本文涉及一种用于带电粒子束检查的样本预充电方法、设备和计算机可读介质。设备包括：带电粒子源，被配置为沿设备的主束轴发射带电粒子束；聚束透镜，被配置为使得束围绕主束轴集中；孔径；第一多极透镜；第二多极透镜；其中第一多极透镜相对于聚束透镜处...

披露了一种用于从目标测量所关注的参数的方法和相关联的设备。所述方法包括获得与所述目标的测量相关的测量采集数据和能够操作以校正所述测量采集数据中的至少有限尺寸效应的有限尺寸效应校正数据和/或经训练的模型。所述测量采集数据中的至少有限尺寸效...

本文中描述一种用于确定与图案化过程的掩模模型相关联的电磁场的方法。所述方法包括：获得关注的掩模叠层区和与所述关注的掩模叠层区相对应的相互作用阶数。所述关注的掩模叠层区被划分成多个子区。所述关注的掩模叠层区具有与电磁波穿过所述关注的掩模叠...

披露了一种用于在对包括至少两个形貌级的曝光区域进行曝光的光刻曝光过程的控制中确定光刻曝光设备的一个或更多个致动器的聚焦致动轮廓的方法。所述方法包括：根据目标函数来确定所述至少两个形貌级的连续单聚焦致动轮廓，所述目标函数包括基于级的分量，...

公开了一种确定性能参数或从所述性能参数导出的参数的方法，所述性能参数与用于在经受光刻过程的衬底上形成一个或更多个结构的所述光刻过程的性能相关联。所述方法包括：获得包括所述性能参数的多个概率描述的概率描述分布，每个概率描述对应于所述衬底上...

一种检测带电粒子的方法可以包括当初级带电粒子束沿着第一方向移动时，检测束强度；当初级带电粒子束沿着第二方向移动时，获取次级束点投射图案；以及基于所获取的次级束点投射图案来确定次级束点的参数。一种补偿检测器上的束点变化的方法可以包括获取检...

根据本公开的一个实施例，提供了一种用于产生宽带辐射的辐射源，所述辐射源包括输入组件和中空芯部光子晶体光纤，所述输入组件用于提供输入辐射，所述中空芯部光子晶体光纤被配置成接收和限制被耦合到所述光纤中的所述输入辐射以用于通过光谱加宽产生宽带...

一种制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区域和围绕所述内部区域的边界区域；以及选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域。所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层...

一种用于从光刻装置的光学元件去除污染物的装置，所述装置包括：用于接纳光学元件的腔室、被配置为提供气体的供气源、以及从气体生成等离子体或离子的等离子体生成器和/或电子/离子源，其中该气体包括约0.01％体积含量至约10％体积含量的一种或多...

本文中公开了一种电子光学器件、透镜组件和电子光学装置列。电子光学器件包括阵列衬底和邻接衬底，并且被配置为在衬底之间提供电位差。孔径阵列被限定在衬底中的每个衬底中，以用于电子束波的路径。阵列衬底具有阶梯式厚度，使得阵列衬底在与孔径阵列相对...

一种用于测量关于用于在设备的操作期间处理生产衬底的设备中的条件的测量衬底和方法。测量衬底包括：主体，具有与设备相兼容的尺寸；内嵌在主体中的多个传感器模块，每一传感器模块包括：传感器，配置成产生模拟测量信号；模数转换器，用以从该模拟测量信...

描述了一种光刻设备，该光刻设备包括隔膜组件和辐射束路径，其中隔膜组件包括隔膜，该隔膜被设置在辐射束路径中，其中隔膜组件被配置成选择性地将隔膜从辐射束路径中的第一位置移动到辐射束路径中的第二位置。还描述了隔膜组件、延长隔膜的寿命的方法以及...

提供了一种带电粒子装置，其包括粒子射束生成器、光学器件、第一定位设备和第二定位设备、以及控制器，该第一和第二定位设备都被配置为沿着粒子射束生成器的光轴相对于粒子射束生成器定位衬底，控制器被配置为在第一操作模式与第二操作模式之间进行切换。...

描述一种模块式自动编码器模型。该模块式自动编码器模型包括：输入模型，该输入模型被配置成将一个或更多个输入处理成适于与其它输入组合的第一级维度；共同模型，该共同模型被配置成：降低所组合的经处理的输入的维度以在潜在空间中产生低维度数据；并且...

公开了带电粒子系统和用于使用带电粒子的多束处理样品的方法。在一种布置中，柱将带电粒子的子束的多束引导到样品的样品表面上。样品在平行于第一方向的方向上移动，同时柱用于在平行于第二方向的方向上在样品表面之上重复扫描多束。因此利用每个子束处理...

一种预测用于投影辐射束的投影系统的热致像差的方法，所述方法包括：根据所述辐射束的功率和照射源光瞳，计算所述投影系统的至少一个光学元件的辐照度轮廓；使用所述投影系统的所述至少一个光学元件的被计算的所述辐照度轮廓来估计所述投影系统的所述至少...

提供了一种用于将带电粒子束引导到样品表面的预选位置的带电粒子束设备。带电粒子束具有样品表面的视场。带电粒子光学装置被配置为将带电粒子束沿束路径引导向样品表面，并检测响应于带电粒子束而在样品中产生的带电粒子。台被配置以关于束路径支撑并移动...

一种微反射镜阵列，包括：衬底；用于反射入射光的多个反射镜；以及用于所述多个反射镜中的每个反射镜的至少一个多层压电致动器，所述至少一个多层压电致动器用于使所述反射镜移位，其中，所述至少一个多层压电致动器被连接至所述衬底，并且其中所述至少一...

该系统包括辐射源、衍射元件、光学系统、检测器和处理器。辐射源生成辐射。衍射元件衍射辐射以生成第一射束和第二射束。第一射束包括第一非零衍射级，第二射束包括不同于第一非零衍射级的第二非零衍射级。光学系统从目标结构接收第一散射束和第二散射辐射...

一种带电粒子工具被配置为从带电粒子束生成多个子束，并且将子束向束下游引导向样品(600)位置，该工具、即带电粒子工具包括至少三个带电粒子光学组件(201、111、235、234)；检测器模块(240)；以及控制器。检测器模块被配置为响应...