本文公开了一种操纵器或操纵器的阵列。操纵器操纵投射系统中的带电粒子束。该操纵器包括具有主表面的衬底与该主表面中的相关联的孔之间的贯穿通道。该贯穿通道被配置为带电粒子束的路径的通过。主表面之间的该贯穿通道的内壁包括被配置为操纵该带电粒子束...

一种用于检测激光束未对准的孔装置，所述孔装置包括：本体，所述本体包括第一开口且限定第一轴线；束流收集器；光学元件，所述光学元件包括第二开口，其中，所述第一开口和所述第二开口与所述第一轴线同轴，所述光学元件被配置成将未对准的激光束重新引导...

本发明提供了一种减少具有投影阶段和空闲阶段的光刻过程中的循环误差效应的方法，所述方法包括：在第一控制回路中控制第一模块的第一位置，所述第一模块是投影系统的位置受控的反射镜，所述第一控制回路具有第一带宽并且包括具有第一循环误差的第一位置测...

用于提供用于与带电粒子束系统的样品相关联的缺陷检测和缺陷位置标识的射束的装置、系统和方法。在一些实施例中，方法可以包括：获取样品的图像；从图像中确定缺陷特性；基于所确定的缺陷特性和图像生成更新图像；并将更新图像与参考图像对准。

用于在光刻系统的成像操作期间提供与存在于图案形成装置上的惯性力相对的力的系统、方法和计算机程序，其包括如下的装置，该装置用于结合短冲程致动器提供推动器的粗略定位并且推动尖端，该尖端被配置为接合图案形成装置的边缘。在一个实施例中，粗略定位...

公开了一种从聚焦目标、相关衬底和相关图案形成装置测量焦距参数的方法。聚焦目标至少包括第一子目标和第二子目标，每个子目标具有至少一个周期性主要特征，其中主要特征的至少一些子元素的相应节距和/或尺寸参数被配置为使得所述第一子目标和第二子目标...

本文描述一种波导，包括：第一区段，所述第一区段被配置成通过非线性光学过程来产生被提供至所述波导的输入端的脉冲辐射的加宽波长光谱；第二区段，所述第二区段包括所述波导的输出端，所述第二区段被配置成展现比所述第一区段更大的群速度色散的绝对值；...

本公开提供一种用于水平传感器的投射单元，所述投射单元包括：第一光管，所述第一光管具有第一出口和被配置成从源接收辐射的第一入口；和第二光管，所述第二光管具有第二出口和被配置成从所述第一光管接收所述辐射的第二入口。所述单元可以包括透镜装置，...

公开了处理样品的方法和带电粒子评估系统。在一种布置中，样品使用带电粒子的子束中的多束来处理。子束可处理区的至少一部分利用每个子束来处理。子束可处理区包括具有区段的行和区段的列的区段阵列。每个区段的行限定细长区域，该细长区域基本上等于或小...

公开了电子光学设备和相关方法。在一个布置中，电子光学设备将带电粒子的子束的多束投射到样品。提供了多个板，相应孔径阵列被限定在该多个板中。这些板包括物镜阵列，该物镜阵列被配置为朝向样品投射子束。限定在板中的至少两个板中的孔径阵列各自具有被...

公开了从电子束装置中的电子源的发射器尖端去除污染物的系统和方法。电子束装置可以包括电子源，该电子源包括发射器尖端和光源，该发射器尖端被配置为发射电子，该光源被配置为产生照射发射器尖端的一部分的光束以激发光束的表面模式，其中激发的表面模式...

用于计算用于衬底的管芯的修复剂量的方法，包括：a)基于曝光能量的测量结果，获得施加到管芯的能量剂量随时间的分布的函数；b)确定在一时间段中的能量剂量，所述时间段在所述时间段的中心处具有修复点，并且如果在所述时间段中的能量剂量小于能量剂量...

描述了一种用于在EUV光源中使用的液态金属供应组件，所述组件包括：a)第一贮存器，所述第一贮存器被配置成将液态金属保持处于第一温度；b)与所述第一贮存器流体连通的液态金属输送导管，其中所述液态金属输送导管被配置成处于不同于所述第一温度的...

在本文中描述了用于确定与光刻过程相关联的过程参数的系统、方法和介质。在一些实施例中，可以获得衬底上的特征的图像数据，并且可以在傅立叶空间中分析该图像数据。基于该分析，可以确定幅度和相位，并且可以基于幅度和相位来确定特征的套刻。

一种补偿衬底上的聚焦偏差的方法，在所述衬底上存在多个层，所述方法包括产生用于所述衬底的焦距预测图(108)。在一种方法中，通过使用对准传感器获得所述衬底上的关键性能指标(KPI)数据(106)，确定所述KPI数据与所述衬底上的位置的聚焦...

公开了一种用于检查图像的图像对准的改进方法和系统。一种改进方法包括：获取检查图像，获取与检查图像相对应的参考图像，基于检查图像的特性和参考图像的特性来获取检查图像和参考图像之间的目标对准，基于目标对准来估计对准参数，以及将对准参数应用于...

一种用于生成包括氢气和氧气的吹扫气体的气体供应设备，该设备包括：氢气入口，被配置为接收氢气气流；混合气体入口，被配置为接收包括氮气和氧气的混合气流；质量流量控制器，与混合气体入口流体连通并且被配置为提供具有受控质量流率的受控气流；浓缩器...

本发明提供了一种用于获得具有对准标记的衬底的高度图的方法、衬底对准测量设备和光刻设备，所述方法包括以下步骤：确定所述衬底的一个或更多个部位或区域的高度，和基于所述衬底的所述一个或更多个部位或区域的所确定的高度和所述衬底的形状模型来确定所...

描述了一种用于确定针对经受图案化过程的衬底的叠层配置的方法，所述方法包括获得(i)具有在印制的衬底上的部位信息的叠层配置的测量数据，(ii)配置成基于所述衬底的部位来预测叠层特性的衬底模型，以及(iii)包括基于所述衬底模型的多个叠层配...

一种光刻装置包括：用于照射图案形成装置的图案的照射系统，和用于将图案的图像投射到衬底上的投射系统。该照射系统包括第一封壳、第二封壳、密封设备和保护设备。第一封壳围封第一环境，并且包括第一开口和与第一开口相对应的第一连接。第二封壳包括第二...