一种方法包括：使用辐射或热来处理物体的突节表面；和设置所述辐射或热的参数以使所述突节表面实现预定的表面强度、硬度、粗糙度、摩擦系数、耐化学性、耐磨性和/或腐蚀性。

描述了一种用于减少对成像的M3D效应的方法。所述方法包括：识别光刻系统的源平面内的与图案移位相关联的点，所述图像移位是由于光在介于成像辐射束与掩模法线之间的入射角下衍射离开光掩模衍射而产生的；确定与所识别的源平面点相关联的图案移位；以及...

描述了一种用于光刻设备的投影系统的腔室，所述腔室包括：开口，所述开口被配置成在使用期间使经图案化的辐射束能够被投影至被布置在所述腔室外的衬底上；管道，所述管道具有在所述孔口中的出口，所述管道被配置成传递气体至所述开口以用于提供对所述开口...

描述了一种获得焦点和剂量数据的方法，其不需要特殊标记并且使用管芯内特征的图像。产生焦点/剂量矩阵晶片。使用具有大视场的带电粒子检查系统来测量管芯内位置处的维度，诸如关键尺寸(CD)、CD均匀性(CDU)、边缘放置误差(EPE)等。机器学...

公开了一种确定针对衬底上的至少一个目标的测量结果的校正的方法，该目标包括一个或多个感兴趣参数敏感型子目标以及一个或多个感兴趣参数非敏感型子目标，感兴趣参数敏感型子目标各自对感兴趣参数敏感，感兴趣参数非敏感型子目标对感兴趣参数实质上较不敏...

本发明提供了一种用于对衬底进行热调节的热调节单元，所述热调节单元包括：顶表面；设置在所述顶表面上的多个气体入口和气体出口；连接到所述多个气体入口和气体出口的多个压力阀，其中所述多个压力阀中的每个压力阀被配置成在使用期间被连接到压力供应件...

一种用于改善用于图案化过程的过程模型的方法，包括：获得a)来自图像捕获装置的测量轮廓(330)，和b)从所述过程模型的模拟所产生的模拟轮廓(510)。所述方法也包括通过确定所述测量轮廓与所述模拟轮廓之间的偏移使所述测量轮廓与所述模拟轮廓...

披露了一种用于从目标测量感兴趣的参数的方法及相关联的设备。所述方法包括：获得与在制造阶段期间对生产衬底上的目标进行的测量有关的测量获取数据；获得校准校正数据库和/或已在所述校准校正数据库上训练的经训练模型，所述校准校正数据库和/或所述经...

一种保护装置(100)包括缓冲剂生成器和加热装置。缓冲剂生成器被配置为使缓冲剂与定位在极紫外(EUV)光源的腔内的基板(130)的表面相互作用。加热装置与基板热连通，并且被配置为增加基板和基板表面的温度。

披露了一种确定与至少一个衬底相关的衬底变形指标的方法，所述衬底变形指标描述跨所述至少一个衬底的变形。所述方法包括：获得与使用多种照射条件对所述衬底上的多个结构进行的测量相关的对准数据；和确定所述衬底变形指标的衬底变形指标值，所述衬底变形...

公开了一种毛细管保持系统，该毛细管保持系统包括压力激励套圈，该压力激励套圈是双重密封的并且被配置和布置成使得内部目标材料压力起到增加密封压力的作用。根据一个实施例的另一方面，压力激励套圈被配置和布置成使得毛细管上的密封接触压力更靠近构成...

公开了一种测量目标的方法、相关联的光刻方法和光刻单元。该方法包括：在衬底上在一个或多个先前层之上的当前层中通过光刻工艺对结构的曝光之后，测量所述目标，其中所述一个或多个先前层均已经经历蚀刻步骤，所述目标仅被包括在所述一个或多个先前层中的...

本发明披露一种用于对宽带照射束进行光谱整形以获得经光谱整形的照射束的源选择模块。所述源选择模块包括：束分散元件，所述束分散元件用于分散所述宽带照射束；光栅光阀模块，所述光栅光阀模块用于在所述宽带照射束被分散之后对所述宽带照射束进行空间调...

用于提供射束以用于分类和标识与带电粒子射束系统的样品相关联的故障机制的装置、系统和方法。在一些实施例中，一种方法可以包括：分析样品的多个第一电压对比度图像以标识多个缺陷；以及分析多个缺陷的子集的图案，以确定多个缺陷的子集的故障机制。

本文中所描述的是一种用于减少设备性能变化的方法。所述方法包括：获得(i)参考设备(例如参考扫描器)的参考性能(例如CD)、(ii)从被选择用以再现所述参考性能的设备(例如，待匹配的扫描器)的多个光瞳琢面反射镜的多个自由度中所选择的一组初...

公开了一种根据衬底上的目标确定聚焦参数的方法。该目标包括同焦的第一子目标和非同焦的第二子目标。该方法包括：获得与第一子目标的测量结果相关的第一测量信号、与第二子目标的测量结果相关的第二测量信号、以及将至少所述第二测量信号与所述聚焦参数相...

本文中披露一种确定来自统计学独立源的量测贡献的方法，包括：提供在多个测量设置的情况下从统计学独立源获得的多个贡献，根据所述贡献确定量测贡献，其中，所述量测贡献是随着所述测量设置变化而具有最小依存性的所述贡献。

公开一种量测方法和相关联的装置。所述方法包括：获得第一图像，所述第一图像受到用于获取所述图像的光学系统的一个或更多个非等晕像差的影响；和通过执行以下各项中的一项或两项以针对所述一个或更多个非等晕像差的影响来非迭代地校正所述第一图像：在场...

描述了一种设计目标的方法，该方法包括：提供初始数据集，获得初始数据集的模型，使用该模型执行贝叶斯优化以提供改进的模型，使用该改进的模型执行对目标设计的优化。

由于掩模检查晶片可以利用与生产晶片不同的工艺，所以可以利用具有较低光瞳填充比(PFR)的高对比度照射设置，其导致扫描仪的生产率降低。通过选择不同于在生产晶片上使用的高对比度照射设置，可以实现颗粒可印刷性与随机缺陷的比率的提高。组合地，或...