ASML荷兰有限公司专利技术

ASML荷兰有限公司共有3480项专利

  • 一种芯片上对准传感器包括照射系统,所述照射系统被配置成发射辐射束以照射衬底上的目标。所述芯片上对准传感器还包括第一捕获光栅,所述第一捕获光栅被配置成接收由所述目标衍射的第一衍射阶辐射束并且产生第一引导模态的辐射。所述芯片上对准传感器还包...
  • 公开了一种检测诸如反射性掩模衬底的衬底上的缺陷的方法以及相关联的设备。所述方法包括使用第一检测辐射来执行检测,第一检测辐射从高次谐波生成源获得并且具有在20nm和150nm之间的第一波长范围内的一个或多个第一波长。还公开了一种方法,该方...
  • 本发明提供一种对被用来生成EUV辐射的微滴进行加速的装置和方法,该装置包括布置和微滴源,该布置产生被引导到辐照区域的激光射束。该微滴源包括以流形式离开喷嘴的流体,该流分解成随后经历聚结的微滴。使出于对微滴进行加速的目的而提供的气体在流向...
  • 一种用于优化图案化装置图案的方法,该方法包括:获得具有多个多边形的初始设计图案;使多边形中的至少一些多边形有效地彼此连接;将评估特征放置在多边形的边界之外;以及基于评估特征来创建跨越已连接的多边形的图案化装置图案。
  • 本文中公开了一种带电粒子装置,被配置为使用带电粒子射束检查样品。带电粒子装置包括检测器组件或多极元件阵列。带电粒子装置包括电子设备、功率源和功率转换器;该功率源被配置为输出辐射;该功率转换器被配置为从功率源接收辐射、将所接收到的辐射转换...
  • 公开了一种缺陷检查系统。根据某些实施例,该系统包括存储器,该存储器存储被实现为多个模块的指令。多个模块中的每个模块被配置为检测具有不同属性的缺陷。该系统还包括控制器,该控制器被配置为使计算机系统:接收表示晶片的图像的检查数据;将检查数据...
  • 一种检查系统,包括投影系统,所述投影系统包括:辐射源,所述辐射源被配置成沿照射路径传输照射束;和孔径光阑,所述孔径光阑被配置成选择所述照射束的一部分。所述检查系统还包括:孔径光阑,所述孔径光阑选择所述照射束的一部分;和光学系统,所述光学...
  • 本文披露了一种用于确定光刻设备中的结构的热致变形的方法,所述方法包括:获得光刻设备中的结构的定时数据,其中所述定时数据包括所述结构的当前状态的定时数据、和包括所述结构的至少一个先前状态的定时数据的定时历史数据;和使用一个或更多个模型,以...
  • 本发明提供了一种用于带电粒子系统的带电粒子光学设备。该设备朝向样品投射带电粒子束阵列。该设备包括用以控制束阵列的参数的控制透镜阵列;以及用以将束阵列投射到样品上的物镜阵列,物镜阵列在控制透镜的束下游。物镜阵列包括:上部电极;以及包括束上...
  • 披露了一种从目标测量重叠或聚焦参数的方法和相关联的量测设备。所述方法包括通过以下操作来配置测量辐射以获得所述测量辐射的经配置的测量光谱:对所述测量辐射的多个单独的波长带施加强度加权,使得所述多个单独的波长带具有与所述强度加权一致的强度,...
  • 披露了一种使用量测工具测量衬底上的目标的方法,所述量测工具包括:照射源,所述照射源能够操作以发射用于照射所述目标的照射束;以及量测传感器,所述量测传感器用于收集已经由所述目标散射的散射辐射。所述方法包括:基于以下各项计算目标角:所述目标...
  • 本发明涉及一种表膜组件、一种制备表膜组件的方法、一种用于光刻设备的动态气锁以及一种光刻设备。所述表膜组件包括表膜框架,所述表膜框架限定表膜所附接到的表面。所述表膜组件包括一个或更多个三维膨胀结构,所述三维膨胀结构允许所述表膜在应力下膨胀...
  • 本公开涉及激光系统。激光系统包括:可操作以生成激光束的激光器;包括第一光学元件和第二光学元件的光学系统;以及激光束离开激光系统的输出端;激光器、光学系统和输出被布置为使得激光束依次行进到第一光学元件、第二光学元件和输出端;其中第一光学元...
  • 本发明涉及一种用于种子激光器的光学隔离器,包括:声光调制器晶体,所述声光调制器晶体被配置成操控入射到所述声光调制器晶体的激光,和至少一个冷却系统,所述至少一个冷却系统被配置成调节所述声光调制器晶体的温度,所述冷却系统包括:冷却元件,所述...
  • 一种带电粒子检测器可以包括形成在衬底中的多个感测元件,其中多个感测元件中的感测元件由衬底的第一侧上的第一区域和衬底的第二侧上的第二区域形成,第二侧与第一侧相对。检测器还可以包括形成在衬底的第二侧上的多个第三区域,第三区域包括一个或多个电...
  • 披露了一种光学设备,所述设备包括:光学元件,所述光学元件具有用于在束路径中反射入射辐射的反射表面;和至少一个传感器,所述至少一个传感器被配置成感测与所述光学元件的背侧表面的相应部分的温度对应的辐射。也披露了一种控制光刻设备中的光学元件的...
  • 公开了一种对带电粒子检查系统执行自诊断的改进方法。一种改进方法包括:基于带电粒子检查系统的输出数据来触发自诊断;响应于对自诊断的触发,接收带电粒子检查系统的子系统的诊断数据;基于子系统的诊断数据来识别与输出数据相关联的问题;以及根据所识...
  • 本发明涉及一种产生用于控制或监控生产过程的所预测的性能数据的方法。获得与所述生产过程的操作相关联的情境数据。对所述生产过程的产品执行量测/测试,由此获得性能数据。提供情境对性能的模型以基于用性能数据对所述情境数据进行标记来产生所预测的性...
  • 本发明提供了用于检测次级带电粒子和反向散射带电粒子的各种技术,包括:沿着子束路径,加速带电粒子子束到达样品;从检测器阵列排斥次级带电粒子;使用反射镜检测器阵列;使用多个检测器阵列;以及提供可以在主要检测带电粒子的模式和主要检测次级粒子的...
  • 一种用于调节和引导辐射束的装置,包括第一光学部件和能量传感器。第一光学部件包括可独立移动的反射光学元件的二维阵列,该可独立移动的反射光学元件的二维阵列被布置为从辐射源接收辐射。可独立移动的反射光学元件的二维阵列包括:第一集合,被配置为将...