【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本文中提供的实施例总体上涉及数据处理设备和方法，特别是与带电粒子评估系统一起使用或在电粒子评估系统中使用的数据处理设备和方法，以及操作带电粒子评估系统的方法。
技术介绍
1、在制造半导体集成电路(ic)芯片时，在制造过程中，由于例如光学效应和偶然颗粒等原因，衬底(即，晶片)或掩模上不可避免地会出现不期望的图案缺陷，从而降低产率。因此，监测不期望的图案缺陷的程度是ic芯片制造中的一个重要过程。更一般地，衬底或其他物体/材料的表面的检查和/或测量是其制造期间和/或之后的一个重要过程。
2、利用带电粒子束的图案检查装置已经被用于检查物体(这些物体可以称为样品)，例如以检测图案缺陷。这些装置通常使用电子显微镜技术，诸如扫描电子显微镜(sem)。在sem中，具有相对较高能量的电子的初级电子束以最终减速步骤为目标，以便以相对较低的着陆能量着陆在样品上。电子束被聚焦为样品上的探测斑。探测斑处的材料结构与来自电子束的着陆电子之间的相互作用导致信号电子从表面发射，诸如二次电子、反向散射电子或俄歇电子。信号电子可以从样品的材料结构发射。通过在样...
【技术保护点】
1.一种计算机可读指令的计算机可实现方法，所述计算机可读指令在被计算机读取时，使得所述计算机执行检测由带电粒子束系统生成的样品图像中的缺陷的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的计算机可实现方法，其中所述样品上形成有以间距间隔开的多个重复图案；并且所述方法还包括：
3.根据权利要求1或2所述的计算机可实现方法，其中所述核是均一核。
4.根据任一前述权利要求所述的计算机可实现方法，其中所述核是正方形的。
5.根据权利要求3或4所述的计算机可实现方法，其中所述均匀核具有维度，所述维度是非整数个像素，例如所述维度在1....
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种计算机可读指令的计算机可实现方法，所述计算机可读指令在被计算机读取时，使得所述计算机执行检测由带电粒子束系统生成的样品图像中的缺陷的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的计算机可实现方法，其中所述样品上形成有以间距间隔开的多个重复图案；并且所述方法还包括：
3.根据权利要求1或2所述的计算机可实现方法，其中所述核是均一核。
4.根据任一前述权利要求所述的计算机可实现方法，其中所述核是正方形的。
5.根据权利要求3或4所述的计算机可实现方法，其中所述均匀核具有维度，所述维度是非整数个像素，例如所述维度在1.1个像素到5个像素的范围内，期望地，所述维度在1.4个像素到3.8个像素的范围内。
6.根据前述权利要求中的任一项所述的计算机可实现方法，其中提供参考图像包括：对多个源图像进行平均。
7.根据权利要求6所述的计算机可实现方法，其中所述源图像包括从以下项中的一项或多项中选择的图像：先前检查的样品的图像库；所述样品上不同管芯的图像；以及所述样品图像的移位版本。
8.根据权利要求1至5中任一项所述的计算机可实现方法，其中所述参考图像是从设计数据生成的合成图像，所述设计数据描述所述样品上的结构。
9.根据前述权利要求中任一项所述的计算机可实现方法，其中所述应用滤波器和所述比较中的至少一项使用现场可编程门阵列或专用集...
【专利技术属性】
技术研发人员：M·JJ·维兰德，V·S·凯伯，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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