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ASML荷兰有限公司专利技术
ASML荷兰有限公司共有3480项专利
用于在半导体制造过程中保持物体的系统、设置有所述系统的光刻设备以及方法技术方案
本公开提供了一种用于在半导体制造过程中保持物体的系统,该系统包括:至少一个干性粘附材料的垫(100),该材料具有结构化表面,该表面具有包括多个突起(110)的结构,每个突起具有杆部和远离该表面朝向的端面(120),突起的所述端面适于抓取...
流体处置结构、光刻设备、以及使用流体处置结构的方法技术
本发明提供一种被配置成将浸没流体限制至光刻设备的区域的流体处置结构,所述流体处置结构包括:孔,所述孔在所述流体处置结构中形成以使辐射束经由所述浸没流体行进通过所述孔,所述孔限定将要填充有所述浸没流体的浸没空间;以及内部部分和外部部分;其...
对准确定方法和计算机程序技术
本发明涉及一种确定带电粒子装置中电子光学组件的对准的方法。该带电粒子装置包括:孔径阵列和检测器,该检测器被配置为检测与穿过孔径阵列中的对应的孔径的束波相对应的带电粒子。该方法包括:在孔径阵列的一部分之上扫描孔径阵列的平面中的每个束波,在...
用于准直宽带辐射的组件制造技术
一种用于准直宽带辐射的组件,组件包括:凸折射单透镜,该凸折射单透镜具有用于将宽带辐射耦合到透镜的第一球形表面和用于将宽带辐射耦合出透镜的第二球形表面,其中第一球形表面和第二球形表面具有共同中心;以及安装部,用于在多个接触点处保持凸折射单...
用于光刻设备的抗蚀剂下层制造技术
本文中公开了一种用于光刻设备的衬底布置,该衬底布置包括:抗蚀剂;光敏的抗蚀剂下层;以及衬底;其中抗蚀剂下层的曝光阈值低于抗蚀剂的曝光阈值。抗蚀剂和抗蚀剂下层对EUV辐射都是光敏的。
用于控制生产系统的方法及用于热控制环境的至少一部分的方法技术方案
一种计算机实施方法,所述计算机实施方法产生控制动作以用于诸如通过将所述控制动作传输到生产系统的控制系统来控制所述生产系统。所述计算机实施方法包括:通过存储器单元接收表征所述生产系统的目前状态的观测数据集合;通过所述存储器单元的第一神经网...
用于光刻设备的系统技术方案
一种用于光刻设备的系统包括:衬底台;另一装置;以及至少一个可变形分隔件。衬底台(例如晶片台)被布置为支撑衬底。该系统可配置为处于第一配置,使得装置的表面面向并邻近衬底和衬底台。至少一个可变形分隔件或者:(a)当系统处于第一配置时,从衬底...
光学设备制造技术
披露一种用于光刻设备的掩模版平台的光学设备。所述光学设备包括:反射型光学元件,所述反射型光学元件包括用于曝光至辐射的表面;至少两个电极,所述至少两个电极位于所述表面处;以及测量系统,所述测量系统被配置成测量所述反射型光学元件在所述至少两...
光刻设备和相关联的方法技术
一种光刻设备,包括:照射系统;支撑结构;衬底台;投影系统以及加热系统。所述照射系统被配置成调节辐射束。所述支撑结构被构造成支撑掩模版和表膜组件,所述掩模版和表膜组件用于接收由所述照射系统调节的所述辐射束。所述衬底台被构造成支撑衬底。所述...
用于确定局部焦点的软件、方法和系统技术方案
公开了非暂态计算机可读介质、系统和计算机实现的方法,该方法描述了获取关于印刷图案的热点(HS)位置信息;获取用于搜索印刷图案以确定成像设备的局部焦点(LFP)的LFP搜索标准;选择印刷图案中包含HS的HS区域;并基于LFP搜索标准确定靠...
通过源和掩模优化创建理想源光谱的方法技术
公开了用于增加光刻系统的焦深的系统、方法和计算机程序。在一个方面,一种方法包括提供光谱、掩模图案和光瞳设计,光谱、掩模图案和光瞳设计一起被配置成为光刻系统提供焦深。该方法还包括迭代地改变光谱和掩模图案中的辅助特征以提供增加焦深的经修改的...
AFM工具的元件制造技术
本公开涉及确定使用光刻工艺在衬底上形成的目标结构的信息。在一种布置中,提供具有悬臂和探头元件的悬臂探头。探头元件从悬臂向目标结构延伸。在悬臂探头中产生超声波。超声波通过探头元件传播到目标结构中,并从目标结构反射回到探头元件中或回到从悬臂...
图案化目标层的方法、用于图案化目标层的设备技术
公开了通过选择性地去除材料而图案化目标层的方法和设备。在一布置中,用图案化束辐照目标层。图案化束产生呈等离子体图案的等离子体,该等离子体在局部与目标层相互作用以限定待从目标层去除何处的材料。在辐照期间,向衬底施加偏压以控制撞击在目标层上...
激光束放大系统技术方案
一种激光束放大系统,包括多个激光放大器,所述多个激光放大器被配置成以串联方式放大激光束,其中所述激光放大器中的至少一个由多个致动器支撑,所述多个致动器被配置成使所述激光放大器以受控方式运动,并且由此向所述激光束施加期望的运动。
机械控制的应力工程光学系统和方法技术方案
描述了一种快速动态波片。本系统和方法利用在板侧面施加力时在板内部产生的应力双折射。力是使用一组沿板的(多个)侧面对称分布的压电致动器施加的。可以使用控制单元控制力的大小。产生的应力双折射跨越板空间地变化。通过仔细调整力,板可以转换为具有...
用于极紫外光源的光学模块制造技术
光学模块被配置为使光束通过。光学模块包括:多个透镜,光束穿过多个透镜,多个透镜包括至少一个非球面复曲面透镜;以及光学安装装置,其中安装了多个透镜。多个透镜相对于光束的线性聚焦幕而被放置,线性聚焦幕与感兴趣区域相交。光学安装装置被布置在极...
用于对基本上不规则的图案布局的图案特征进行分组的方法和计算机程序技术
一种对用于在光刻过程中图案化衬底的基本上不规则的图案布局的图案特征进行分组的方法。该方法包括:获得至少一个基本上不规则的图案表示,至少一个基本上不规则的图案表示中的每个基本上不规则的图案表示都与相应的感兴趣层相关;基于几何形状和/或与处...
物体保持器、包括这种物体保持器的光刻设备、以及用于物体保持器的方法技术
本发明提供一种物体保持器,所述物体保持器用于保持物体,所述物体保持器包括:夹具侧,所述夹具侧用于夹持所述物体,其中,所述夹具侧是导电的;至少一个电极,所述至少一个电极被布置在距所述夹具侧一距离处且与所述夹具侧电隔离;控制器,所述控制器被...
制造用于空芯光子晶体光纤的毛细管的方法技术
披露了一种用于制造能够用作空芯光子晶体光纤的一部分的毛细管的方法。所述方法包括获得具有包括第一壁厚的毛细管壁的毛细管;和化学蚀刻所述毛细管壁以减小所述毛细管壁的壁厚。在执行所述蚀刻步骤期间,沿毛细管的长度局部地改变与所述蚀刻步骤中所使用...
识别系统级退化的分层异常检测和数据表示方法技术方案
一种用于训练诊断模型的计算机实施方法,该诊断模型用于诊断生产系统,其中该生产系统包括多个子系统。适应性诊断模型包括:对于每个子系统的相应的第一学习模型,其被布置为接收输入数据,并在相应的压缩潜在空间中生成用于生产系统的压缩数据。第二学习...
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