用于对基本上不规则的图案布局的图案特征进行分组的方法和计算机程序技术

一种对用于在光刻过程中图案化衬底的基本上不规则的图案布局的图案特征进行分组的方法。该方法包括：获得至少一个基本上不规则的图案表示，至少一个基本上不规则的图案表示中的每个基本上不规则的图案表示都与相应的感兴趣层相关；基于几何形状和/或与处理性能相关的至少一个处理属性，将被包括在基本上不规则的图案表示内的多个图案特征分组为多个组，每个组都包括在几何形状和/或至少一个处理属性方面相似的多个图案特征；以及导出与多个组中的一个或更多个组相关联的感兴趣参数。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本说明书涉及用于在光刻过程中将图案施加到衬底的方法和设备。

技术介绍

1、光刻设备是将期望的图案施加至衬底上(通常施加至衬底的目标部分上)的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路(ic)的制造中。在该情况下，替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置可以用于产生待形成在ic的单层上的电路图案。这种图案可以被转印至衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括管芯的部分、一个管芯或若干管芯)上。图案的转印通常经由成像至被设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行。通常，单个衬底将包含被连续地图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻设备包括所谓的步进器和所谓的扫描器，在所述步进器中通过一次将整个图案曝光到目标部分上来照射每个目标部分，在所述扫描器中通过在给定方向(“扫描”方向)上利用辐射束扫描图案来照射每个目标部分的同时，平行于或反平行于该方向同步扫描衬底。还可以通过将图案压印到衬底上而将图案从图案形成装置转印到衬底。

2、为了监测光刻过程，测量经图案化的衬底的一个或更多个参数。例如，一个或更多个参数可以包括，在经图案化的衬底中或经图案化的衬底上形成的连续本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种对用于在光刻过程中图案化衬底的基本上不规则的图案表示的图案特征进行分组的方法，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述分组至少包括基于与处理性能相关的至少一个处理属性对所述图案特征进行分组。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述至少一个处理属性包括选自以下各项中的一项或更多项：与每个过程特征相对应的一个或更多个过程窗口参数、在衬底水平面处的与每个过程特征相对应的辐射强度分布的图像对数斜率、与每个过程特征相对应的边缘放置误差、与每个过程特征相对应的过程变化带、与每个过程特征相对应的随机边缘放置误差(SEPE)带、与每个过程特征相对应的图像...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种对用于在光刻过程中图案化衬底的基本上不规则的图案表示的图案特征进行分组的方法，所述方法包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述分组至少包括基于与处理性能相关的至少一个处理属性对所述图案特征进行分组。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述至少一个处理属性包括选自以下各项中的一项或更多项：与每个过程特征相对应的一个或更多个过程窗口参数、在衬底水平面处的与每个过程特征相对应的辐射强度分布的图像对数斜率、与每个过程特征相对应的边缘放置误差、与每个过程特征相对应的过程变化带、与每个过程特征相对应的随机边缘放置误差(sepe)带、与每个过程特征相对应的图像对比度、与每个过程特征相对应的辐射强度分布的峰值强度、与每个过程特征相对应的辐射强度分布的积分强度、或与每个过程特征相对应的掩模误差增强因子。

4.根据权利要求2或权利要求3所述的方法，其中，所述分组包括：

5.根据权利要求4所述的方法，其中，第二分组步骤包括应用聚类算法。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述聚类算法包括以下各项中的一项或更多项：k-均值算法、基于密度的噪声应用空间聚类(dbscan)算法、或分层聚类算法。

7.根据权利要求4、5或6所述的方法，其中，第二分组步骤包括应用一个或更多个回归模型和/或回归树。

8.根据权利要求4至7中的任一项所...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏静，V·E·卡拉多，S·G·J·马西森，邹毅，W·L·范米罗，K·W·C·A·范德斯特拉顿，曹佩根，P·D·恩布卢姆，W·T·特尔，K·S·涅恰，R·阿努恩西亚多，H·A·迪伦，A·史拉奇特，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：