本公开提供了一种馈入结构、上电极组件以及物理气相沉积腔室和设备。射频功率经馈入结构的引入杆中心馈入，并由多个分配杆均匀分配到靶材。

本发明公开了一种用于硅通孔填充的磁控溅射腔室和半导体处理设备。本发明的磁控溅射腔室包括腔体、设置于腔体顶部的靶材、设置于靶材上方的磁控管、以及设置于腔体内部且位于靶材下方的基座，磁控管在靶材上的投影面积小于五分之一的靶材面积，以提高介质...

本发明公开了一种半导体工艺配方的管理系统和方法，其包括配方编辑管理模块、配方数据管理模块、配方传输管理模块和配方控制管理模块，其中，配方编辑管理模块采用对配方参数图形对象化的编辑方式生成工艺配方，实现了配方参数的编辑可视化、直接明了，便...

本发明公开了一种半导体软件模板系统，包括界面模板模块、界面编辑模块和界面动态布局模块，其中，界面模板模块生成了软件界面模板，能被各个功能单元共用，界面编辑模块与界面模板模块存在一一对应的关系，便于软件开发人员通过统一的界面模板进行编辑和...

本发明公开了一种微环境与晶圆盒之间接口的密封装置，包括：框形密封圈固定板，密封叠设于接口面向晶圆盒的一侧；框形密封圈支撑板，可调节叠设于密封圈固定板外侧；框形密封圈，固定在密封圈支撑板上，并至少将其内外两侧壁的部分环绕覆盖；其中，当晶圆...

本发明公开了一种立式多工位石英管清洗机，包括：清洗平台，转动设于本体内，清洗平台表面绕其中心贯通设有若干安装孔，安装孔内侧设有转盘，石英管固定在转盘上，受其带动进行自转，并在清洗平台带动下进行公转；一至若干外喷管，竖直设于本体内，并位于...

本发明公开了一种卧式石英舟清洗机及清洗方法，通过利用花篮承载石英舟，并在机械手带动下进行反复升降或/和水平运动，以搅动超纯水工艺槽、化学工艺槽内的清洗液体，使石英舟可得到有效的振动清洗，并可伴随溢流及鼓气清洗工艺，从而实现了对石英舟的自...

本发明公开了一种热处理设备的工艺门冷却系统，包括设于热处理设备工艺门上的热交换件和控制单元。热交换件包括冷却液进口、冷却液出口、同心设置的外环冷却管路和内环冷却管路、以及开关元件。控制单元在热处理工艺中根据热处理工艺不同工艺步骤的设定温...