【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本文的描述涉及带电粒子束系统领域，并且更特别地，涉及用于与通过带电粒子束系统检查的样品相关联的缺陷的检测和位置分仓的系统和方法。
技术介绍
1、在集成电路(ic)的制造工艺中，检查未完成或完成的电路部件，以确保它们根据设计制造并且无缺陷。利用光学显微镜的检查系统典型地具有低至几百纳米的分辨率；并且分辨率受到光波长的限制。随着ic部件的物理大小继续减小到低于100纳米或甚至低于10纳米，需要能够比利用光学显微镜的检查系统具有更高分辨率的检查系统。
2、带电粒子(例如，电子)束显微镜，诸如扫描电子显微镜(sem)或透射电子显微镜(tem)，其分辨率能够低至小于纳米，用作具有低于100纳米的检查特征大小的ic部件的实用工具。使用sem，单个初级电子束的电子或多个初级电子束的电子可以聚焦在被检查的晶片的感兴趣位置。初级电子与晶片相互作用，并且可以被反向散射或者可以导致晶片发射次级电子。包括反向散射电子和次级电子的电子束的强度可以基于晶片的内部和外部结构的性质而变化，由此可以指示晶片是否有缺陷。
技术实现思
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1.一种非暂时性计算机可读介质，存储指令集，所述指令集能够由计算设备的一个或多个处理器执行，以使所述计算设备执行用于图像分析的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质，其中生成所述模板图像包括：
3.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质，其中生成所述模板图像还包括：
4.根据权利要求2所述的非暂时性计算机可读介质，其中生成所述位置模板包括：
5.根据权利要求4所述的非暂时性计算机可读介质，其中生成所述位置模板还包括：确定所述一个或多个重复图案的边界坐标。
6.根据权利要求5所...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种非暂时性计算机可读介质，存储指令集，所述指令集能够由计算设备的一个或多个处理器执行，以使所述计算设备执行用于图像分析的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质，其中生成所述模板图像包括：
3.根据权利要求1所述的非暂时性计算机可读介质，其中生成所述模板图像还包括：
4.根据权利要求2所述的非暂时性计算机可读介质，其中生成所述位置模板包括：
5.根据权利要求4所述的非暂时性计算机可读介质，其中生成所述位置模板还包括：确定所述一个或多个重复图案的边界坐标。
6.根据权利要求5所述的非暂时性计算机可读介质，其中所述一个或多个重复图案的所述边界坐标是可配置的。
7.根据权利要求3所述的非暂时性计算机可读介质，其中能够由所述计算设备的所述一个或多个处理器执行的所述指令集使所述计算设备进一步执行索引所述一个或多个重复图案中的所述多个特征的位置。
8.根据权利要求7所述的非暂时性计算机可读介质，其中能够由所述计算设备的所述一个或多个处理器执行的所述指令集使所述计算设备进一步执行存储与所...
【专利技术属性】
技术研发人员：金生程，郭蕴博，张琛，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：
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