提供了用于制造衬底台的系统、装置和方法。示例方法可以包括：形成真空片，该真空片包括多个真空连接部和被配置为接纳多个突节的多个凹部，该多个突节被设置在芯体上以用于支撑诸如晶片之类的物体。可选地，至少一个突节可以由沟槽部分或全部包围。示例方...

本发明提供一种干涉仪系统，包括：

公开了一种确定与衬底上的结构相关的感兴趣的特性的方法、掩模版、衬底。方法包括：获得结构的输入图像；和使用训练后的神经网络以从所述输入图像确定感兴趣的特性。从所述输入图像确定感兴趣的特性。从所述输入图像确定感兴趣的特性。

公开了用于将初级电子射束沿着初级射束路径引导到样品上的装置和方法。在一种布置中，射束分离器使从样品沿着初级射束路径发射的次级电子射束远离初级射束路径转向。色散设备位于射束分离器的射束上游。色散设备补偿由射束分离器在初级射束中引起的色散。...

一种对量测目标的电磁响应进行仿真的方法，该量测目标包括第一光栅和第二光栅，其中，该第二光栅位于该第一光栅下方，该方法包括：接收模型，该模型(i)将该第一光栅限定为在节距内具有第一数量的光栅线，该第一数量的光栅线中的每条光栅线相隔第一节距...

描述一种模块式自动编码器模型。该模块式自动编码器模型包括：输入模型，该输入模型被配置成将一个或更多个输入处理成适于与其它输入组合的第一级维度；共同模型，该共同模型被配置成：降低所组合的经处理的输入的维度以在潜在空间中产生低维度数据；并且...

一种量测设备，所述量测设备用于确定在半导体衬底中或在所述半导体衬底上制作的结构的一个或更多个参数。所述设备包括换能器阵列，所述换能器阵列包括定位在平面中的多个换能器。所述多个换能器包括：用于向所述结构发射在从1GHz至100GHz的频率...

描述一种模块式自动编码器模型。该模块式自动编码器模型包括：输入模型，该输入模型被配置成将一个或更多个输入处理成适于与其它输入组合的第一级维度；共同模型，该共同模型被配置成：降低所组合的经处理的输入的维度以在潜在空间中产生低维度数据；并且...

一种辐射源，用于生成宽带辐射，并且包括：泵浦源，该泵浦源仅包括一个单光纤放大器，该泵浦源被配置辐射，泵浦辐射包括具有2.5μJ或小于2.5μJ的脉冲能量的多个辐射脉冲；以及中空纤芯光纤，包括中空纤芯区域和围绕中空纤芯区域的包层，中空纤芯...

公开了一种用于清洁晶片检查系统的真空紫外(VUV)光学器件(例如VUV反射镜)的方法和设备。该清洁系统使VUV光学器件环境中的氢气离子化或离解，以产生从反射镜的表面去除水或碳氢化合物的氢自由基(例如H

一种污染减少系统，用于减少等离子体环境中的图案化系统的污染，其包括：支撑件，被布置成将图案化系统保持在辐射束中；遮光件，被配置成为图案化系统遮挡辐射束的一部分；以及电极，定位在遮光件和支撑件之间，电极连接到电压源，并被配置成在电极和由支...

一种用于训练机器学习模型的方法包括获取与衬底相关联的一组未配对的显影后(AD)图像和蚀刻后(AE)图像。该组中的每个AD图像是在衬底上与获取任何AE图像的位置不同的位置获取的。该方法还包括基于AD图像和AE图像来训练机器学习模型，以生成...

使用光刻设备在衬底上形成图案的方法，光刻设备被设置有图案形成装置以及具有色差的投射系统，方法包括：向图案形成装置提供包括多个波长分量的辐射束；使用投射系统在衬底上形成图案形成装置的图像以形成所述图案，其中图案的位置由于所述色差而依赖于辐...

一种包括半导体芯片的电子器件，半导体芯片包括形成在半导体芯片中的多个结构，其中半导体芯片是半导体芯片集合的成员，半导体芯片集合包括半导体芯片的多个子集，并且半导体芯片是仅一个子集的成员。半导体芯片的多个结构包括对于半导体芯片集合中的所有...

本公开涉及一种用于测量衬底上的目标的感兴趣参数的量测设备，该量测设备包括：m*n个检测器，其中m≥1且n≥1；第一框架；(n

公开了一种量测设备及相关方法，量测设备用于测量通过光刻过程在衬底上形成的目标。量测设备包括：辐射源，可操作以提供第一辐射；经配置的固体高次谐波产生介质，被配置成接收第一辐射，并被第一辐射激励，以从经配置的固体高次谐波产生介质的输出表面产...

一种宽带光源装置被配置为用于在接收到泵浦辐射时产生宽带输出辐射，所述宽带光源装置包括：空芯光子晶体纤维(HC

提供一种用于清洁光刻设备的部件的清洁设备，所述设备包括第一清洁表面，所述第一清洁表面被配置成与位于待清洁的表面上的污染物粒子物理地相互作用，以从所述待清洁的表面移除所述污染物粒子。还描述了一种用于清洁光刻设备的部件的清洁尖端、一种清洁光...

一种用于带电粒子评估工具的多束电子光学系统，该系统包括：包括多个物镜的物镜阵列组件，每个物镜被配置为将多个带电粒子束中的一个带电粒子束投射到样品上；检测器阵列，其与物镜阵列组件相关联并且被配置为检测从样品发射的带电粒子；以及电路，其包括...

公开了干涉仪头。输入辐射束的第一部分入射在第一部分反射表面上并从第一参考表面朝向第一输出端子反射。输入辐射束的第二部分入射在第二部分反射表面上并从第二参考表面朝向第二输出端子反射。输入辐射束的第三部分朝向测量表面传输。来自测量表面的反射...