载物台、台式设备、保持方法和光刻设备技术

本发明专利技术提供了一种载物台，所述载物台包括：

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】载物台、台式设备、保持方法和光刻设备


[0001]本专利技术涉及一种可以应用于保持半导体衬底或图案形成装置的载物台、保持方法、台式设备和光刻设备。

技术介绍

[0002]光刻设备是一种被构造为将期望图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如，掩模)的图案(通常也称为“设计布局”或“设计”)投影到设置在衬底(例如，晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层上。
[0003]随着半导体制造过程的不断进步，电路元件的尺寸已经不断减小，而每个器件的功能元件(诸如晶体管)的量在几十年内一直在稳步增加，这遵循通常被称为“摩尔定律”的趋势。为了跟上摩尔定律，半导体行业正在追求能够创造越来越小的特征的技术。为了将图案投影到衬底上，光刻设备可以使用电磁辐射。该辐射的波长决定了可以在衬底上图案化的特征的最小尺寸。当前使用的典型波长是365nm(i线)、248nm、193nm和13.5nm。与使用例如波长为193nm的辐射的光刻设备相比，使用波长在4nm至20nm的范围内(例如，6.7nm或13.5n本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种载物台，包括：
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保持表面，所述保持表面用于保持物体；
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致动器装置，所述致动器装置被配置成在所述物体上施加保持力以将所述物体保持到所述保持表面；由此，所述致动器装置被进一步配置成在所述物体被保持到所述保持表面的同时，通过将所述物体的多个部分与所述保持表面顺序地分离和重新附接而减小由所述保持力在所述物体中引起的应变。2.根据权利要求1所述的载物台，其中，所述载物台包括基板和从所述基板突出的多个突节，并且其中，所述保持表面包括所述多个突节的端面。3.根据权利要求1或权利要求2所述的载物台，其中，所述致动器装置包括夹持装置，所述夹持装置被配置成在所述物体上施加所述保持力。4.根据权利要求3所述的载物台，其中，所述夹持装置被配置成选择性地减小施加在所述物体的一部分上的局部保持力。5.根据权利要求4所述的载物台，其中，所述局部保持力的减小被配置成使所述物体的所述部分与所述保持表面分离。6.根据权利要求3至5中任一项所述的载物台，其中，所述致动器装置还被配置成在所述物体上施加排斥力，所述排斥力起抵抗所述保持力的作用。7.根据当引用权利要求2时的权利要求6所述的载物台，其中，所述基板包括凹部，所述凹部被配置成接收用于产生所述排斥力的气体。8.根据权利要求3至7中任一项所述的载物台，其中，所述夹持装置包括静电夹持装置，所述静电夹持装置包括多个单独的电极。9.根据权利要求8所述的载物台，其中，所述静电夹持装置被配置成通过选择性地使所述多个电极中的一个或更多个电极断电和再通电而选择性地减小施加在所述物体的一部分上的局部保持力。10.根据权利要求2所述的载物台，其中，所述致动器装置包括安装到所述基板的多个致动器。11.根据权利要求10所述的载物台，其中，所述多个致动器被配置成将排斥力选择性地施加到所述物体上，所述排斥力起抵抗所述保持力的作用。12.根据权利要求10或11所述的载物台，其中，所述致动器装置被配置成：
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启用所述多个致动器的第一子集，从而将所述支撑表面的第一部分与所述物体分离，
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停用所述多个致动器的所述第一子集，从而将所述支撑表面的所述第一部分重新附接至所述物体，
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启用所述多个致动器的第二子集，从而将所述支撑表面的第二部分与所述物体分离，
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停用所述多个致动器的所述第二子集，从而将所述支撑表面的所述第二部分重新附接至所述物体。13.根据权利要求10至12中任一项所述的载物台，其中，所述致动器包括压电致动器。14.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：