用于保护光刻系统的压力容器中的密封件的方法和装置制造方法及图纸

本公开涉及用于保护光刻系统的压力容器中的密封件的方法和装置。一种具有密封件的容器，密封件受到一定体积的气体的保护而免受容器内液体材料的侵害。容器具有分隔件，分隔件将容器划分为两个容积空间，使得通过第一容积空间中的一定体积的气体来保护与第一容积空间气体连通的密封件免受第二容积空间中的液体材料的侵害。体材料的侵害。体材料的侵害。

【技术实现步骤摘要】
用于保护光刻系统的压力容器中的密封件的方法和装置
[0001]分案申请说明
[0002]本申请是国际申请日为2018年9月6日、国际申请号PCT/EP2018/074057、于2020年3月20日进入中国国家阶段、中国国家申请号201880061412.2、专利技术名称为“用于保护光刻系统的压力容器中的密封件的方法和装置”的专利技术专利申请的分案申请。


[0003]本专利技术涉及用于密封容器的方法和装置。更具体地，本专利技术涉及用于使用所捕获的气体容积来保护密封件的方法和装置。

技术介绍

[0004]压力是许多现代工业和技术过程中的重要参数。例如，在制造中，可以出于输送、喷洒、喷射、施加力等目的对许多流体施加压力。特别地，采用极紫外(EUV)光来曝光晶片的光刻系统通常通过利用激光照射熔融的靶材(例如，锡靶材)来生成其EUV光。熔融锡靶材在高压力下(通常在数千PSI的范围内)被加压，并且从熔融锡的储存器中传送到照射部位。在典型场景中，锡微滴从微滴发生器系统的喷嘴中被喷射出。例如，将熔融靶材料(例如，锡)从一个或多个熔融靶材料储存器传送至微滴发生器系统的熔融靶材料传送系统通常例如采用一个或多个压力容器，以便帮助在启动阶段期间抑制振动并且平滑压力分布。这些压力容器需要能够跨广泛的温度和压力范围进行操作的密封件。本专利技术的实施例旨在保护容器(诸如(但不限于)在光刻工具的熔融靶材料传送系统中采用的压力容器)的密封件。

技术实现思路

[0005]在实施例中，本专利技术涉及具有熔融靶材料传送系统的光刻系统，熔融靶材料传送系统将熔融靶材料至少从第一位置传送到第二位置。该系统包括在第一位置和第二位置之间的流体路径中设置并且与第一位置和第二位置均流体连通的容器。容器包括至少包围内部容积空间的容器壁。容器还包括设置在容器壁内的分隔件，分隔件将内部容积空间划分为至少第一容积空间和第二容积空间，分隔件被配置为当在内部容积空间内不存在熔融材料时，允许第一容积空间和第二容积空间之间的气体连通，当在第二容积空间中存在熔融靶材料时，第一容积空间捕获存在于第一容积空间内的至少一部分气体。容器进一步包括入口端口和出口端口，第二容积空间与入口端口和出口端口均流体连通。容器附加地包括密封件，密封件被设置为使得当第二容积空间中不存在熔融靶材料时，密封件与第一容积空间和第二容积空间气体连通，当第二容积空间中存在熔融靶材料时，密封件与第一容积空间内的所捕集的气体气体连通并且不与第二容积空间气体连通。
[0006]在另一实施例中，本专利技术涉及具有熔融靶材料传送系统的光刻系统，熔融靶材料传送系统将熔融靶材料至少从第一位置传送到第二位置。该系统包括在第一位置和第二位置之间的流体路径中设置并且与第一位置和第二位置均流体连通的容器。容器包括至少包围内部容积空间的容器壁。容器还包括分隔件，分隔件将内部容积空间划分为第一容积空
间和第二容积空间，其中当在第二容积空间中存在第一量的熔融靶材料时，第一容积空间和第二容积空间处于气体连通，当在第二容积空间中存在第二量的熔融靶材料时，由于被熔融靶材料阻塞，第一容积空间和第二容积空间不处于气体连通，熔融靶材料的第二量大于熔融靶材料的第一量。容器附加地包括与第一容积空间气体连通的密封件。
[0007]在又一实施例中，本专利技术涉及具有熔融靶材料传送系统的光刻系统，熔融靶材料传送系统将熔融靶材料至少从第一位置传送到第二位置。该系统包括在第一位置和第二位置之间的流体路径中设置并且与第一位置和第二位置均流体连通的容器。容器包括至少包围内部容积空间的容器壁，内部容积空间包括第一容积空间和第二容积空间，其中当在第二容积空间中存在第一量的熔融靶材料时，第一容积空间和第二容积空间经由通道气体连通，当在第二容积空间中存在第二量的熔融靶材料时，由于通道被熔融靶材料阻塞，第一容积空间和第二容积空间不处于气体连通，熔融靶材料的第二量大于熔融靶材料的第一量。容器还包括与第一容积空间气体连通的密封件。
附图说明
[0008]在附图的各个图中通过示例而非限制的方式图示了本专利技术，其中相同的附图标记指代相同的元件，并且其中：
[0009]图1示出了根据本专利技术的实施例的具有第一压力容器子组件和第二压力容器子组件的压力容器的侧视图。
[0010]图2示出了根据本专利技术的实施例的其中熔融靶材料开始流入压力容器的内部容积空间中的图1的压力容器。
[0011]图3示出了根据本专利技术的实施例的其中熔融靶材料流入压力容器的内部容积空间中并且到达分隔件的底部的图1的压力容器。
[0012]图4示出了根据本专利技术的实施例的其中熔融靶材料流入压力容器的内部容积空间中并且上升到分隔件的底部之上的图1的压力容器。
[0013]图5示出了根据本专利技术的实施例的其中熔融靶材料流入压力容器的内部容积空间中并且在不接触密封件的情况下填充一个内部容积空间的图1的压力容器。
[0014]图6A和图6B示出了根据本专利技术的实施例的包括突起的防旋转插入件和包括凹部的凹面压盖。
[0015]图7示意性地描绘了根据本专利技术的实施例的包括具有一个或多个突起的插入件和具有一个或多个凹部的凹面压盖的流体连接件。
具体实施方式
[0016]现在将参考如附图所示的本专利技术的一些实施例来详细描述本专利技术。在下面的描述中，阐述了许多具体细节以便提供对本专利技术的透彻理解。然而，对于本领域技术人员显而易见的是，可以在没有一些或所有这些具体细节的情况下实践本专利技术。在其他情况下，未详细描述众所周知的过程步骤和/或结构，以免不必要地模糊本专利技术。
[0017]本专利技术的实施例涉及用于保护容器中的密封件的方法和装置。在一个或多个实施例中，容器被容器壁围绕，使得内部容积空间被包围。压力容器可以由至少两个容器子组件组成。当这两个容器子组件配合来创建内部容积空间时，采用密封件来使两个容器子组件
之间的配合表面防泄漏。
[0018]内部容积空间可以包括第一容积空间和第二容积空间，其中第一容积空间经由通道与第二容积空间流体连通。第一容积空间和第二容积空间可以由容器内的分隔件创建，并且通道可以例如位于分隔件的底部或者可以例如由分隔件中的穿孔(即，通孔)创建。第二容积空间与用于接收流体的入口端口和用于输出先前经由入口端口进入的流体的出口端口流体连通。当压力容器为空时，第一容积空间和第二容积空间经由前述通道来气体连通。在流体经由入口端口进入压力容器时，流体开始充满第二容积空间，并且在第二容积空间内流体液位已足够上升时的某个点处，流体将通道阻塞。
[0019]通道的阻塞防止来自第一容积空间的气体与第二容积空间气体连通。此外，当流体阻塞通道时，气体被捕获在第一容积空间内。随着流体逐渐填充第二容积空间，一定数目的气体仍被捕获在第一容积空间内。随着在压力容器内(即，第二容积空间内和第一容积空间内)压力增加，所捕获的气体的体积变得越来越小。然而，由于在通道被阻塞之后，对于所捕获的气体没有逸出路径，因此所捕获的气体的体积将为非零。所捕获的气体的这种非零体积使得密封件免于与内部本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种装置，包括：第一耦合子组件，在轴向方向上延伸，所述第一耦合子组件包括被布置在所述第一耦合子组件的轴向端处的配件；以及旋转耦合元件，可旋转地围绕所述第一耦合子组件，并且适于与所述配件接合，使得所述旋转耦合元件相对于所述配件能够旋转但能够与所述配件轴向接合以向所述配件施加轴向压力，所述配件具有带有第一配置的面，使得当所述配件被容纳在第二配件中时，当所述配件和所述第二配件通过所述旋转耦合元件的旋转而达到轴向接合时，所述配件和所述第二配件至少部分地旋转接合以阻止所述配件相对于所述第二配件的轴向旋转。2.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一耦合子组件包括压盖和插入件，所述插入件具有孔和至少一个突起，所述压盖延伸穿过所述孔，并且其中所述第二配件具有至少一个凹部，所述至少一个凹部被布置并且被确定尺寸以容纳所述至少一个突起。3.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一耦合子组件包括压盖和插入件，所述插入件具有圆形孔和至少一个突起，所述至少一个突起相对于所述圆形孔的中心径向延伸，所述压盖延伸穿过所述圆形孔，并且其中所述第二配件具有至少一个凹部，所述至少一个凹部被布置并且被确定尺寸以容纳所述至少一个突起。4.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一耦合子组件包括压盖和插入件，所述插入件具有孔和至少两个突起，所述压盖延伸穿过所述孔，并且其中所述第二配件具有至少两个凹部，所述至少两个凹部被布置并且被确定尺寸以容纳所述至少两个突起。5.根据权利要求1所述的装置，其中所述第一耦合子组件包括压盖和插入件，所述插入件具有圆形孔和至少两个突起，所述至少两个突起相对于所述圆形孔的中心径向延伸，所述压盖延伸穿过所述圆形孔，并且其中所述第二配件具有至少两个凹部，所述至少两个凹部被布置并且被确定尺寸以容纳所述至少两个突起。6.根据权利要求5所述的装置，其中至少所述第一配置的布置缺少圆形对称性。7.根据权利要求2所述的装置，其中所述旋转耦合元件包括耦合螺母。8.一种装置，包括：第一旋转耦合元件；第一配件，适于与所述第一旋转耦合元件轴向接合；第二旋转耦合元件；第二配件，适于与所述第二旋转耦合元件和所述第一配件轴向接合；所述第一配件具有第一配置，并且所述第二配件具有第二配置，所述第一配置和所述第二配置使得当所述第一配件和所述第二配件通过所述第一旋转耦合元件和所述第二旋转耦合元件的相对旋转而达到轴向接合时，所述第一配件被容纳在所述第二配件中，所述第一配件和所述第二配件至少部分地旋转接合，以防止所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：D，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：