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ASML荷兰有限公司专利技术
ASML荷兰有限公司共有3480项专利
用于分类半导体晶片的方法技术
披露了用于分类半导体晶片的方法和设备。所述方法包括:使用模型基于与半导体晶片集合的一个或更多个参数相对应的参数数据将所述半导体晶片集合分类成多个子集,其中子集中的半导体晶片的参数数据包括一个或更多个共同特性;基于一个或更多个半导体晶片被...
用于衬底的多重曝光的光刻设备和方法技术
提供一种光刻系统和用于曝光衬底的方法。所述方法包括提供多个掩模组。每个掩模组包括与相应图案对应的互补掩模。所述方法还包括利用所述多个掩模组曝光所述衬底。所述多个掩模组中的一掩模组中的互补掩模之间的拼接部位不同于所述多个掩模组中的每个其它...
EUV光源靶量测制造技术
公开了用于将由靶材料组成的靶与调节射束对准的设备和方法,调节射束被提供用于通过改变靶的形状、质量分布等来调节靶,其中调节射束包括传播模式的非均匀分布(诸如跨靶的空间模式的偏振模式)形式的结构化光。间模式的偏振模式)形式的结构化光。间模式...
用于减少抗蚀剂模型预测误差的系统和方法技术方案
本文描述了一种用于校准抗蚀剂模型的方法。该方法包括以下步骤:基于抗蚀剂结构的模拟空间图像和抗蚀剂模型的参数来产生抗蚀剂结构的模型化抗蚀剂轮廓;以及基于由量测装置获得的实际抗蚀剂结构的信息,根据模型化抗蚀剂轮廓来预测抗蚀剂结构的量测轮廓。...
照射源和相关联的量测设备制造技术
披露了一种照射源,包括:气体输送系统,所述气体输送系统被配置成提供气体目标以用于在所述气体目标的相互作用区处产生发射辐射;和干涉仪,所述干涉仪利用干涉仪辐射来照射所述气体目标的至少一部分以测量所述气体目标的性质。的性质。的性质。
用于产生宽带辐射的方法以及相关联的宽带源和量测装置制造方法及图纸
披露了一种产生宽带输出辐射的方法和相关联的宽带辐射源。所述方法包括:产生输入辐射的脉冲,所述脉冲具有在50fs至400fs的范围内的持续时间且具有小于60fs的上升时间;和利用用输入辐射的所述脉冲来激励中空芯部光纤内的工作介质。内的工作...
具有承压壳的压力容器制造技术
压力容器被配置成保存含有锡的流体。压力容器包括:由钼制成的衬里,衬里限定衬里腔,该衬里腔保存锡流体并且与锡流体接触;以及承压壳,承压壳限定在其中固定衬里的壳腔。承压壳由具有与钼的热膨胀系数相匹配的热膨胀系数的材料制成。的材料制成。的材料...
中空芯部光纤光源和用于制造中空芯部光纤的方法技术
披露了一种处理中空芯部光纤的输出耦合端的方法,所述中空芯部光纤包括围绕中空芯部的多个反谐振元件,以及已经被如此处理的中空芯部光纤。所述方法包括:执行锥形化步骤,以在所述反谐振元件中形成锥形部;在所述锥形部处执行切开步骤,以形成所述中空芯...
半导体制造厂中的污染的标识方法和装置制造方法及图纸
公开了标识半导体制造厂中的污染的方法和相关装置。该方法包括:确定被夹紧到晶片台上的多个半导体晶片在半导体制造厂中被处理之后的污染图数据。至少部分基于多个半导体晶片的污染图数据的组合来确定经组合的污染图数据。经组合的污染图数据与参考数据组...
用于平面反射镜干涉仪的紧凑型双通干涉仪制造技术
一种用于平面反射镜干涉仪的紧凑型双通干涉仪,其被配置成接收来自光源的输入辐射束。光学部件具有部分反射性表面,所述部分反射性表面被布置成反射所述输入辐射束的第一部分以遵循被引向输出端子的第一光路,并且还被布置成将所述输入辐射束的第二部分透...
用于计算与部件相关联的空间图的方法和装置制造方法及图纸
一种用于计算与部件相关联的空间图的方法,该空间图指示部件中的热膨胀参数的空间变化,该方法包括:提供或确定作为时间的函数的部件中的温度分布;使用所提供的或所确定的部件中的温度分布以及与部件直接或间接相互作用的辐射束的光学测量来计算与部件相...
流体处理系统、方法以及光刻设备技术方案
一种光刻设备,具有衬底保持件,被配置成保持衬底,以及投影系统,被配置成将辐射束投影到由衬底保持件保持的衬底上。也具有流体处理系统,被配置成将浸没液体约束于所述投影系统的一部分与所述衬底的所述表面之间的空间中,由此所述辐射束能够通过传递穿...
基板和衬底组件制造技术
本发明提供了一种基板,基板被配置成附接到半导体衬底,其中基板被配置成在半导体衬底上执行的一系列处理步骤期间保持附接到半导体衬底,其中基板由杨氏模量大于300GPa的材料制成。制成。制成。
致动器装置和电子光学柱制造方法及图纸
本文公开了一种致动器装置(70),该致动器装置(70)包括:限定腔(71)的壁(504);壳体(72),从壁(504)突出并且限定与腔(71)流体连通的内部(73);致动器(901),包括:力施加器(74),被配置为在腔(71)中的组件...
基于中空芯部光子晶体光纤的宽带辐射产生器制造技术
一种宽带辐射源装置,包括光纤组件,所述光纤组件包括多个光纤,每个光纤填充有气体介质;其中所述宽带辐射源装置能够操作以使得能够独立地选择光纤的子集以用于接收输入辐射束,以便在任一时间仅从所述多个光纤的子集产生宽带输出。生宽带输出。生宽带输出。
制造过程的偏差确定方法、校准方法、检查工具、制造系统和样品技术方案
本公开涉及一种用于确定制造过程中的偏差的方法,该方法包括以下步骤:a.提供具有层的样品,该层具有周期性结构,该周期性结构使用制造过程制造并且旨在使得层的对应部分完全反射波长在一波长范围内并且入射角在一角度范围内的光;b.使用波长在所述波...
用于概念漂移减轻的方法和设备技术
用于调适机器学习架构的分布模型的方法和设备。所述分布模型用于减轻概念漂移的影响,并且被配置成提供输出以作为至所述机器学习架构的功能模型的输入。所述功能模型用于执行机器学习任务。所述方法包括:获得第一数据点;和提供所述第一数据点作为至所述...
延迟时间测量方法和系统技术方案
一种测量信号在电路结构中的线路中传播的延迟时间的方法,该方法包括:通过带电粒子射束的脉冲来辐照线路,其中带电粒子射束的脉冲的脉冲重复频率是变化的。该方法还包括:对于脉冲重复频率中的每个脉冲重复频率,响应于通过带电粒子射束的脉冲以相应脉冲...
用于选择信息模式以训练机器学习模型的设备和方法技术
本文中描述了用于从诸如设计布局的图像中选择图案的方法和设备。所述方法包括:获得具有多个图案的(例如,目标布局的)图像;基于图像内的像素强度来确定指标(例如,熵),所述指标指示图像的一个或更多个部分中包含的信息量;以及基于指标,从图像的具...
带电粒子系统、孔径阵列、带电粒子工具和操作带电粒子系统的方法技术方案
一种带电粒子系统(400)沿着多束路径(406,408)生成带电粒子多束。带电粒子系统包括孔径阵列(430)、射束限制阵列(421)和会聚透镜(410)。在孔径阵列中是用于从上游带电粒子源(401)生成孔径阵列下游的带电粒子路径(406...
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