提供了一种用于光刻设备的调节系统，所述调节系统被配置成调节光刻设备的一个或多个光学元件，其中所述调节系统被配置成在一个或多个光学元件处具有亚大气压力。还提供了包括这种调节系统的光刻设备、这种调节系统的用途、调节系统的方法以及包括亚大气压...

本文公开了用于标识样品中的缺陷的检查工具和方法。方法包括以下步骤：使用第一检测器射束来扫描样品的第一区域以及使用第二检测器射束来扫描样品的第二区域，然后接收从第一和第二检测器射束导出的第一和第二信号。第一和第二信号被比较以确定样品中是否...

提供了一种推断用于一个或多个当前衬底的当前采样方案的方法，所述方法包括：获得第一模型，所述第一模型被训练以基于与一个或多个先前衬底相关联的输入上下文和/或预曝光数据来推断最佳采样方案，其中所述第一模型依据第二模型的结果而被训练，所述第二...

本文公开了一种用于检测真空工具中的气体的残余气体分析装置，包括：一个或多个离子源，被配置成电离余气体分析装置中的气体；一个或多个检测器，被配置成检测由离子源电离的气体；以及一个或多个气体产生丝，被配置成在残余气体分析装置内产生气体。残余...

本文中描述一种用于产生用于图案化过程的掩模图案的方法。所述方法包括：获得(i)目标图案内的目标特征子集(例如，过近的特征)，所述目标特征子集具有低于阈值的物理特性值，和(ii)与所述目标图案相关联的初始掩模图案(例如，使用现有OPC过程...

一种使光学元件热变形的方法，所述光学元件包括热膨胀系数与温度有关的材料，所述方法包括：将热传递至所述光学元件或从所述光学元件传递热以建立所述光学元件的温度设定点，使得所述热膨胀系数具有非零值，和加热所述光学元件以产生所述光学元件的热变形...

一种操作带电粒子束装置的次级成像系统的方法可以包括使用反扫描模式。次级成像系统的组件的激励可以与初级扫描偏转单元同步地被调节。与执行反扫描的反扫描偏转单元一起，可以同步调节次级成像系统的组件，诸如透镜。当扫描和反扫描被执行时，组件的激励...

一种操作带电粒子束装置的次级成像系统的方法可以包括使用反扫描模式。次级成像系统的组件的激励可以与初级扫描偏转单元同步地被调节。与执行反扫描的反扫描偏转单元一起，可以同步调节次级成像系统的组件，诸如透镜。当扫描和反扫描被执行时，组件的激励...

干涉仪系统，包括：第一检测器，所述第一检测器用于接收行进到参考表面的第一测量束；第二检测器，所述第二检测器用于接收适于行进经过所述目标表面的第二测量束；参考可变延迟路径和/或测量可变延迟路径以及用于适配延迟长度的延迟路径控制器。在参考相...

本文中描述了一种用于训练去模糊模型并且使用去模糊模型和与经图案化的衬底的多个层相关联的深度数据来使经图案化的衬底的图像(例如，SEM图像)去模糊的方法和系统。该方法包括：使用目标图案作为输入经由模拟器获得衬底的模拟图像，该目标图案包括要...

提供了一种用于检查样品的带电粒子束设备。该设备包括像素化电子检测器，该像素化电子检测器用于接收响应于发射的带电粒子束入射到样品上而生成的信号电子。像素化电子检测器包括以网格图案布置的多个像素。多个像素可以被配置为生成多个检测信号，其中每...

本文描述了一种用于光刻设备的流体处理系统，其中流体处理系统被配置成将浸没液体限制于投影系统的一部分与光刻设备中的衬底的表面之间的液体限制空间，由此从投影系统投影的辐射束能够通过穿过浸没液体而照射衬底的表面，流体处理系统包括：阻尼部，阻尼...

公开了一种用于针对多个目标高度调节衬底的工作高度的检查装置。该检查装置包括被配置为提供辐射束的辐射源和被配置为将辐射束拆分成多个束波的分束器，每个束波反射离开衬底。每个束波包含多个波长的光。该检查装置包括多个光反射组件，其中每个光反射组...

本文公开了一种被配置为朝向目标投射多束带电粒子的多束带电粒子柱，该多束带电粒子柱包括：至少一个孔径阵列，包括至少两个不同孔径图案；以及旋转器，被配置为在不同孔径图案之间旋转该孔径阵列。案之间旋转该孔径阵列。案之间旋转该孔径阵列。

一种用于晶圆光刻的晶圆保持装置(10)的处理方法，晶圆光刻例如为浸没式光刻或真空条件下的光刻，其中，晶圆保持装置(10)包括具有能够导电的金刚石覆层(12)的承载体(11)。在晶圆保持装置(10)上，通过金刚石覆层(12)、对电极(21...

本文中公开了一种孔径阵列，该孔径阵列被配置为限定在带电粒子装置中在扫描方向上被扫描的子射束，孔径阵列包括以孔径图案布置的多个孔径，该孔径图案包括：多个平行孔径行，其中孔径沿着孔径行布置并且孔径行相对于扫描方向倾斜；限定孔径图案的边缘的边...

本发明提供了一种载物台，所述载物台包括：

公开了一种光刻设备。光刻设备包括：被配置为支撑衬底的衬底台；致动器，其可配置为在基本上平行于衬底的表面的平面中移动衬底台；投射系统，其被配置为用在扫描曝光方向上对准的场对衬底进行图案化；水平传感器，其被配置为使用多个测量点来感测衬底的高...

公开了涉及用于带电粒子评估工具的物镜阵列组件的布置。在一种布置中，该组件包括物镜阵列和控制透镜阵列。每个物镜将多射束的相应子射束投射到样品上。控制透镜阵列与物镜阵列相关联，并且定位在物镜阵列的上游。控制透镜预聚焦子射束。镜预聚焦子射束。...

本文公开了一种用于光刻设备的流体处理系统，其中，所述流体处理系统被配置成将浸没液体限制于所述光刻设备中的投影系统的部分与衬底的表面之间的液体限制空间，从而从所述投影系统投影的辐射束能够通过穿过所述浸没液体而照射所述衬底的表面，所述流体处...