【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于诊断生产系统的方法和系统，诸如识别生产系统的系统和子系统级别的功能和性能退化的方法和系统。
技术介绍
1、光刻设备是一种被构造为将期望图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(ic)的制造中。光刻设备可以例如在图案形成装置(例如，掩模)处将图案(通常也称为“设计布局”或“设计”)投影到设置在衬底(例如，晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层上。
2、为了将图案投影到衬底上，光刻设备可以使用电磁辐射。该辐射的波长决定了可以在衬底上形成的特征的最小尺寸。当前使用的典型波长是365nm(i线)、248nm、193nm和13.5nm。与使用例如波长为193nm的辐射的光刻设备相比，使用波长在4nm至20nm的范围内(例如，6.7nm或13.5nm)的极紫外(euv)辐射的光刻设备可以用于在衬底上形成更小的特征。
3、低k1光刻可以用于处理尺寸小于光刻设备的经典分辨率极限的特征。在这样的过程中，分辨率公式可以表示为cd＝k1×λ/na，其中λ是所采用的辐射波长，na是光刻设备中的投影光学器件的数...
【技术保护点】
1.一种用于训练诊断模型的计算机实施方法，所述诊断模型用于诊断生产系统，其中所述生产系统包括多个子系统，
2.根据权利要求1所述的计算机实施方法，其中：
3.一种使用根据权利要求1或权利要求2所述的方法训练的诊断模型诊断受试生产系统的计算机实施诊断方法，所述受试生产系统包括多个子系统，所述诊断方法包括：
4.根据前述权利要求中任一项所述的计算机实施方法，其中所述第二学习模型和所述第一学习模型中的至少一个是代表性学习模型或流形学习模型。
5.根据权利要求4所述的计算机实施方法，其中所述第二学习模型和所述第一学习模型中的至少...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于训练诊断模型的计算机实施方法，所述诊断模型用于诊断生产系统，其中所述生产系统包括多个子系统，
2.根据权利要求1所述的计算机实施方法，其中：
3.一种使用根据权利要求1或权利要求2所述的方法训练的诊断模型诊断受试生产系统的计算机实施诊断方法，所述受试生产系统包括多个子系统，所述诊断方法包括：
4.根据前述权利要求中任一项所述的计算机实施方法，其中所述第二学习模型和所述第一学习模型中的至少一个是代表性学习模型或流形学习模型。
5.根据权利要求4所述的计算机实施方法，其中所述第二学习模型和所述第一学习模型中的至少一个是自动编码器。
6.根据权利要求4所述的计算机实施方法，其中所述第二学习模型和所述第一学习模型中的至少一个将主分量分析应用于输入数据。
7.根据权利要求4所述的计算机实施方法，其中所述第二学习模型和所述第一学习模型中的至少一个是t-分布型随机邻居嵌入。
8.根据权利要求4所述的计算机实施方法，其中所述第二学习模型和所述第一学习模型中的至少一个是均匀流形近似。
9.根据前述权利要求中任一项所述的计算机实施方法，其中所述生产系统是处于先前时间的所述受试生产系统。
10.根据前述权利要求中任一项所述的计算机实施方法，其中诊断所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：E·库利拉吉斯，A·P·根德伯拉，S·S·克德卡，H·罗斯塔米，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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