一种用于检测由带电粒子评估系统生成的样品图像中的缺陷的数据处理设备，该设备包括：输入模块、滤波器模块、参考图像模块和比较器。输入模块被配置为从带电粒子评估系统接收样品图像。滤波器模块被配置为将滤波器应用于样品图像，以生成经滤波的样品图像...

公开了一种识别与对准标记中的不对称性相关的一个或多个主导性不对称模式的方法，该方法包括：使用多个对准条件，获得与至少一个衬底上的对准标记的测量结果相关的对准数据；识别对准数据的一个或多个主导性正交成分，一个或多个正交成分包括一数量的一起...

一种光刻设备，包括：照射系统，照射系统被配置为调节辐射束；以及均匀性校正系统，均匀性校正系统被配置为调节辐射束的强度轮廓。该光刻设备包括控制系统，控制系统被配置为至少部分地基于热状态标准来控制均匀性校正系统，该热状态标准指示光刻设备的部...

公开了一种用于确定测量选配方案的方法，该测量选配方案用于位于曝光场(EF)的一个或多个管芯区域内的管芯内目标(IDM)的测量。该方法包括：获得与对多个参考目标(RF)的测量相关的第一测量数据和与对多个管芯内目标(IDM)的测量有关的第二...

本文公开了一种泛射柱，其用于沿着射束路径朝向样品投射带电粒子泛射射束，以利用带电粒子泛射该样品，之后进行使用评估柱对经泛射的样品的评估，该泛射柱包括：锚主体，沿着射束路径布置；透镜装置，布置在泛射柱的射束下游部分中；以及透镜支撑件，布置...

本公开涉及用于保护光刻系统的压力容器中的密封件的方法和装置。一种具有密封件的容器，密封件受到一定体积的气体的保护而免受容器内液体材料的侵害。容器具有分隔件，分隔件将容器划分为两个容积空间，使得通过第一容积空间中的一定体积的气体来保护与第...

用于提供射束的装置、系统和方法，以用于使用偏转器控制以控制带电粒子束系统的样品表面上的充电。在一些实施例中，控制器包括电路系统，该电路系统被配置为：扫描样品的多个节点以为多个节点充电；调整射束的扫描速率，使得沉积在多个节点中的每个节点上...

描述了用于使用参数化模型的给定输入(例如，强度)来预测过程信息(例如，相位数据)的方法和系统。针对参数化模型的给定输入，基于参数化模型的潜在空间中的维度数据来确定给定输入的潜在空间。此外，通过利用先验信息(例如，波长)约束潜在空间来确定...

用于表征在衬底上执行的半导体制造过程的方法和装置。获得在第一处理步骤之后测量的、与衬底的指纹数据相关联的第一数据。获得在第二过程步骤之后测量的、与衬底的指纹数据相关联的第二数据。统计模型被用于将第一数据和第二数据分解为在第一数据和第二数...

披露了一种用于确定一组校正权重以校正量测数据的方法。所述方法包括：获得与用于执行测量的测量辐射的多个照射设置相关的第一量测数据，其中每个照射设置包括不同的波长、偏振或其组合；将量测数据拟合到用于表示所述量测数据的模型，并且确定拟合残差；...

一种辐射源，包括：中空芯部光纤，所述中空芯部光纤包括本体，所述本体具有用于限制工作介质的中空芯部，所述中空芯部光纤能够操作以接收脉冲泵浦辐射，使得所接收的脉冲泵浦辐射通过所述中空芯部从所述中空芯部光纤的输入端传播至所述中空芯部光纤的输出...

一种测量装置(100)，被配置为用于在待研究样品(1)的表面的多个表面区段(2)上进行粗糙度和/或缺陷测量，包括：照射设备(10)，具有至少两个光源(11A、11B、11C、11D)，该至少两个光源(11A、11B、11C、11D)被布...

一种用于夹持物体的静电夹具，该静电夹具包括电粘附层，该电粘附层包括涂覆有绝缘材料的多个导电性可压缩材料元件，其中，电粘附层被配置为以电气方式改变对物体的粘附性，以用于夹持及松开物体，其中，所述元件具有在1nm至100nm的范围内、优选地...

描述了用于基于另一图案化过程的结果来配置图案化过程的方法。所述方法包括通过使用处于第一定向的设计布局模拟第一图案化过程来获得轮廓的第一集合。所述轮廓满足与所述设计布局相关联的设计规格，并且对应于过程窗口条件的第一集合。基于所述设计布局的...

本发明提供了用于检测反向散射带电粒子的各种技术，包括沿着子束路径加速带电粒子子束到达样品、从检测器阵列排斥二次带电粒子，以及提供可以在用于主要检测带电粒子的模式与用于主要检测二次粒子的模式之间切换的装置和检测器。置和检测器。置和检测器。

一种衬底限位系统，包括：衬底台、和多个周向布置的限位器，所述多个周向布置的限位器中的每个限位器包括弹簧，其中，所述弹簧具有近端和远端，其中，所述弹簧的所述远端是能够径向移位的，并且其中所述弹簧的所述近端的基部在固定部位处固被定至所述衬底...

一种碳纳米管隔膜，包括具有预先选择的结合构型或(m，n)手性的碳纳米管，其特征在于，该碳纳米管隔膜包括大量的具有锯齿形(m，0)手性和/或扶手椅形(m，m)手性的碳纳米管。还描述了一种处理碳基隔膜的设备、一种处理碳基隔膜的方法、包括碳基...

公开图案形成装置及其制造方法、设计方法以及计算机程序产品。图案形成装置包括图案形成装置基板图案化层。图案化层的第一部分具有第一水平的反射率、吸收率或透射率，图案化层的第二部分具有不同的第二水平的反射率、吸收率或透射率，和图案化层的第三部...

本文公开了用于表示控制参数数据的方法，控制参数数据用于在曝光场在衬底上进行扫描曝光期间，控制光刻设备，方法包括：获取周期性基函数集，所述周期性基函数集中的每个基函数具有不同的频率以及比与曝光场相关联的尺寸更小的周期，需要跨曝光场控制光刻...

公开了一种用于生成合成缺陷图像的改进的系统和方法。一种用于生成合成缺陷图像的改进的方法包括获取基于机器学习的生成器模型；向所述生成器模型提供无缺陷检查图像和缺陷属性组合作为输入；以及由生成器模型基于无缺陷检查图像生成具有符合缺陷属性组合...