本发明公开了一种工艺气体流量补偿的装置及方法、半导体处理设备。包括工艺管路以及依次串接在所述工艺管路并选择性连通的气源罐、初级流量计、缓存罐和次级流量计；所述装置还包括压力计以及与所述压力计电连接的控制器；其中，所述压力计，用于实时检测...

本发明公开了一种气路控制方法及装置、半导体处理设备。所述方法包括：接收用户的配置气路控制模式请求；根据所述配置气路控制模式请求，从所述控制集合中选取特定的若干个阀门和/或特定的若干个流量计，并为每个所述阀门配置开关状态和/或为每个所述流...

本实用新型提供一种内衬结构、反应腔室和半导体加工设备，该内衬结构包括：内衬主体，包括构成阶梯结构的上环部和下环部，且下环部的外径小于上环部的内径；并且，在上环部上设置有用于供被加工工件出入的内衬开口，该内衬开口延伸至上环部的下端；内门，...

本实用新型提供一种工艺腔室及半导体加工设备，包括腔室本体、腔室盖、基座和用于产生等离子体的绝缘筒，其中，腔室盖设置在腔室本体的顶部，并在腔室盖上设置有供等离子体进入腔室本体内部的进入开口；绝缘筒设置在腔室盖上，与腔室盖上表面连接，且绝缘...

本发明提供一种内衬及反应腔室，该内衬包括：内衬主体；环形匀流板，与内衬主体的底部固定连接，且在环形匀流板中设置有沿其周向均匀分布的多个第一通孔；调节板，与环形匀流板叠置，且在调节板中设置有与多个第一通孔一一对应的多个第二通孔；在调节板位...

本发明提供一种工艺气体的吹扫方法，包括：工艺前阶段，在被加工工件进行主工艺之前，向进气管路通入吹扫气体，以对进气管路进行吹扫，且使吹扫后的气体直接进入排气管路；工艺后阶段，在被加工工件进行主工艺之后且移出反应腔室后，向进气管路通入吹扫气...

本发明提供一种波纹管以及薄膜沉积设备，属于沉积设备技术领域，其可至少部分解决现有的可伸长或者收缩的波纹管不能自限位的问题。本发明的一种波纹管，包括：本体，本体能够在轴向上伸长或者缩短；销轴，设于本体外侧，且处于本体的轴向上的第一位置；挂...

本发明公开了一种PVD溅射设备的晶圆按指定路径回盘的控制方法和系统，其中控制方法包括以下步骤：选择源腔室和目的腔室，并选择源腔室的托盘位置和目的腔室的托盘位置；选择工艺配方，工艺配方包括目标晶圆从源腔室传输至目的腔室将要执行的工艺参数；...

本发明提供一种半导体设备的远程群组控制系统，该群组控制系统包括：服务器、至少一个客户端，其中，客户端通过第一预设协议与服务器通信连接，服务器通过第二预设协议与至少一个半导体设备群组通信连接，半导体设备群组中包括至少一个半导体设备；服务器...

本发明涉及升降门及槽式清洗机。该升降门包括左导向板、右导向板和升降门组件，所述升降门组件位于所述左导向板和所述右导向板之间，其中：所述升降门组件包括前门板、后门板、顶盖和升降机构，所述升降机构夹设于所述前门板和所述后门板之间，所述顶盖设...

本发明涉及一种溅射装置，包括：腔室；基座，设置于腔室内，用于承载待加工工件；溅射机构，设置于腔室上，溅射机构用于待加工工件的溅射工艺；顶针机构，设置于腔室内，顶针机构用于在待加工工件进行回流工艺时，将待加工工件从基座上顶起并承载待加工工...

本发明公开了槽盖开关机构及槽式清洗机。该槽盖开关机构包括气缸组件、固定板组件、垫板、槽盖组件，其中：气缸组件包括连杆、气缸、支架，连杆和支架安装在固定板组件上，气缸底部与支架铰接并绕支架可转动，气缸的活塞杆与连杆铰接，连杆绕接头转动；槽...

本发明公开了振动机构及槽式清洗机。该振动机构包括依次连接的电机组件、轴承组件、凸轮组件、直线运动组件和振动臂组件，所述电机组件、所述轴承组件和所述振动臂组件均安装在所述直线运动组件上，所述凸轮组件安装在所述轴承组件上，所述电机组件输出动...

本发明提供一种气体混合装置及半导体加工设备，气体混合装置包括引流组件、混合腔和出气组件，其中，引流组件与用于提供多种工艺气体的多个工艺气体管路连接，用于将每种工艺气体均分流为多股气流；且引流组件还与混合腔连通，用于将分流形成的多种工艺气...

本发明提供一种静电卡盘，其包括：导热层，用于承载晶片，在导热层中内置有用于加热晶片的加热电极；第一绝热层，设置在导热层的下方，且与导热层连为一体，并且第一绝热层的导热系数小于导热层的导热系数；以及第二绝热层，设置在第一绝热层的下方，且第...

本申请实施例提供了一种冷却装置及其控制方法、半导体加工设备。冷却装置用于对托盘进行冷却，其包括腔室以及设置于腔室内的驱动单元、冷却单元及加热单元；所述驱动单元用于驱动所述托盘移动，以带动所述托盘选择性位于第一位置或第二位置；所述冷却单元...

本发明提供一种托盘翻转台，用于翻转可承载晶片的托盘，包括按压装置和底板，按压装置上设置有多个可容纳螺丝的通孔；按压装置还包括吸附件，将吸附件套设其内；吸附件用于吸附通过通孔的螺丝，以防止螺丝从按压装置上脱落。本发明提供的托盘翻转台，能够...

本发明提供了一种易碎管件的固定组件，包括：支撑件和限位件；所述限位件固定在所述支撑件上，且二者形成有容纳所述易碎管件的管凸台并在所述易碎管件的轴向和径向上进行限位的空间，用于防止所述易碎管件倾倒。本发明还提供一种包括上述易碎管件的固定组...

本发明提供一种刻蚀方法，包括：向反应腔室内通入第一催化气体、第二催化气体和工艺气体，使第一催化气体和第二催化气体均参与反应，以对待加工工件进行刻蚀；以及去除在待加工工件上形成的固态产物。本发明提供的刻蚀方法能够在刻蚀后，降低刻蚀量的差异...

一种电感耦合等离子体系统，其包括壳体、下部电极、射频源、匹配器以及电流回流装置。所述壳体接地且所述壳体形成腔室。所述下部电极置于所述腔室内，并用于承载工作件；所述匹配器的一端通过所述壳体的接口连接至所述下部电极，另一端连接至所述射频源。...