【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开的主题涉及集成电路光刻制造过程。
技术介绍
1、光刻设备是将期望的图案施加至衬底上(通常施加至衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(ic)的制造中。在这种情况下，图案形成装置(其可以是掩模或掩模版)可以用以产生待形成在ic的单层上的电路图案。这种图案可以转印至衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的部分、一个管芯或若干管芯)上。
2、图案的转印通常经由成像至被设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来完成。通常，单个衬底将包含被连续地图案化的相邻目标部分的网络。传统的光刻设备包括：所谓的步进器，其中通过一次性将整个图案曝光至目标部分上来照射每个目标部分；和所谓的扫描器，其中通过在给定方向(扫描方向)上经由辐射束来扫描图案而同时平行于或反向平行于此方向同步地扫描衬底来照射每个目标部分。还可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转印到衬底。
3、通常，在衬底被照射时，衬底将被衬底保持件(称为晶片台)支撑。衬底可以用静电卡盘而被保持在晶片台中。衬底保持件可以设置有支撑元件，所述...
【技术保护点】
1.一种光刻设备，所述光刻设备包括：
2.根据权利要求1所述的光刻设备，还包括工具贮存器和存储在所述工具贮存器中的多个工具，所述工具贮存器位于所述外壳中，邻近所述停放位置，其中：
3.根据权利要求1所述的光刻设备，其中：
4.一种光刻设备，所述光刻设备包括：
5.根据权利要求4所述的光刻设备，还包括工具贮存器和存储在所述工具贮存器中的多个工具，所述工具贮存器位于所述外壳中，邻近所述停放位置，其中所述公用载物台适于从所述工具贮存器卸载第一工具，将所述第一工具运送到所述公用装置，并将所述第一工具装载在所述公用装置上。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种光刻设备，所述光刻设备包括：
2.根据权利要求1所述的光刻设备，还包括工具贮存器和存储在所述工具贮存器中的多个工具，所述工具贮存器位于所述外壳中，邻近所述停放位置，其中：
3.根据权利要求1所述的光刻设备，其中：
4.一种光刻设备，所述光刻设备包括：
5.根据权利要求4所述的光刻设备，还包括工具贮存器和存储在所述工具贮存器中的多个工具，所述工具贮存器位于所述外壳中，邻近所述停放位置，其中所述公用载物台适于从所述工具贮存器卸载第一工具，将所述第一工具运送到所述公用装置，并将所述第一工具装载在所述公用装置上。
6.根据权利要求5所述的光刻设备，其中：
7.根据权利要求5所述的光刻设备，其中：
8.根据权利要求4所述的光刻设备，其中所述公用载物台包括可伸长的机械臂。
9.一种操作光刻设备的方法，所述光刻设备包括外壳、位于所述外壳中并适于在所述外壳中的多个共面位置之间移动的第一晶片台、位于所...
【专利技术属性】
技术研发人员：K·M·列维，A·额，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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