公开了一种超连续谱辐射源，包括泵浦激光器布置，泵浦激光器布置用于产生泵浦辐射，并包括多个泵浦激光器头部；辐射组合器，用于组合来自每个泵浦激光器头部的相应泵浦辐射；和非线性光纤，用于接收所述泵浦辐射，以便激发非线性光纤内的工作介质以产生超...

描述了用于训练机器学习模型以使用基于效用函数的主动学习对缺陷进行分类的系统和方法。在一个实施例中，配置一个或多个非暂态机器可读介质以使处理器基于机器学习模型来确定未分类测量图像的效用函数值，其中使用标记的测量图像池来训练机器学习模型。基...

该系统包括光学设备、反射设备、可移动反射设备和检测器。光学设备被设置在第一平面处并围绕系统的轴线，以及接收来自目标的散射辐射。反射设备至少被设置在第二平面处并围绕轴线。每个反射设备接收来自对应光学设备之一的散射辐射。可移动反射设备沿轴线...

描述了表征图像的特征的方法。所述方法包括存取对应于从所述图像提取的一组轮廓点的模板轮廓。所述方法包括基于所述模板轮廓上的部位与所提取的轮廓点之间的多个距离来比较所述模板轮廓与所提取的轮廓点。基于所述模板轮廓上的所述部位以及所述模板轮廓上...

公开了一种用于光刻设备的掩模版台。该掩模版台包括：用于反射型掩模版的支撑件；和耦接到支撑件的至少一个遮蔽元件。该至少一个遮蔽元件能够在第一位置和第二位置之间选择性地配置，该第一位置用于遮蔽反射型掩模版的图案化侧的一部分免受辐射束照射，该...

描述一种样本检查工具。所述检查工具包括：光源，所述光源被配置成产生低于200 nm的有效检查辐射；样本保持器；成像子系统，所述成像子系统包含子系统部件，所述子系统部件沿光路径将光从所述光源传送至待由所述样本保持器保持的样本；以及阻挡件，...

一种系统，包括成像系统、空间滤波器和探测器。所述系统被配置成接收多个衍射阶。所述空间滤波器被配置成阻挡所述多个衍射阶中的一个或更多个不期望的衍射阶并且使所述多个衍射阶中的一个或更多个期望的衍射阶通过。所述空间滤波器包括具有在方位角上变化...

描述了被引导向目标的照射点。照射点是从单个照射源生成的。晶片对准传感器中通常普遍的重影反射被减少或消除。描述了第一点反射镜、第二点反射镜和第三点反射镜。第一点反射镜沿着第一轴接收照射，将照射的第一部分反射远离第一轴，并且将照射的第二部分...

一种支撑件，该支撑件用于在夹持器的制造期间支撑部分的或完全的夹持器，其中该支撑件包括位于顶表面上的升高的柔性元件，该柔性元件被配置为由于作用在柔性元件上的气体压差而变形，以在夹持器和支撑件之间的空间与夹持器外部的空间之间形成气体流动限制。

本发明公开了一种用于对来自激光器(500)的束(23b)进行转向以将束与EUV光源(10)中的源材料目标(14)对准的装置和方法，在该EUV光源中，使得声光设备(510)除了执行更典型地由专用声光调制器执行的束能量(幅度)控制功能之外还...

披露了一种执行光刻性能验证测试的方法。所述方法包括：获得一个或更多个曝光布局，每个曝光布局与多个曝光场在衬底上的曝光相关；针对所述一个或更多个曝光布局中的每一个，在包括光致抗蚀剂的衬底上执行伪曝光，所述伪曝光不使用曝光照射、或使用具有低...

描述了作为半导体制造工艺的一部分的、产生用于对准衬底层中的特征的对准信号。与用于产生对准信号的典型方法相比，本系统和方法更快速，并且产生更多信息，因为它们利用图案化半导体晶片中的现有结构而不是专用对准结构。连续扫描图案化半导体晶片的特征...

本发明涉及一种用于浸没光刻设备中的衬底台，所述衬底台具有限定用于支撑待图案化的衬底的支撑平面的支撑区域和围绕所述支撑区域的上表面，其中：所述上表面包括大致平面的外部区和邻近于所述支撑区域的过渡区；并且所述过渡区是与所述外部区不共面的以便...

一种控制器系统被配置为控制装备，并且包括基于参考状态信号向该装备提供前馈信号的前馈控制器，以及基于该参考状态信号与表示装备实际状态的该装备状态信号之间的差，向该装备提供反馈信号的反馈控制器系统。该反馈控制器系统包括积分器、轨迹生成器和选...

本发明涉及用于将带电粒子束投影到目标上的曝光装置和方法。曝光装置包括带电粒子光学装置，该带电粒子光学装置包括用于生成带电粒子束的带电粒子源和用于阻挡来自带电粒子源的带电粒子束的至少一部分的带电粒子阻挡元件和/或限流元件。带电粒子阻挡元件...

一种用于清洁与光刻过程相关的诸如表膜、掩膜、晶片的部件或另一光刻部件的清洁系统，包括至少一个辐射发射器，所述至少一个辐射发射器被配置成在使用中辐照所述部件的区，以在所述部件中引起热机械振动和/或引发存在于所述部件上的污染物的溅射。

本文中所描述的是一种从图案化过程的图案集合确定候选图案的方法，所述方法包括：获得(i)图案化过程的图案集合、(ii)具有第一特征和第二特征的搜索图案、和(iii)包括介于所述搜索图案的所述第一特征与所述第二特征之间的相对位置的第一搜索条...

系统和方法提供用以减轻在量测工具的物镜中存在的线性彗差和/或偏移彗差的能力。一种减小量测设备中的偏移彗差的效应的方法包括旋转所述量测设备的物镜元件，直到确定针对量测目标的实体上分离的第一部分和第二部分的最佳对比度为止。一种减小量测设备中...

一种装置包括：可致动元件，其被耦合到目标材料分配器中的目标材料，并且被配置为基于目标控制信号在(由目标材料分配器提供的)目标流中引起速度扰动；检测装置，其被配置为观测流中的目标，并且基于观测而产生目标检测信号；控制器，其被配置为接收目标...

所描述的系统包括检查系统和相关联的软件。所述检查系统包括被配置成被插入至光刻设备中、由所述光刻设备的工具输送装置接合，并且用于检查所述光刻设备的一部分的本体。相机被联接至所述本体，并且被配置成当所述本体由所述工具输送装置定位时获得所述光...