【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及对在光学设备内的光学元件的表面外形(surface figure)变形进行最小化。
技术介绍
1、光刻设备是被构造成将期望的图案涂覆至衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(ic)的制造中。光刻设备可以例如将图案形成装置(例如掩模)处的图案投影至设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。
2、为了将图案投影至衬底上，光刻设备可以使用电磁辐射。这种辐射的波长确定可以形成在衬底上的特征的最小尺寸。相比于使用例如具有193nm的波长的辐射的光刻设备，使用具有在4nm至20nm范围内的波长(例如6.7nm或13.5nm)的极紫外(euv)辐射的光刻设备可以用于在衬底上形成更小特征。
3、在上述光刻设备的示例中，可以收集来自euv辐射源的euv辐射且将所述euv辐射作为辐射束朝向所述图案形成装置因为且随后朝向所述衬底引导。可以在光刻设备中实施具有对euv辐射的反射表面的一个或更多个光学元件(例如反射镜)，以便收集和/或引导所述辐射束。
4、在使用中，这样的光学元件可能需要热调节以防止或最小化由所述光学元件的反射表面的热变形所引发的光学像差。即，为了减小这样的光学元件的温度对入射euv辐射剂量的依赖性，某些光学元件可以被配置成在高于环境温度的限定高温的情况下展现最小变形。使用红外光的所谓的“反射镜预加热系统”(mphs)可以用于通过利用红外辐射照射所述光学元件而将所述光学元件加热至高温。在使用中，从mphs发射的红外辐射的强度或剂量可以在euv辐射曝光过程期间减小以平衡euv辐射引发的热
5、为了测量且由此控制光学元件的温度，可以将温度传感器安装在所述光学元件的反射表面下方。然而，这样的传感器可以至少部分地由于与用于安装传感器的粘合剂相关的安装过程和/或老化过程而引发表面外形变形(sfd)。
6、期望能够提供用于控制所述光学元件的温度而不引发可能影响euv辐射曝光过程的准确度的这样的表面外形变形的装置。
7、因此，本公开的至少一个方面的至少一个实施例的目标是消除或至少减轻现有技术的以上所识别的缺点中的至少一个缺点。
技术实现思路
1、根据本公开的第一方面，提供一种光学设备，包括：光学元件，所述光学元件具有用于在束路径中反射入射辐射的反射表面；和至少一个传感器，所述至少一个传感器被配置成感测与所述光学元件的背侧表面的相应部分的温度对应的辐射。
2、有利地，至少一个传感器被配置成感测辐射，而非如在现有技术光学设备中的情况那样的传导热，如下文更详细地描述的。即，所述至少一个传感器被设置成与所述光学元件成非接触式布置，其中，所述至少一个传感器、或所述至少一个传感器的至少辐射敏感部分不与所述光学元件的所述背侧表面的所述相应部分成物理接触。有利地，通过使用这种非接触式布置，不需要将所述至少一个传感器粘附至所述光学元件的所述背侧表面，并且因此，没有由于机械热应力或由粘合剂的老化而引起的应力来引发sfd效应。
3、此外，有利地通过使用这种非接触式布置，所述光学设备不太可能受损和/或需要维护，并且因此所述光学设备可以具有延长的寿命。
4、间隙可以设置在所述至少一个传感器与所述光学元件的所述背侧表面的所述相应部分之间。
5、所述背侧表面的所述部分可以位于形成在所述光学元件的背侧中的空腔中。
6、此外，由于所述非接触式布置，这样的空腔可以被形成以延伸得更靠近于所述光学元件的所述反射表面，而不会引起与现有方案(诸如下文参考图3和图4所描述的那些方案)相比增加的sfd效应，其中，传感器被粘附至所述光学元件的背侧表面。
7、此外，由于这种非接触式布置可能导致sfd效应的减少，因此可以实施更大数量的空腔和相关联的传感器，由此使得能够通过mphs来实现更完整、精确和响应性地确定和控制所述光学元件的所述反射表面的温度。
8、所述光学设备可以包括将由所述间隙限定的空隙连接至所述空腔外部的区域的至少一个贯通通道。
9、所述空腔可以被形成为使得所述背侧表面的所述部分距所述反射表面小于5毫米。
10、所述至少一个传感器可以包括被配置成感测从所述光学元件的所述背侧表面的所述相应部分辐射的红外辐射的高温计。
11、所述光学设备可以包括被形成在所述背侧表面的所述部分上的高发射率涂层。
12、所述光学设备可以包括被形成在所述背侧表面的所述相应部分上的至少一个涂层。所述至少一个涂层可以被配置成具有与温度相关的光学性质。
13、所述至少一个涂层可以包括热致变色涂层。
14、所述至少一个涂层可以包括被配置为具有与温度相关的光学性质的干涉滤波器和/或光栅的多个涂层。所述光栅可以是体布拉格光栅。
15、所述光学设备可以包括被配置成朝向所述至少一个涂层发射辐射的至少一个辐射发射装置。
16、所述至少一个传感器可以被配置成感测由所述辐射发射装置发射且从所述至少一个涂层和/或从所述光学元件的所述背侧表面反射的辐射。
17、所述光学设备可以包括被配置成使用来自所述至少一个传感器的信号来控制所述光学元件的温度的温度控制器。
18、所述光学设备可以包括多个传感器，其中，所述光学元件的所述背侧表面可以包括多个空腔，并且每个空腔可以具有被配置成感测所述空腔内的与所述光学元件的所述背侧表面的一部分的温度相对应的辐射的相关联的传感器。
19、根据本公开的第二方面，提供一种光学系统，包括根据第一方面所述的至少一个光学设备。
20、所述光学系统可以被配置为光刻设备的投影系统。
21、所述光学系统可以被配置为光刻设备的照射系统。
22、根据本公开的第三方面，提供一种光刻设备，包括根据第二方面的光学系统。
23、根据本公开的第四方面，提供一种控制光刻设备中的光学元件的反射表面的温度的方法，所述方法包括：配置至少一个传感器以感测与所述光学元件的背侧表面的一部分的温度相对应的辐射；和使用由所述传感器提供的信号来配置温度控制器以控制所述光学元件的温度。
24、以上
技术实现思路
旨在仅是示例性和非限制性的。本公开包括单独的或呈各种组合形式的一个或更多个相对应的方面、实施例或特征，无论是否以所述组合还是单独地明确陈述(包括所主张)。应理解，在任何其它方面或实施例中，上文根据本公开的任何方面或下文关于本公开的任何特定实施例所限定的特征可以单独地或与任何其它所定义特征组合使用，或用于形成本公开的另外的方面或实施例。
【技术保护点】
1.一种光学设备，包括：
2.根据权利要求1所述的光学设备，其中，在所述至少一个传感器与所述光学元件的所述背侧表面的所述相应部分之间设置有间隙。
3.根据权利要求1或2所述的光学设备，其中，所述背侧表面的所述部分位于形成在所述光学元件的背侧中的空腔中。
4.根据权利要求3所述的光学设备，包括将由所述间隙限定的空隙连接至所述空腔外部的区域的至少一个贯通通道。
5.根据权利要求3或4所述的光学设备，其中，所述空腔被形成为使得所述背侧表面的所述部分距所述反射表面的距离小于5毫米。
6.根据任一前述权利要求所述的光学设备，其中，所述至少一个传感器包括被配置成感测从所述光学元件的所述背侧表面的所述相应部分辐射的红外辐射的高温计。
7.根据权利要求6所述的光学设备，包括被形成在所述背侧表面的所述部分上的高发射率涂层。
8.根据权利要求1至5中任一项所述的光学设备，包括被形成在所述背侧表面的所述相应部分上的至少一个涂层，所述至少一个涂层被配置成具有与温度相关的光学性质。
9.根据权利要求8所述的光学
10.根据权利要求8所述的光学设备，其中，所述至少一个涂层包括被配置为具有与温度相关的光学性质的干涉滤波器和/或光栅的多个涂层。
11.根据权利要求8至10中任一项所述的光学设备，包括被配置成朝向所述至少一个涂层发射辐射的至少一个辐射发射装置。
12.根据权利要求11所述的光学设备，其中，所述至少一个传感器被配置成感测由所述辐射发射装置发射且从所述至少一个涂层和/或从所述光学元件的所述背侧表面反射的辐射。
13.根据任一前述权利要求所述的光学设备，包括被配置成使用来自所述至少一个传感器的信号来控制所述光学元件的温度的温度控制器。
14.根据任一前述权利要求所述的光学设备，包括多个传感器，其中，所述光学元件的所述背侧表面包括多个空腔，每个空腔具有被配置成感测所述空腔内的与所述光学元件的所述背侧表面的一部分的温度相对应的辐射的相关联的传感器。
15.一种光学系统，包括至少一个根据权利要求1至14中任一项所述的光学设备。
16.根据权利要求15所述的光学系统，所述光学系统被配置为光刻设备的投影系统。
17.根据权利要求15所述的光学系统，所述光学系统被配置为光刻设备的照射系统。
18.一种光刻设备，包括根据权利要求15至17中任一项所述的光学系统。
19.一种控制光刻设备中的光学元件的反射表面的温度的方法，所述方法包括：
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种光学设备，包括：
2.根据权利要求1所述的光学设备，其中，在所述至少一个传感器与所述光学元件的所述背侧表面的所述相应部分之间设置有间隙。
3.根据权利要求1或2所述的光学设备，其中，所述背侧表面的所述部分位于形成在所述光学元件的背侧中的空腔中。
4.根据权利要求3所述的光学设备，包括将由所述间隙限定的空隙连接至所述空腔外部的区域的至少一个贯通通道。
5.根据权利要求3或4所述的光学设备，其中，所述空腔被形成为使得所述背侧表面的所述部分距所述反射表面的距离小于5毫米。
6.根据任一前述权利要求所述的光学设备，其中，所述至少一个传感器包括被配置成感测从所述光学元件的所述背侧表面的所述相应部分辐射的红外辐射的高温计。
7.根据权利要求6所述的光学设备，包括被形成在所述背侧表面的所述部分上的高发射率涂层。
8.根据权利要求1至5中任一项所述的光学设备，包括被形成在所述背侧表面的所述相应部分上的至少一个涂层，所述至少一个涂层被配置成具有与温度相关的光学性质。
9.根据权利要求8所述的光学设备，其中，所述至少一个涂层包括热致变色涂层。
10.根据权利要求8所述的光学设备，其中，所述至少一个涂层包括被配置为具有与温度相关的光学性质...
【专利技术属性】
技术研发人员：K·M·W·J·波斯，约斯特·安德烈·克鲁格斯特，A·阿南德，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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