一种衬底翘曲确定系统，包括：至少三个第一支撑装置和至少三个第二支撑装置，形成被配置为承载衬底的第一和第二衬底支撑区域；致动器，被配置为沿垂直方向移动至少三个第二支撑装置；以及控制器，用于驱动致动器。控制器被配置为确定由致动器施加的力，将...

公开了一种用于确定感兴趣参数在至少一个衬底或其部分之上的空间分布的方法，至少一个衬底已经经受半导体制造工艺，该方法包括：获得描述所述空间分布的预期指纹分量的统计描述以及描述与所述感兴趣参数相关联的预期测量噪声水平的噪声分量；获得与所述感...

一种从存储多个数据集的至少一个数据存储器检取数据的方法，其中每个数据集具有表格数据结构，该方法包括：接收查询，该查询包括语义信息并且从数据存储器请求与语义信息相关联的数据；根据语义信息确定是否可以使用从多个数据集中的一个或多个候选数据集...

公开了一种用于处理衬底的末端执行器，包括底座；夹持本体，包括致动器，该致动器被配置为在第一位置和第二位置之间切换，在该第一位置中，衬底相对于夹持本体固定就位，而在该第二位置中，衬底被释放；引导机构，将夹持本体连接到底座，同时允许夹持本体...

披露一种成像方法，包括：获得与用于捕获图像的光学系统相关的一组初级解卷积核或一组脉冲响应；获得所述图像信号，所述图像信号经受包括至少一个或更多个非等晕成像效应的一个或更多个成像效应；对所述一组初级解卷积核或所述一组脉冲响应执行低秩近似以...

本文描述了产生经修改的模拟轮廓和/或基于经修改的轮廓产生量测量规的方法。一种产生用于测量衬底上的结构的物理特性的量测量规的方法包括：获得(i)与印制于所述衬底上的所述结构的所述物理特性相关联的测量数据，和(ii)所述结构的模拟轮廓的至少...

一种用于辐射系统的激光系统的电光装置，该装置包括：电光元件，该电光元件具有第一表面和第二表面，该电光元件由对激光系统产生的激光束光学透明的材料形成；和抗反射结构，该抗反射结构由电光元件的第一表面和第二表面中的至少一者上的材料形成，该抗反...

公开了一种通过训练第二模型来更新第一模型的方法，第一模型与第一工艺范围相关，并且使用与第一结构集相关的第一测量信号集来训练。该方法包括：获得第二测量信号集，该第二测量信号集与包括所述第一结构集或其子集的第二结构集相关；以及使用所述第二测...

一种设备，所述设备包括多层结构，该多层结构被配置为反射电磁辐射。该设备包括传感器，该传感器被配置为检测电磁辐射在从多层结构反射之后的角分布。该设备包括处理器，该处理器被配置为至少部分地基于传感器所检测到的电磁辐射的角分布来生成第一函数。...

提供了用于将带电粒子束装置中的晶片(604；904)接地的系统和方法。该系统和方法包括在晶片上的背面膜(608；908)中提供足够大小的排除区域(613；911)，以允许晶片与带电粒子束装置的电触头(612；912)之间进行电连接。该系...

描述了一种将图案形成装置与衬底进行空间对准的方法，其中，所述图案形成装置和所述衬底由包括一个或更多个可移动光学部件的光学路径分开，所述方法包括：‑执行多次对准测量，其中对于每次对准测量，所述可移动光学部件被布置在对应的预定位置中，‑组合...

一种真空腔系统包括：支撑结构，被配置为支撑待热稳定的物体；板，具有面向物体的第一表面，当物体被放置在支撑结构上时，该板被定位为使得第一表面位于距物体的预定距离内，该板与热传导源热耦合；以及腔，其包围支撑结构和板。

一种生成用于图案化过程的特征图案和训练机器学习模型的方法。用于生成特征图案的方法包括：获得经训练的生成器模型和输入图案，该经训练的生成器模型被配置为生成特征图案(例如热点图案)；以及经由经训练的生成器模型(例如CNN)的模拟，基于输入图...

一种制造用于EUV光刻术的隔膜组件的方法，所述方法包括：提供包括平坦衬底和至少一个隔膜层的叠层，其中所述平坦衬底包括内部区域和围绕所述内部区域的边界区域；以及选择性地移除所述平坦衬底的所述内部区域。所述隔膜组件包括：由所述至少一个隔膜层...

用于为与带电粒子束系统的样品相关联的缺陷检测和缺陷位置分仓提供束的装置、系统和方法。图像分析的方法可以包括获得样品的图像，标识在样品的图像中捕获的特征，根据所标识的特征的设计布局生成模板图像，将样品的图像与模板图像进行比较，以及基于比较...

一种宽带辐射装置，包括：脉冲整形器，所述脉冲整形器被配置成将时间型廓施加在输入泵浦脉冲上以产生时间调制泵浦脉冲，所述时间调制泵浦脉冲具有与所述输入泵浦脉冲不同的时间型廓；和中空芯部光子晶体光纤（HC‑PCF），所述中空芯部光子晶体光纤具...

公开了一种用于对光刻设备总体中的特定光刻设备进行光刻设备设置校准和/或漂移校正的方法，光刻设备总体将在用于制造跨衬底上多个层延伸的集成电路的制造工艺中使用。该方法包括：针对光刻设备总体中的每个光刻设备和/或多个层中的每个层，确定设备参数...

一种带电粒子设备将带电粒子束沿着束路径朝向样品位置投射。该设备包括：用于操纵束的带电粒子透镜组件、和控制器。透镜组件包括板，每个板具有用于使束路径通过的孔径阵列。板位于沿着束路径的不同板位置处。控制器控制带电粒子设备，使得束的带电粒子在...

描述了选择用于扫描电子显微镜测量和/或其他检查的图案布局的视场（704‑712）的一个或多个列表（700；702）。基于图案布局的图案组和对给定视场的特性的约束项确定候选视场的集合。给定视场的特性包括从给定视场到另一视场的距离和/或给定...

披露用于光刻设备中的第一和第二新颖隔膜。所述第一隔膜包括芯部基板和金属硅酸盐层。所述金属硅酸盐层是所述第一隔膜的最外层。所述第二隔膜包括芯部基板和硅酸钇层。所述硅酸钇层可以是所述隔膜的最外层，或替代地，所述硅酸钇层可以被设置在所述芯部基...