序、基板接合系统以及基板接合方法，能够判定保持于保持盘的基板的异物类别。计算机程序使计算机执行以下处理：获取保持于保持盘的基板的表面的多处的位移数据，基于获取到的位移数据来确定表面的位移分布，以及基于确定出的分布来...

本公开提供一种异常放电判定方法、异常放电判定系统和基板处理装置，通过机器学习完毕的判定模型来判定等离子体处理腔室的内部有无异常放电的发生。一种异常放电判定方法，通过机器学习完毕的判定模型来判定等离子体处理腔室的内部有无异常放电的发生，所...