【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基于中空芯部光子晶体光纤的宽带辐射产生器
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年9月03日递交的欧洲申请20194353.7、于2020年10月20日递交的欧洲申请20202720.7、以及于2021年4月19日递交的欧洲申请21169105.0的优先权,并且这些欧洲申请的全部内容通过引用而被合并入本文中。
[0003]本专利技术涉及一种基于中空芯部光子晶体光纤的宽带辐射产生器,并且具体地,涉及与集成电路的制造中的量测应用有关的这种宽带辐射产生器。
技术介绍
[0004]光刻设备是被构造成将期望的图案施加至衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如,掩模)处的图案(常常也被称为“设计布局”或“设计”)投影至被设置在衬底(例如,晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
[0005]为了将图案投影于衬底上,光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长确定可以形成在衬底上的特征的最小大小。当前在使用中的典型波长是365nm(i线)、 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种宽带辐射源装置,包括:光纤组件,所述光纤组件包括多个光纤,每个光纤填充有气体介质;其中所述宽带辐射源装置能够操作以使得能够独立地选择光纤的子集以用于接收输入辐射束,以便在任一时间仅从所述多个光纤的子集产生宽带输出。2.根据权利要求1所述的宽带辐射源装置,其中,所述宽带辐射源装置能够操作以使得能够单独地选择所述多个光纤中的任一光纤以用于接收输入辐射束。3.根据权利要求1或2所述的宽带辐射源装置,其中,所述光纤中的每个光纤包括中空芯部光子晶体光纤。4.根据权利要求1、2或3所述的宽带辐射源装置,包括:分束装置,所述分束装置能够操作以在空间上将所述输入辐射束拆分成多个输入束,聚焦装置,所述聚焦装置用于将所述多个输入束中的每个输入束聚焦至光纤的所述子集中的相应的光纤中。5.根据权利要求1、2或3所述的宽带辐射源装置,所述宽带辐射源装置能够操作以使得在任一时间仅从所述多个光纤中的一个光纤产生所述宽带输出。6.根据任一前述权利要求所述的宽带辐射源装置,其中,所述多个光纤包括具有大致相同的光纤性质的两个或更多个光纤。7.根据任一前述权利要求所述的宽带辐射源装置,其中,所述多个光纤包括具有不同光纤性质的两个或更多个光纤,并且其中可选地,具有不同光纤性质...
【专利技术属性】
技术研发人员:J,
申请(专利权)人:ASML荷兰有限公司,
类型:发明
国别省市:
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