自动编码器模型可以用于光刻领域中以估计、推断或预测所关注的参数(例如量测指标)。通过利用从测量工具(例如光学量测工具)获得的衬底的测量数据(例如光瞳图像)训练自动编码器模型来训练自动编码器模型以预测参数。公开用于器件内量测的用于使两个或...

本申请公开了用于带电粒子评估装置的检测器组件，该检测器组件包括多个电极元件，每个电极元件具有被配置为暴露于从样品发射的信号粒子的主表面，其中相邻电极元件之间是相对于电极元件的主表面凹陷的凹部，并且其中电极元件中的至少一个电极元件是被配置...

本发明涉及一种用于EUV辐射的光学装置，包括：‑用于反射EUV辐射的光学部件，所述光学部件包括第一电极；‑第二电极，所述第二电极被布置成与所述光学部件相距一距离；以及‑电压源，所述电压源连接到所述第一电极和所述第二电极，以在所述第一电极...

针对制造过程的产品上的多个位置的每个执行测量过程，在每个位置，表征制造过程的感兴趣参数被认为名义上相同，以针对包括至少一个图像的每个位置导出测量信号。对测量信号的数据集应用降维方法，以获得包括指示图像之间的变化的分量的数据集的分量。针对...

本发明提供了一种用于向样品投射带电粒子束的带电粒子评估系统。该系统包括：被配置为保持样品的样品保持器；带电粒子光学系统，其被配置为将来自带电粒子源的带电粒子束向下游朝样品投射并且包括清洁目标；以及清洁装置。清洁装置被配置为向清洁目标供应...

描述一种用于模拟模型的栅格依赖性校验。根据本公开的实施例，相较于先验栅格依赖性校验，有利地可以更快和更有效地执行栅格依赖性校验。设计布局的某些部分被选择和裁剪至所述模型所需的最小大小，并且被用于产生第二设计布局。所选部分相对于所述栅格而...

公开了使用具有增强的束波探测电流的多带电粒子束装置来检查样品的系统和方法。该装置可以包括带电粒子源、被配置为聚焦多个带电粒子束以在交叉点处形成束交叉的第一会聚透镜和被配置为准直所聚焦的多个带电粒子束的第二会聚透镜，其中交叉点沿着主光轴形...

用于减少腔室的振动的系统、装置和方法可以包括：获得与被刚性耦合到腔室的传送设备相关联的预定义运动数据；在传送设备移动之前，基于预定义运动数据来确定传送设备的移动；基于移动来确定由移动引起的要被施加到腔室的第一力；并且使腔室的支撑设备在传...

本公开涉及一种带电粒子射束装置，被配置为朝向样品投射带电粒子射束。该带电粒子射束装置包括被配置为朝向样品投射相应带电粒子射束的多个带电粒子光学柱，其中每个带电粒子光学柱包括：带电粒子源，该带电粒子源被配置为朝向样品发射带电粒子射束，该带...

机器学习模型可以被训练为预测与由图案化过程产生的晶片上的图案中的变化相关的成像特性。然而，由于用于训练的有限晶片数据提供的图案覆盖率较低，机器学习模型倾向于过度拟合，并且来自机器学习模型的预测结果会偏离表征晶片上的图案和/或与图案变化相...

具有可增加循环寿命并减少颗粒产生的阀门的系统。实施例可包括第一可移动构件(413)、第二可移动构件(411)和第三可移动构件(415)；第一连杆(412_1，412_2)，其联接到第一可移动构件和第二可移动构件，使得当第二可移动构件横向...

本文公开了一种在其中存储有计算机程序的非暂态计算机可读介质，其中该计算机程序包括当由计算机系统执行时指示计算机系统执行确定SEM图像的充电诱导的失真的方法的代码。该方法包括：在样品的至少一部分的SEM图像中的多个位置中的每个位置处确定由...

用于图像分析的系统和方法包括：获取均与受检样品相关联的多个模拟图像和多个非模拟图像，多个模拟图像中的至少一个模拟图像是样品上未被多个非模拟图像中的任一个非模拟图像成像的位置的模拟图像；以及使用多个模拟图像和多个非模拟图像作为输入来训练无...

基于衬底图案中的轮廓的曲率来确定蚀刻偏差方向。所述蚀刻偏差方向被配置成用于增强半导体图案化过程相对于先前图案化过程的准确度。在一些实施例中，接收所述衬底图案的表示，所述表示包括所述衬底图案的所述轮廓。确定所述衬底图案的所述轮廓的所述曲率...

披露了一种校正由波长受抑制的测量辐射的泄漏引起的带外泄漏信号贡献的量测图像的方法。所述方法包括：获得至少一个校正图像，所述校正图像是使用具有由辐射调制装置最大程度地抑制的所有波长或波段的测量辐射而获得的；使用测量辐射获得量测图像，所述测...

一种用于包括中空芯部光子晶体光纤(HC‑PCF)的辐射源的源控制装置，所述HC‑PCF具有具备芯部直径的中空芯部，所述源控制装置包括：至少一个处理器；和脉冲啁啾装置，所述脉冲啁啾装置被配置成接收脉冲泵浦辐射并且以可控的方式啁啾所述脉冲泵...

本公开提供一种夹具，所述夹具包括：介电构件；导电元件，其设置于所述介电构件上并且由第一导电材料组成；以及多个突节，其布置于所述导电元件上以用于支撑物体，每个突节包括第二导电材料，其中所述夹具包括布置于所述导电元件和所述多个突节之间的抗蚀...

本文中描述了一种用于确定与待印制于衬底上的图案相关联的随机边缘放置误差的方法。所述方法包括：经由量测工具采集所述图案的在所述衬底上的限定部位处的多个图像，而不在所述多个图像之间执行衬底对准；生成至少两个数据：(i)使用所述多个图像的第一...

本文描述一种用于参照参考设备来确定调谐扫描器的波前的方法，所述方法包括：获得(i)与参考透镜指纹相对应的参考设备的参考性能、和(ii)调谐扫描器的透镜指纹；经由过程，基于透镜指纹和成本函数，确定调谐扫描器的波前参数，其中成本函数计算参考...

提供了一种表膜隔膜，包括在硅基基质中的金属硅化物晶体群，其中表膜隔膜具有0.3或更高的发射率。还提供了一种制造表膜隔膜、表膜组件、包括这种表膜隔膜或表膜组件的光刻设备的方法。还描述了这种表膜隔膜、表膜组件或光刻设备在光刻设备或方法中的用途。